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公开(公告)号:CN107112268A
公开(公告)日:2017-08-29
申请号:CN201680005492.0
申请日:2016-01-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67 , C23C16/52 , C23C16/455
Abstract: 公开了用于使用止动器、致动器和发射器/检测器来测量两个部件之间的接近度的设备与方法,所述发射器/检测器使光通过所述致动器中的通路。所述通路提供对光的衰减,所述衰减随部件之间的间隙改变而改变,从而允许对间隙的测量与控制。还描述了使用设备来确定部件的拓扑的方法。
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公开(公告)号:CN107924813B
公开(公告)日:2023-02-17
申请号:CN201680047304.0
申请日:2016-08-16
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/67 , H01L21/205 , H01L21/683
Abstract: 公开一种用于加热衬底的加热装置,所述加热装置具有石墨主体和至少一个加热元件,所述至少一个加热元件包括设置在所述主体内的连续材料区段。也公开了包括所述加热装置的处理腔室。
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公开(公告)号:CN103988286A
公开(公告)日:2014-08-13
申请号:CN201280061409.3
申请日:2012-12-21
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/205
CPC classification number: C23C16/448 , C23C16/44 , C23C16/45551 , C23C16/45563 , C23C16/45574
Abstract: 本发明提供包含狭长壳体的组件,该狭长壳体包含一材料,该材料对在处理腔室中经历的温度下的热膨胀有抗性。至少一个加热元件沿着狭长壳体的纵轴经由开放内部区域延伸,该开放内部区域允许气体流以实质上垂直于纵轴的方向通过加热元件。亦描述了使用加热元件以激发气体前体物种来处理基板的方法。
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公开(公告)号:CN103493179A
公开(公告)日:2014-01-01
申请号:CN201280019433.0
申请日:2012-04-11
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/205
CPC classification number: C23C16/45551 , C23C16/452 , C23C16/45544
Abstract: 本发明提供用于原子层沉积设备的气体分配板,该等气体分配板包括热线或热线单元,该热线或热线单元可经加热以在处理基板时激发气体物种。本发明亦描述使用热线激发气体前体物种来处理基板的方法。
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公开(公告)号:CN103415912A
公开(公告)日:2013-11-27
申请号:CN201280012307.2
申请日:2012-03-01
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/205
CPC classification number: C23C16/45551 , C23C16/45527
Abstract: 本发明提供包括气体分配板的原子层沉积设备及方法,所述气体分配板包含至少一个气体喷射器单元。每一气体喷射器单元包含多个狭长气体喷射器,所述多个狭长气体喷射器包括至少两个第一反应气体喷射器及至少一个第二反应气体喷射器,所述至少两个第一反应气体喷射器围绕所述至少一个第二反应气体喷射器。本发明也提供包括气体分配板的原子层沉积设备及方法,所述气体分配板具有多个气体喷射器单元。
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公开(公告)号:CN107112268B
公开(公告)日:2020-07-31
申请号:CN201680005492.0
申请日:2016-01-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67 , C23C16/52 , C23C16/455
Abstract: 公开了用于使用止动器、致动器和发射器/检测器来测量两个部件之间的接近度的设备与方法,所述发射器/检测器使光通过所述致动器中的通路。所述通路提供对光的衰减,所述衰减随部件之间的间隙改变而改变,从而允许对间隙的测量与控制。还描述了使用设备来确定部件的拓扑的方法。
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公开(公告)号:CN107924813A
公开(公告)日:2018-04-17
申请号:CN201680047304.0
申请日:2016-08-16
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/67 , H01L21/205 , H01L21/683
CPC classification number: C23C16/46 , C23C16/4404 , C23C16/45551
Abstract: 公开一种用于加热衬底的加热装置,所述加热装置具有石墨主体和至少一个加热元件,所述至少一个加热元件包括设置在所述主体内的连续材料区段。也公开了包括所述加热装置的处理腔室。
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