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公开(公告)号：CN104380194A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201380031543.3
申请日：2013-04-15
Applicant: 布鲁尔科技公司
IPC: G03F1/38 , H01L21/027
CPC classification number: B81C1/0038 , B81B1/00 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , G03F7/0002 , G03F7/26 , H01L21/02126 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , H01L21/0332 , H01L21/0337 , H01L21/31144 , Y10T428/24612 , Y10T428/24802 , G03F1/38 , H01L21/0274
Abstract: 提供了用于导向自组装图案化技术的组合物，其在工艺中无需独立的减反射涂层和刷中性层。还提供导向自组装的方法，其中可将自组装材料，例如导向自组装嵌段共聚物,直接施涂到硅硬掩模中性层，然后自组装以形成所需的图案。本文还批露了导向自组装图案化的结构。
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公开(公告)号：CN103975418A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201280060464.0
申请日：2012-10-10
Applicant: 布鲁尔科技公司
IPC: H01L21/20 , H01L21/027 , H01L21/205
CPC classification number: B32B33/00 , B32B9/04 , B32B2255/26 , B32B2307/70 , B32B2379/08 , C08G73/00 , C08G73/1067 , C08G73/1075 , C08G73/1078 , C09D179/08 , G03F7/094 , H01L21/0332 , H01L21/3081 , Y10T428/24802 , Y10T428/24851 , Y10T428/30 , Y10T428/31623 , Y10T428/31667 , Y10T428/31681 , Y10T428/31721
Abstract: 本发明涉及旋涂碳材料，其包括在溶剂系统中的聚酰胺酸组合物和交联剂。所述材料可用于三层照相平版印刷工艺。用发明性组合物制备的膜不溶于常用于平版印刷材料的溶剂，例如但不限于，PGME、PGMEA和环己酮。但是，所述膜可溶于照相平版印刷中常用的显影剂。在一种实施方式中，可在高温下加热膜，以改善用于高温加工的热稳定性。与实施方式无关，所述材料可施涂至平坦的/平面表面或者图案化表面。优选地，在使用氟碳蚀刻把图案转移至硅基片时，所述材料呈现抗扭曲性。
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公开(公告)号：CN115053335A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202080074881.5
申请日：2020-10-26
Applicant: 布鲁尔科技公司
IPC: H01L21/768 , H01L21/02 , H01L21/31 , H01L21/033
Abstract: 本发明提供了用于用作可湿法去除硅间隙填充层的光刻组合物。使用这些组合物的方法在基材的形貌特征上使用硅间隙填充层。硅间隙填充层可以直接施加至基材，也可以应用于任何可施加至基材的中间层。优选的硅间隙填充层由具有高硅含量的可旋涂聚合物组合物形成，并且这些层呈现出良好的间隙填充和平面化性能以及高耐氧蚀刻性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104380194B
公开(公告)日：2019-05-31
申请号：CN201380031543.3
申请日：2013-04-15
Applicant: 布鲁尔科技公司
IPC: G03F1/38 , H01L21/027
CPC classification number: B81C1/0038 , B81B1/00 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , G03F7/0002 , G03F7/26 , H01L21/02126 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , H01L21/0332 , H01L21/0337 , H01L21/31144 , Y10T428/24612 , Y10T428/24802
Abstract: 提供了用于导向自组装图案化技术的组合物，其在工艺中无需独立的减反射涂层和刷中性层。还提供导向自组装的方法，其中可将自组装材料，例如导向自组装嵌段共聚物,直接施涂到硅硬掩模中性层，然后自组装以形成所需的图案。本文还批露了导向自组装图案化的结构。
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公开(公告)号：CN112368645A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201980039710.6
申请日：2019-06-12
Applicant: 布鲁尔科技公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/02 , G03F7/32 , G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 提供了用作EUV粘附层的新型光刻组合物。本发明提供了使用那些组合物制造微电子结构的方法以及由那些方法所形成的结构。方法涉及在紧邻光刻胶层下方使用粘附层。粘附层可以直接施加于基材，或者也可以施加于可能施加到基材的中间层，例如α‑碳、旋涂碳、旋涂硅硬掩模、金属硬掩模、或沉积的硅层。优选的粘附层由可旋涂的聚合组合物形成。本发明的方法改善粘附性并降低或消除图案崩塌的问题。
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公开(公告)号：CN100435026C
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN03815198.7
申请日：2003-06-18
Applicant: 布鲁尔科技公司
CPC classification number: C08G79/10 , C08G79/00 , C08L85/00 , G03F7/091 , Y10S430/106 , Y10S430/11 , Y10S430/111 , Y10S430/151
Abstract: 提供抗反射组合物以及使用这些组合物形成电路的方法。所述组合物包含溶解或分散在溶剂体系中的聚合物。在一个优选实施方案中，组合物的聚合物包含式(I)的重复单元，其中，X是光衰减部分，M是金属，R各自独立地选自氢、烷基、芳基、烷氧基和苯氧基。制得的组合物是适于自旋辊筒的(即，在微版印刷法的烘烤阶段之前或在室温的储存期间不发生交联)，可显影的，并具有优良的光学性能。
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公开(公告)号：CN112368645B
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN201980039710.6
申请日：2019-06-12
Applicant: 布鲁尔科技公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/02 , G03F7/32 , G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 提供了用作EUV粘附层的新型光刻组合物。本发明提供了使用那些组合物制造微电子结构的方法以及由那些方法所形成的结构。方法涉及在紧邻光刻胶层下方使用粘附层。粘附层可以直接施加于基材，或者也可以施加于可能施加到基材的中间层，例如α‑碳、旋涂碳、旋涂硅硬掩模、金属硬掩模、或沉积的硅层。优选的粘附层由可旋涂的聚合组合物形成。本发明的方法改善粘附性并降低或消除图案崩塌的问题。
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公开(公告)号：CN103975418B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201280060464.0
申请日：2012-10-10
Applicant: 布鲁尔科技公司
IPC: H01L21/20 , H01L21/027 , H01L21/205
CPC classification number: B32B33/00 , B32B9/04 , B32B2255/26 , B32B2307/70 , B32B2379/08 , C08G73/00 , C08G73/1067 , C08G73/1075 , C08G73/1078 , C09D179/08 , G03F7/094 , H01L21/0332 , H01L21/3081 , Y10T428/24802 , Y10T428/24851 , Y10T428/30 , Y10T428/31623 , Y10T428/31667 , Y10T428/31681 , Y10T428/31721
Abstract: 本文所述的发明涉及旋涂碳材料，其包括在溶剂系统中的聚酰胺酸组合物和交联剂。所述材料可用于三层照相平版印刷工艺。用发明性组合物制备的膜不溶于常用于平版印刷材料的溶剂，例如但不限于，PGME、PGMEA和环己酮。但是，所述膜可溶于照相平版印刷中常用的显影剂。在一种实施方式中，可在高温下加热膜，以改善用于高温加工的热稳定性。与实施方式无关，所述材料可施涂至平坦的/平面表面或者图案化表面。优选地，在使用氟碳蚀刻把图案转移至硅基片时，所述材料呈现抗扭曲性。
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