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公开(公告)号：CN100418185C
公开(公告)日：2008-09-10
申请号：CN200310103884.5
申请日：2003-11-18
Applicant: 大日本网目版制造株式会社 , 株式会社神户制钢所
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , B08B3/00
CPC classification number: H01L21/67051 , G11B7/261 , G11B7/265 , H01L21/67028 , Y10S134/902
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统。可使基板无损坏地顺利实行由湿式处理到干燥处理一系列处理。在显像处理单元(10A、10B)中对基板W顺序进行显像处理、冲洗处理和置换处理后，在该基板(W)由干燥防止液润湿的状态下，由主自动输送装置(30)湿式输送到超临界干燥单元(20)。由此超临界干燥单元(20)单独进行高压干燥处理(超临界干燥处理)。因此，不用限定显像处理可用的显像液种类，不会产生超临界干燥单元(20)的压力容器(202)内的腐蚀等问题，就可进行由显像处理到高压干燥处理的一系列处理。由于干燥防止液的存在，还具有防止基板(W)输送中基板(W)自然干燥的效果。
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公开(公告)号：CN1501439A
公开(公告)日：2004-06-02
申请号：CN200310103884.5
申请日：2003-11-18
Applicant: 大日本网目版制造株式会社 , 株式会社神户制钢所
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , B08B3/00
CPC classification number: H01L21/67051 , G11B7/261 , G11B7/265 , H01L21/67028 , Y10S134/902
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统。可使基板无损坏地顺利实行由湿式处理到干燥处理一系列处理。在显像处理单元(10A、10B)中对基板W顺序进行显像处理、冲洗处理和置换处理后，在该基板(W)由干燥防止液润湿的状态下，由主自动输送装置(30)湿式输送到超临界干燥单元(20)。由此超临界干燥单元(20)单独进行高压干燥处理(超临界干燥处理)。因此，不用限定显像处理可用的显像液种类，不会产生超临界干燥单元(20)的压力容器(202)内的腐蚀等问题，就可进行由显像处理到高压干燥处理的一系列处理。由于干燥防止液的存在，还具有防止基板(W)输送中基板(W)自然干燥的效果。
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公开(公告)号：CN101028617A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200710084320.X
申请日：2007-02-27
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 一种涂布装置以及涂布方法，该涂布装置具有载物台、喷嘴、以及局部环境生成机构。载物台将基板装载于其上表面。喷嘴在载物台上的空间中从其前端部喷出涂布液。局部环境生成机构对包含喷嘴喷出涂布液的空间和涂布了涂布液的基板的涂布部位的涂布空间局部地供给规定气体，在规定的环境中进行涂布液的涂布。
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公开(公告)号：CN101912833B
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN201010266807.1
申请日：2007-02-27
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 一种涂布装置以及涂布方法，该涂布装置具有载物台、喷嘴、以及局部环境生成机构。载物台将基板装载于其上表面。喷嘴在载物台上的空间中从其前端部喷出涂布液。局部环境生成机构对包含喷嘴喷出涂布液的空间和涂布了涂布液的基板的涂布部位的涂布空间局部地供给规定气体，在规定的环境中进行涂布液的涂布。
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公开(公告)号：CN101912833A
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN201010266807.1
申请日：2007-02-27
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 一种涂布装置以及涂布方法，该涂布装置具有载物台、喷嘴、以及局部环境生成机构。载物台将基板装载于其上表面。喷嘴在载物台上的空间中从其前端部喷出涂布液。局部环境生成机构对包含喷嘴喷出涂布液的空间和涂布了涂布液的基板的涂布部位的涂布空间局部地供给规定气体，在规定的环境中进行涂布液的涂布。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101295630A
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200810094841.8
申请日：2008-04-28
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , B08B1/00
CPC classification number: B08B1/04 , H01L21/67046
Abstract: 本发明的基板处理装置是一种用于对基板边缘部进行清洗处理的基板处理装置。该基板处理装置具有：基板保持机构，其用于保持基板；刷子，其具有清洗面，所述清洗面相对纵向倾斜，所述纵向是垂直于所述基板保持机构所保持的基板的表面的方向；刷子移动机构，其用于在所述纵向以及与该纵向正交的横向上移动所述刷子；负荷检测单元，其用于检测沿所述纵向施加到所述刷子的负荷；第一判断单元，其基于所述负荷检测单元的输出，判断所述刷子是否配置到基准位置，所述基准位置在向处理时位置导向所述刷子之际成为基准，其中，所述处理时位置是在进行清洗处理时所述刷子应配置的位置。
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公开(公告)号：CN101028617B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200710084320.X
申请日：2007-02-27
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 一种涂布装置以及涂布方法，该涂布装置具有载物台、喷嘴、以及局部环境生成机构。载物台将基板装载于其上表面。喷嘴在载物台上的空间中从其前端部喷出涂布液。局部环境生成机构对包含喷嘴喷出涂布液的空间和涂布了涂布液的基板的涂布部位的涂布空间局部地供给规定气体，在规定的环境中进行涂布液的涂布。
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公开(公告)号：CN101295630B
公开(公告)日：2010-07-14
申请号：CN200810094841.8
申请日：2008-04-28
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , B08B1/00
CPC classification number: B08B1/04 , H01L21/67046
Abstract: 本发明的基板处理装置是一种用于对基板边缘部进行清洗处理的基板处理装置。该基板处理装置具有：基板保持机构，其用于保持基板；刷子，其具有清洗面，所述清洗面相对纵向倾斜，所述纵向是垂直于所述基板保持机构所保持的基板的表面的方向；刷子移动机构，其用于在所述纵向以及与该纵向正交的横向上移动所述刷子；负荷检测单元，其用于检测沿所述纵向施加到所述刷子的负荷；第一判断单元，其基于所述负荷检测单元的输出，判断所述刷子是否配置到基准位置，所述基准位置在向处理时位置导向所述刷子之际成为基准，其中，所述处理时位置是在进行清洗处理时所述刷子应配置的位置。
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公开(公告)号：CN101085438A
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN200710102166.4
申请日：2007-04-29
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂布装置以及涂布方法，喷嘴从其前端部喷出所述涂布液；载物台，在其上表面上装载基板；喷嘴移动机构，在载物台上的空间，在横贯载物台面的方向使喷嘴往复移动；箱体，其至少包围载物台而设置；第一供给口设置于箱体的一侧，向所述箱体的内部空间供给给定的气体；第一排气口设置于箱体的另一侧，排出该箱体的内部空间内的气体；循环机构至少使从第一排气口排出的气体循环，而向箱体内部供给；第二供给口设置于箱体的一侧，向该箱体空间内供给从循环机构供给的气体。
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公开(公告)号：CN101085438B
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200710102166.4
申请日：2007-04-29
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂布装置以及涂布方法，喷嘴从其前端部喷出所述涂布液；载物台，在其上表面上装载基板；喷嘴移动机构，在载物台上的空间，在横贯载物台面的方向使喷嘴往复移动；箱体，其至少包围载物台而设置；第一供给口设置于箱体的一侧，向所述箱体的内部空间供给给定的气体；第一排气口设置于箱体的另一侧，排出该箱体的内部空间内的气体；循环机构至少使从第一排气口排出的气体循环，而向箱体内部供给；第二供给口设置于箱体的一侧，向该箱体空间内供给从循环机构供给的气体。
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