-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118131568A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410115864.1
申请日：2024-01-26
Applicant: 安徽工程大学
Abstract: 本发明涉及提拉法涂胶技术领域，具体涉及一种基于提拉法涂胶的装置及其使用方法，包括实验桌，其顶部设有提拉机构、调平机构、光刻胶容器、辅助曝光机构和工业机器人，所述提拉机构的工作端上设有滚动压印模具，所述提拉机构的一侧设有调平机构，所述调平机构的顶部固设有光刻胶容器，所述光刻胶容器位于所述滚动压印模具的底部，所述辅助曝光机设置在所述调平机构远离所述提拉机构的一侧，至少一个工业机器人设置在所述调平机构的旁侧，所述工业机器人固设在所述实验桌上，本发明可以更好的实现提拉法涂胶，同时自动化程度高，节约了人力成本，具有强大的机构之间的联合工作关系，工作效率高，具有良好适应性。
-
公开(公告)号：CN119805877A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202510140462.1
申请日：2025-02-08
Applicant: 安徽工程大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及DMD器件成像曝光技术领域，特别是涉及一种基于曲率动态模糊曝光技术提高DMD数字光刻平滑度的方法，包括：选定待处理曝光图像；对所述待处理曝光图像进行分割，获取若干子图像；计算所述子图像的斜率，并基于所述斜率设计位移路径；基于所述位移路径计算所述子图像的局部膨胀，并对所述子图像进行预处理；对预处理后的子图像进行曝光，获取完整的曝光图像。本发明可以有效地曝光高保真度的复杂图像。
-
公开(公告)号：CN117406548A
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202311313726.6
申请日：2023-10-11
Applicant: 安徽工程大学
Abstract: 本发明涉及微电子制造技术领域，具体涉及一种基于改进遗传算法的光刻掩膜的优化方法，为解决掩膜优化采用传统的遗传算法有时会陷入局部最优解的技术问题。该优化方法包括获取初始掩膜图像和目标图像；定义光刻仿真函数，计算传递函数；对初始掩膜进行霍普金斯光刻仿真，获取光刻后的仿真图像，计算仿真图像与目标图像的图形偏差PE；生成初始解，对仿真图像进行优化；进行选择操作；进行交叉操作，交换父代个体的基因段；进行变异操作，为遗传算法搜索过程引入随机扰动；使用遗传算法进行掩膜优化；输出优化后的掩膜，并进行霍普金斯光刻仿真，计算图形偏差PE；保存优化后的掩膜图像；绘制适应度值的变化并显示相关图像。
-
公开(公告)号：CN221551069U
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202323620647.8
申请日：2023-12-29
Applicant: 安徽工程大学
Abstract: 本实用新型公开了一种DMD光刻设备用高稳定反光镜，其涉及DMD光刻设备技术领域，旨在解决现有的反光镜在经过长时间的工作后，镜片容易出现松动，进而容易出现位置变化，在进行位置复位修正时，需要进行大量的拆卸工作，操作不便，实用性有待提高的问题，其技术方案要点包括第一基座，所述第一基座的两端分别一体连接有一个第二基座，所述第二基座的内壁上固定安装有多个安装座，所述安装座的安装槽内固定安装有镜片，所述镜片的外部包裹有密封气囊，所述密封气囊的外部设置有调节腔，所述第二基座的侧表面上一体连接有多个检测座，所述检测座与调节腔的数量以及位置均一一对应。达到了能灵活便捷的对松动的镜片进行复位修正，实用性高的效果。
-
公开(公告)号：CN221551070U
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202323620653.3
申请日：2023-12-29
Applicant: 安徽工程大学
IPC: G03F7/20 , H01L21/677
Abstract: 本实用新型公开了一种DMD光刻设备用硅片转移机构，其涉及DMD光刻设备技术领域，旨在解决现有的硅片转移机构只是简单的对硅片进行托举移动，在移动的过程中缺乏硅片位置稳固结构，硅片转移稳定性有待提高的问题，其技术方案要点包括移动机构，所述移动机构的移动端旋转连接有硅片移动器，所述硅片移动器的上表面上通过胶水粘贴有防静电橡胶垫，所述防静电橡胶垫的上表面上设置有多个凸起条状结构，所述硅片移动器的内部设置为中空结构，所述硅片移动器的上表面以及防静电橡胶垫的外表面上均设置有多个位置对应的吸气孔，所述硅片移动器的一端旋转连接有活动臂。达到了能稳定高效的转移硅片的效果。
-
-
-
-
Search Results
5
records
(took 0.017 seconds)
