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公开(公告)号：CN107206570A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680007688.3
申请日：2016-01-29
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开大体涉及抛光制品，以及使用抛光制品的化学机械抛光基板的装置和方法。在一些实施方式中，诸如抛光垫的抛光制品包括多个层，其中一个或多个层(即，至少顶层)包括在抛光工艺期间被放置成接触基板的多个纳米纤维。在一个实施方式中，抛光制品包括具有小于约0.032英寸的厚度的层，以及所述层包括具有约10纳米至约200微米的直径的纤维。
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公开(公告)号：CN108326730B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN201810059565.5
申请日：2018-01-22
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开涉及用于CMP应用的薄的塑料抛光用具。本公开内容提供了一种用于抛光基板的方法和设备，包括抛光用具，所述抛光用具包括聚合物片材，所述聚合物片材具有凸起表面纹理，所述凸起表面纹理形成在所述聚合物片材的表面上。根据本公开内容的一个或多个实现方式，已发展出一种不需要研磨衬垫修整的改进的抛光用具。在本公开内容的一些实现方式中，所述改进的抛光用具包括聚合物片材，所述聚合物片材具有抛光表面，所述抛光表面带有形成在所述抛光表面中的凸起表面纹理或“微观特征”和/或多个沟槽或“宏观特征”。在一些实现方式中，所述凸起表面纹理是在抛光系统中安装并且使用所述改进的抛光用具之前被压印、蚀刻、机器加工或以其他方式形成在所述抛光表面中。在一个实现方式中，所述凸起特征具有在抛光期间从所述基板移除的特征的一个量级内的高度。
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公开(公告)号：CN115555982A
公开(公告)日：2023-01-03
申请号：CN202211145611.6
申请日：2016-10-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/013 , G06T11/00 , G06T7/90 , G06T5/00 , G06F3/04847 , H01L21/304 , H01L21/306 , H01L21/66
Abstract: 一种抛光系统，包括：抛光站，包括用以支撑抛光垫的压板；支撑件，用以保持基板；直列计量站，用以在抛光站中抛光基板的表面之前或之后测量基板；及控制器。直列计量站包括彩色线扫描相机；白光源；框架，支撑光源和相机；及马达，用以沿垂直于第一轴线的第二轴线导致在相机和支撑件之间的相对运动，以导致光源和相机横跨基板扫描。控制器经配置以从相机接收颜色数据，从颜色数据产生二维彩色图像，并且基于该彩色图像控制在抛光站处的抛光。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107206570B
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN201680007688.3
申请日：2016-01-29
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开大体涉及抛光制品，以及使用抛光制品的化学机械抛光基板的装置和方法。在一些实施方式中，诸如抛光垫的抛光制品包括多个层，其中一个或多个层(即，至少顶层)包括在抛光工艺期间被放置成接触基板的多个纳米纤维。在一个实施方式中，抛光制品包括具有小于约0.032英寸的厚度的层，以及所述层包括具有约10纳米至约200微米的直径的纤维。
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公开(公告)号：CN108292613B
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN201680064804.5
申请日：2016-10-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/66 , H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 一种抛光系统，包括：抛光站，包括用以支撑抛光垫的压板；支撑件，用以保持基板；直列计量站，用以在抛光站中抛光基板的表面之前或之后测量基板；及控制器。直列计量站包括彩色线扫描相机；白光源；框架，支撑光源和相机；及马达，用以沿垂直于第一轴线的第二轴线导致在相机和支撑件之间的相对运动，以导致光源和相机横跨基板扫描。控制器经配置以从相机接收颜色数据，从颜色数据产生二维彩色图像，并且基于该彩色图像控制在抛光站处的抛光。
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公开(公告)号：CN108326730A
公开(公告)日：2018-07-27
申请号：CN201810059565.5
申请日：2018-01-22
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开涉及用于CMP应用的薄的塑料抛光用具。本公开内容提供了一种用于抛光基板的方法和设备，包括抛光用具，所述抛光用具包括聚合物片材，所述聚合物片材具有凸起表面纹理，所述凸起表面纹理形成在所述聚合物片材的表面上。根据本公开内容的一个或多个实现方式，已发展出一种不需要研磨衬垫修整的改进的抛光用具。在本公开内容的一些实现方式中，所述改进的抛光用具包括聚合物片材，所述聚合物片材具有抛光表面，所述抛光表面带有形成在所述抛光表面中的凸起表面纹理或“微观特征”和/或多个沟槽或“宏观特征”。在一些实现方式中，所述凸起表面纹理是在抛光系统中安装并且使用所述改进的抛光用具之前被压印、蚀刻、机器加工或以其他方式形成在所述抛光表面中。在一个实现方式中，所述凸起特征具有在抛光期间从所述基板移除的特征的一个量级内的高度。
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公开(公告)号：CN108292613A
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201680064804.5
申请日：2016-10-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/66 , H01L21/304 , H01L21/306
CPC classification number: G06T7/0006 , B24B37/013 , G06F3/04842 , G06F3/04847 , G06F3/0486 , G06T5/002 , G06T5/50 , G06T7/0004 , G06T2207/10024 , G06T2207/20024 , G06T2207/20216 , G06T2207/30148 , H04N9/04
Abstract: 一种抛光系统，包括：抛光站，包括用以支撑抛光垫的压板；支撑件，用以保持基板；直列计量站，用以在抛光站中抛光基板的表面之前或之后测量基板；及控制器。直列计量站包括彩色线扫描相机；白光源；框架，支撑光源和相机；及马达，用以沿垂直于第一轴线的第二轴线导致在相机和支撑件之间的相对运动，以导致光源和相机横跨基板扫描。控制器经配置以从相机接收颜色数据，从颜色数据产生二维彩色图像，并且基于该彩色图像控制在抛光站处的抛光。
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公开(公告)号：CN208945894U
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201820105135.8
申请日：2018-01-22
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开涉及用于CMP应用的薄的塑料抛光用具。本公开内容提供了一种用于抛光基板的方法和设备，包括抛光用具，所述抛光用具包括聚合物片材，所述聚合物片材具有凸起表面纹理，所述凸起表面纹理形成在所述聚合物片材的表面上。根据本公开内容的一个或多个实现方式，已发展出一种不需要研磨衬垫修整的改进的抛光用具。在本公开内容的一些实现方式中，所述改进的抛光用具包括聚合物片材，所述聚合物片材具有抛光表面，所述抛光表面带有形成在所述抛光表面中的凸起表面纹理或“微观特征”和/或多个沟槽或“宏观特征”。在一些实现方式中，所述凸起表面纹理是在抛光系统中安装并且使用所述改进的抛光用具之前被压印、蚀刻、机器加工或以其他方式形成在所述抛光表面中。在一个实现方式中，所述凸起特征具有在抛光期间从所述基板移除的特征的一个量级内的高度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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