-
公开(公告)号:CN119805877A
公开(公告)日:2025-04-11
申请号:CN202510140462.1
申请日:2025-02-08
Applicant: 安徽工程大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及DMD器件成像曝光技术领域,特别是涉及一种基于曲率动态模糊曝光技术提高DMD数字光刻平滑度的方法,包括:选定待处理曝光图像;对所述待处理曝光图像进行分割,获取若干子图像;计算所述子图像的斜率,并基于所述斜率设计位移路径;基于所述位移路径计算所述子图像的局部膨胀,并对所述子图像进行预处理;对预处理后的子图像进行曝光,获取完整的曝光图像。本发明可以有效地曝光高保真度的复杂图像。