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公开(公告)号：CN101802711B
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN200880101360.3
申请日：2008-07-28
Applicant: 布鲁尔科技公司
IPC: G03F7/11 , G03F7/16 , C08F212/04 , C08F236/06 , C08F220/10
CPC classification number: G03F7/091 , C08F212/14 , C08F220/14 , C08F220/18 , C08F220/26 , C08F220/34 , C08F220/56 , C08F226/06 , G03F7/11 , Y10T428/31678 , Y10T428/31855 , Y10T428/31935
Abstract: 本发明描述使用非共价交联的树脂涂层用于光刻应用的组合物和方法。这些材料设计用来在涂覆之后经历一种变化，从而提供耐溶剂性，以及为一些材料同时提供水基可溶性。非共价相互作用使得与共价交联的材料相比能够更容易地去除这些涂层。这些种类的材料非常适合于沟槽填充和缝隙填充应用，还适合于减反射涂层、旋涂碳层和蚀刻掩模。
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公开(公告)号：CN100435026C
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN03815198.7
申请日：2003-06-18
Applicant: 布鲁尔科技公司
CPC classification number: C08G79/10 , C08G79/00 , C08L85/00 , G03F7/091 , Y10S430/106 , Y10S430/11 , Y10S430/111 , Y10S430/151
Abstract: 提供抗反射组合物以及使用这些组合物形成电路的方法。所述组合物包含溶解或分散在溶剂体系中的聚合物。在一个优选实施方案中，组合物的聚合物包含式(I)的重复单元，其中，X是光衰减部分，M是金属，R各自独立地选自氢、烷基、芳基、烷氧基和苯氧基。制得的组合物是适于自旋辊筒的(即，在微版印刷法的烘烤阶段之前或在室温的储存期间不发生交联)，可显影的，并具有优良的光学性能。
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公开(公告)号：CN1739063B
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN200380104562.0
申请日：2003-10-07
Applicant: 布鲁尔科技公司
CPC classification number: G03F7/091 , C09B69/00 , Y10S430/111 , Y10T428/31511 , Y10T428/31515
Abstract: 提供一种新颖的减反射涂层，其包含替代高分子量的聚合物的小分子(如小于约5000g/mol)，以及使用这些涂层的方法。在一个实施方式中，使用芳族羧酸作为发色团，形成的化合物与交联剂和酸混合。本发明方法制备的减反射涂层膜与高分子量聚合物减反射涂层膜相比改善了性能。小分子减反射涂层具有高蚀刻速率和良好的通孔填充性能。用本发明材料进行光刻工艺可形成独立的110nm的外形。
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公开(公告)号：CN101802711A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200880101360.3
申请日：2008-07-28
Applicant: 布鲁尔科技公司
IPC: G03F7/11 , G03F7/16 , C08F212/04 , C08F236/06 , C08F220/10
CPC classification number: G03F7/091 , C08F212/14 , C08F220/14 , C08F220/18 , C08F220/26 , C08F220/34 , C08F220/56 , C08F226/06 , G03F7/11 , Y10T428/31678 , Y10T428/31855 , Y10T428/31935
Abstract: 本发明描述使用非共价交联的树脂涂层用于光刻应用的组合物和方法。这些材料设计用来在涂覆之后经历一种变化，从而提供耐溶剂性，以及为一些材料同时提供水基可溶性。非共价相互作用使得与共价交联的材料相比能够更容易地去除这些涂层。这些种类的材料非常适合于沟槽填充和缝隙填充应用，还适合于减反射涂层、旋涂碳层和蚀刻掩模。
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