公开(公告)号：CN1501439A

公开(公告)日：2004-06-02

申请号：CN200310103884.5

申请日：2003-11-18

Applicant: 大日本网目版制造株式会社 ,  株式会社神户制钢所

Inventor： 村冈祐介 ,  齐藤公续 ,  岩田智巳 ,  深津英司 ,  溝端一国雄 ,  上野博之 ,  奥山靖夫 ,  蒲隆 ,  坂下由彦 ,  渡边克充 ,  宗政淳 ,  大柴久典 ,  猿丸正悟

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/302 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G11B7/261 ,  G11B7/265 ,  H01L21/67028 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统。可使基板无损坏地顺利实行由湿式处理到干燥处理一系列处理。在显像处理单元(10A、10B)中对基板W顺序进行显像处理、冲洗处理和置换处理后，在该基板(W)由干燥防止液润湿的状态下，由主自动输送装置(30)湿式输送到超临界干燥单元(20)。由此超临界干燥单元(20)单独进行高压干燥处理(超临界干燥处理)。因此，不用限定显像处理可用的显像液种类，不会产生超临界干燥单元(20)的压力容器(202)内的腐蚀等问题，就可进行由显像处理到高压干燥处理的一系列处理。由于干燥防止液的存在，还具有防止基板(W)输送中基板(W)自然干燥的效果。

公开(公告)号：CN100418185C

公开(公告)日：2008-09-10

申请号：CN200310103884.5

申请日：2003-11-18

Applicant: 大日本网目版制造株式会社 ,  株式会社神户制钢所

Inventor： 村冈祐介 ,  齐藤公续 ,  岩田智巳 ,  深津英司 ,  溝端一国雄 ,  上野博之 ,  奥山靖夫 ,  蒲隆 ,  坂下由彦 ,  渡边克充 ,  宗政淳 ,  大柴久典 ,  猿丸正悟

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/302 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G11B7/261 ,  G11B7/265 ,  H01L21/67028 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统。可使基板无损坏地顺利实行由湿式处理到干燥处理一系列处理。在显像处理单元(10A、10B)中对基板W顺序进行显像处理、冲洗处理和置换处理后，在该基板(W)由干燥防止液润湿的状态下，由主自动输送装置(30)湿式输送到超临界干燥单元(20)。由此超临界干燥单元(20)单独进行高压干燥处理(超临界干燥处理)。因此，不用限定显像处理可用的显像液种类，不会产生超临界干燥单元(20)的压力容器(202)内的腐蚀等问题，就可进行由显像处理到高压干燥处理的一系列处理。由于干燥防止液的存在，还具有防止基板(W)输送中基板(W)自然干燥的效果。