一种LED外延结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN107768494B

    公开(公告)日:2020-04-03

    申请号:CN201710886241.4

    申请日:2017-09-27

    IPC分类号: H01L33/20 H01L33/00

    摘要: 本发明属于半导体技术领域,具体涉及一种LED外延结构及其制备方法,本发明在电子阻挡层与最后势垒层之间插入复数个氮化镁化合物成核结构,并以此成核结构为核心,生长复数个岛状结构,以减少光在电子阻挡层与最后势垒层界面处的全反射现象,使从多量子阱发光层发出的光更多的进入电子阻挡层,进而提高LED外延结构的出光效率,并通过电子阻挡层填平岛状结构,继而得到一表面平整的LED外延结构。

    一种发光二极管的制备方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108321270A

    公开(公告)日:2018-07-24

    申请号:CN201810086594.0

    申请日:2018-01-30

    IPC分类号: H01L33/22 H01L33/12 H01L33/00

    摘要: 本发明属于半导体领域,尤其涉及一种发光二极管的制备方法,包括于衬底上依次生长缓冲层、碳化温度为C1的材料微粒、PVD法生长的AlN层、生长温度为C2的过渡层、以及生长温度为C3的第一导电型半导体层、发光层、第二导电型半导体层的步骤,其中C3>C1>C2,材料微粒在生长过渡层未碳化,而在生长第一导电型半导体层时,其在高温下碳化,从而在缓冲层和AlN层之间形成反射和折射光的孔洞,减小发光二极管的吸光,进一步增强发光效率。

    一种氮化镓基发光二极管结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN106784204B

    公开(公告)日:2019-01-18

    申请号:CN201611187790.4

    申请日:2016-12-21

    摘要: 一种氮化镓基发光二极管结构,依次包括衬底、底层、N型层、发光层和P型层,其特征在于:所述P型层由电子阻挡层、至少一层能带变形层和空穴注入层组成,所述能带变形层插入于电子阻挡层之内或位于电子阻挡层与空穴注入层之间或插入于空穴注入层之内或位于空穴注入层之上;所述能带变形层为碳杂质含量不高于5×1016cm‑3的非P型层;所述低碳杂质含量使得能带变形层的能带弯曲,增加能带变形层与相邻层的接触界面上二维空穴气浓度。