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公开(公告)号：CN109073994A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780027088.8
申请日：2017-07-19
Applicant: 应用材料公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本文公开的实施方式总体涉及一种用于使光均匀的光管或万花筒式光管，使得一旦光离开光管，光就是均匀的。通过在所述光管内反射光，光均匀性得以提高。在一个实施方式中，提供一种用于图像投影设备的光管。所述光管包括拉长的矩形主体，所述拉长的矩形主体具有在所述拉长的矩形主体内提供全内反射的折射率。所述拉长的矩形主体具有输入面，所述输入面用于接受光进入所述拉长的矩形主体。所述输入面大体上正交于所述拉长的矩形主体的纵向轴线设置。所述拉长的矩形主体具有输出面，所述输出面用于从所述拉长的矩形主体释放光。所述输出面大体上正交于所述纵向轴线设置。所述拉长的矩形主体具有沿着所述纵向轴线的扭转。
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公开(公告)号：CN101369526B
公开(公告)日：2012-03-07
申请号：CN200810210473.9
申请日：2008-08-15
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/00 , H01L21/268
CPC classification number: H01L21/67109 , H01L21/6719 , H01L21/67201 , H01L21/67745 , H01L21/67748
Abstract: 本发明的实施方式提供了用于退火半导体衬底的方法和装置。本发明的一个实施方式提供了包括设置成用于支撑衬底的第一衬底支架、设置成用于支撑衬底的第二衬底支架、连接到第一衬底支架并设置成在处理区和第一加载区之间移动第一衬底支架的梭，其中处理区具有设置成交替容纳第一衬底支架和第二衬底支架的处理体积。
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公开(公告)号：CN101065829B
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN200580040288.4
申请日：2005-10-12
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67115
Abstract: 一种热处理衬底的设备包括具有沿着慢轴排列的多个激光二极管的激光辐射源、将来自源的激光辐射定向到衬底的镜片，以及沿着垂直于慢轴的快轴排列并接收从衬底反射通过镜片的部分激光辐射的光电探测器阵列。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101065649B
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN200580040289.9
申请日：2005-10-12
Applicant: 应用材料公司
IPC: G01J5/06 , B23K26/03 , B23K26/073
CPC classification number: G02B5/281 , G01J5/06 , H01S5/005 , H01S5/4012
Abstract: 一种热处理系统包括以激光波长发射的激光辐射源、设置在反射表面和能容纳待处理衬底的衬底支架之间的光束投射光学装置、响应于高温计波长的高温计，以及波长响应光学元件，该光学元件具有用于在包括激光波长的第一波长范围内的光的第一光学路径，第一光学路径位于激光辐射源和光束投射光学装置之间，以及具有用于在包括高温计波长的第二光学范围内的光的第二光学路径，第二光学路径位于光束投射光学装置和高温计之间。该系统可进一步包括在激光辐射源和波长响应光学元件之间的高温计波长阻挡滤波器。
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公开(公告)号：CN101678507A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880020796.X
申请日：2008-05-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 吉萍·李 , 布鲁斯·E·亚当斯 , 蒂莫西·N·托马斯 , 亚伦·缪尔·亨特 , 阿比拉什·J·玛雨尔 , 拉杰什·S·拉玛努詹姆
IPC: B23K26/04
CPC classification number: B23K26/0665 , B23K26/03 , B23K26/032 , B23K26/034 , B23K26/18 , B23K2101/40
Abstract: 在用于诸如半导体晶片的工件的激光退火系统中，高温计波长响应波段建立在位于激光发射波段与来自激光器系统的光学组件的荧光发射波段之间的窄的窗口内，高温计响应波段位于工件上的光学吸收器层在该处具有等于或大于下层工件的光学吸收系数的波长范围内。具有5-8nm波长的截止边缘跃变的多层剃刀边缘干涉滤波器提供在高温计响应波段的底部末端的激光发射的截止。
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公开(公告)号：CN116057447A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202180062574.X
申请日：2021-09-10
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 蒂莫西·N·托马斯 , 罗伯特·乔丹·里尔 , 道格拉斯·E·霍姆格伦 , 阿萨夫·基德龙 , 奈杰尔·斯韦拉
IPC: G02B26/08
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及用于数字光刻系统的数字微镜装置的安装设备和安装数字微镜装置的方法。在此描述的安装设备保持空间光调制器，例如DMD。安装设备通过提供力使得一对接触垫接触DMD来使得DMD能够平坦化。DMD位于安装设备的安装框架中。安装框架的接触垫能操作为向DMD施加压力。
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公开(公告)号：CN101678507B
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN200880020796.X
申请日：2008-05-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 吉萍·李 , 布鲁斯·E·亚当斯 , 蒂莫西·N·托马斯 , 亚伦·缪尔·亨特 , 阿比拉什·J·玛雨尔 , 拉杰什·S·拉玛努詹姆
IPC: B23K26/04
CPC classification number: B23K26/0665 , B23K26/03 , B23K26/032 , B23K26/034 , B23K26/18 , B23K2101/40
Abstract: 在用于诸如半导体晶片的工件的激光退火系统中，高温计波长响应波段建立在位于激光发射波段与来自激光器系统的光学组件的荧光发射波段之间的窄的窗口内，高温计响应波段位于工件上的光学吸收器层在该处具有等于或大于下层工件的光学吸收系数的波长范围内。具有5-8nm波长的截止边缘跃变的多层剃刀边缘干涉滤波器提供在高温计响应波段的底部末端的激光发射的截止。
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公开(公告)号：CN103441179A
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN201310289184.3
申请日：2005-10-12
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L31/08 , H01L31/0232
CPC classification number: H01L21/67115
Abstract: 本发明涉及一种用于基于退火系统的高功率激光二极管的自动聚焦装置。一种热处理衬底的设备包括具有沿着慢轴排列的多个激光二极管的激光辐射源、将来自源的激光辐射定向到衬底的镜片，以及沿着垂直于慢轴的快轴排列并接收从衬底反射通过镜片的部分激光辐射的光电探测器阵列。
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