用于原子层沉积的设备与工艺

    公开(公告)号:CN103415912A

    公开(公告)日:2013-11-27

    申请号:CN201280012307.2

    申请日:2012-03-01

    CPC classification number: C23C16/45551 C23C16/45527

    Abstract: 本发明提供包括气体分配板的原子层沉积设备及方法,所述气体分配板包含至少一个气体喷射器单元。每一气体喷射器单元包含多个狭长气体喷射器,所述多个狭长气体喷射器包括至少两个第一反应气体喷射器及至少一个第二反应气体喷射器,所述至少两个第一反应气体喷射器围绕所述至少一个第二反应气体喷射器。本发明也提供包括气体分配板的原子层沉积设备及方法,所述气体分配板具有多个气体喷射器单元。

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