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公开(公告)号：CN114895389A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202210458849.8
申请日：2022-04-25
Applicant: 安徽工程大学
Abstract: 本发明涉及光学成像领域，具体是一种柔性制作多焦点微透镜阵列结构的方法，步骤如下：制作三种数字掩模版；在衬底上旋涂一层负性光刻胶，用一号掩模版进行第一次无掩模曝光，曝光显影得到初步的结构；在第一层光刻胶上旋涂第二层光刻胶，基于二号掩模版进行第二次曝光显影；在第二层光刻胶上选图第三层光刻胶，基于三号掩模版进行第三次曝光显影，得到具有三种不同厚度的多层微柱结构；对多层微柱结构进行热回流工艺处理，封装热回流后的球面微透镜得到多焦点微透镜阵列结构；本发明具有工艺操作简单、成本低等优点，能够满足大景深要求。
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公开(公告)号：CN115128911A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202210766399.9
申请日：2022-06-30
Applicant: 安徽工程大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种微透镜面型动态调控优化控制方法，该方法包括以下步骤：输入目标轮廓方程和初始曝光剂量；进行曝光模拟，确定溶解速率分布；进行显影工艺模拟，确定最佳显影时间；判断是否满精度要求，若未达到精度要求，则进行程序优化直到达到所需精度；重复以上步骤，找到不同焦点处的最小误差，输出最优参数组合，实现微透镜三维面型的精细调控。本发明不仅节约了设计时间，还提高了目标结构的制造精度和质量。
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公开(公告)号：CN117192913B
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN202311165016.3
申请日：2023-09-11
Applicant: 安徽工程大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及DMD器件成像曝光技术领域，尤其涉及一种基于三维移动曝光提高光刻分辨率的系统及方法，通过光刻中三维移动平台的纳米级距离的反复微移动填补DMD像素间隙，从而消减DMD像素量化误差，实现提高曝光图形轮廓的边缘平滑度，提高分辨率，并且通过三维移动平台不同的移动距离和不同的移动路线达到不同程度的优化结果。与子图叠加光刻相比，整个过程更加便捷灵活，与普通的非子图叠加光刻相比，曝光后图形轮廓的边缘光滑度要更加平滑。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117406548A
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202311313726.6
申请日：2023-10-11
Applicant: 安徽工程大学
Abstract: 本发明涉及微电子制造技术领域，具体涉及一种基于改进遗传算法的光刻掩膜的优化方法，为解决掩膜优化采用传统的遗传算法有时会陷入局部最优解的技术问题。该优化方法包括获取初始掩膜图像和目标图像；定义光刻仿真函数，计算传递函数；对初始掩膜进行霍普金斯光刻仿真，获取光刻后的仿真图像，计算仿真图像与目标图像的图形偏差PE；生成初始解，对仿真图像进行优化；进行选择操作；进行交叉操作，交换父代个体的基因段；进行变异操作，为遗传算法搜索过程引入随机扰动；使用遗传算法进行掩膜优化；输出优化后的掩膜，并进行霍普金斯光刻仿真，计算图形偏差PE；保存优化后的掩膜图像；绘制适应度值的变化并显示相关图像。
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公开(公告)号：CN115128911B
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202210766399.9
申请日：2022-06-30
Applicant: 安徽工程大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种微透镜面型动态调控优化控制方法，该方法包括以下步骤：输入目标轮廓方程和初始曝光剂量；进行曝光模拟，确定溶解速率分布；进行显影工艺模拟，确定最佳显影时间；判断是否满精度要求，若未达到精度要求，则进行程序优化直到达到所需精度；重复以上步骤，找到不同焦点处的最小误差，输出最优参数组合，实现微透镜三维面型的精细调控。本发明不仅节约了设计时间，还提高了目标结构的制造精度和质量。
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公开(公告)号：CN117192913A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311165016.3
申请日：2023-09-11
Applicant: 安徽工程大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及DMD器件成像曝光技术领域，尤其涉及一种基于三维移动曝光提高光刻分辨率的系统及方法，通过光刻中三维移动平台的纳米级距离的反复微移动填补DMD像素间隙，从而消减DMD像素量化误差，实现提高曝光图形轮廓的边缘平滑度，提高分辨率，并且通过三维移动平台不同的移动距离和不同的移动路线达到不同程度的优化结果。与子图叠加光刻相比，整个过程更加便捷灵活，与普通的非子图叠加光刻相比，曝光后图形轮廓的边缘光滑度要更加平滑。
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公开(公告)号：CN221551070U
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202323620653.3
申请日：2023-12-29
Applicant: 安徽工程大学
IPC: G03F7/20 , H01L21/677
Abstract: 本实用新型公开了一种DMD光刻设备用硅片转移机构，其涉及DMD光刻设备技术领域，旨在解决现有的硅片转移机构只是简单的对硅片进行托举移动，在移动的过程中缺乏硅片位置稳固结构，硅片转移稳定性有待提高的问题，其技术方案要点包括移动机构，所述移动机构的移动端旋转连接有硅片移动器，所述硅片移动器的上表面上通过胶水粘贴有防静电橡胶垫，所述防静电橡胶垫的上表面上设置有多个凸起条状结构，所述硅片移动器的内部设置为中空结构，所述硅片移动器的上表面以及防静电橡胶垫的外表面上均设置有多个位置对应的吸气孔，所述硅片移动器的一端旋转连接有活动臂。达到了能稳定高效的转移硅片的效果。
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公开(公告)号：CN221551069U
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202323620647.8
申请日：2023-12-29
Applicant: 安徽工程大学
Abstract: 本实用新型公开了一种DMD光刻设备用高稳定反光镜，其涉及DMD光刻设备技术领域，旨在解决现有的反光镜在经过长时间的工作后，镜片容易出现松动，进而容易出现位置变化，在进行位置复位修正时，需要进行大量的拆卸工作，操作不便，实用性有待提高的问题，其技术方案要点包括第一基座，所述第一基座的两端分别一体连接有一个第二基座，所述第二基座的内壁上固定安装有多个安装座，所述安装座的安装槽内固定安装有镜片，所述镜片的外部包裹有密封气囊，所述密封气囊的外部设置有调节腔，所述第二基座的侧表面上一体连接有多个检测座，所述检测座与调节腔的数量以及位置均一一对应。达到了能灵活便捷的对松动的镜片进行复位修正，实用性高的效果。
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