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公开(公告)号：CN111118457A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201911043735.1
申请日：2019-10-30
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明实施例涉及用于物理气相沉积的设备以及形成膜层的方法。本发明实施例提供一种用于PVD的设备。所述设备包含：腔室；基座，其安置于所述腔室中以容纳晶片；及环。所述环包含：环主体，其具有第一顶表面及第二顶表面；及屏障结构，其安置于所述第一顶表面与所述第二顶表面之间。所述屏障结构可进一步包含彼此分离的至少第一部分及第二部分。第二垂直距离等于或大于第一垂直距离。
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公开(公告)号：CN113594073B
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202110851441.2
申请日：2021-07-27
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/687
Abstract: 一种微影系统及形成半导体装置的方法，方法包括在晶圆台上的晶圆载物台上方传送晶圆。晶圆台包括台主体、晶圆载物台、第一滑动部件、第二滑动部件、第一缆线、第一托架及第二托架，以及挡止器。第二滑动部件为沿着第一方向可移动的，其中第一滑动部件耦接至第二滑动部件的轨道，第一滑动部件为沿着垂直于第一方向的第二方向可移动的。第一托架及第二托架通过板弹簧连接。方法包括朝向台主体的边缘移动晶圆载物台，使得晶圆载物台向外推动第一缆线，使得板弹簧朝向挡止器的面向板弹簧的表面上的第一保护膜移动。
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公开(公告)号：CN110658693B
公开(公告)日：2021-12-21
申请号：CN201910578244.0
申请日：2019-06-28
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种激光产生电浆极紫外辐射源设备及其错误恢复的方法、诊断该设备的RF产生器的方法。在一种诊断激光产生电浆极紫外(LPP EUV)辐射源设备的RF产生器的方法中，将测试系统连接至该LPP EUV辐射源设备的该RF产生器。通过改变该RF产生器的输入功率由该测试系统量测输出功率。使用计算机系统分析该已量测输出功率。基于该经分析的已量测输出功率来判定该RF产生器是否正适当地操作。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113050384A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN202010326540.4
申请日：2020-04-23
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20 , B08B1/00 , H01L21/027
Abstract: 本揭露部分实施例提供一种半导体晶圆加工方法及清洁刷头。上述方法包括利用具有多个微结构的一清洁刷头对一晶圆座的一支撑表面进行一清洁制程。微结构间彼此相隔一间距且具有渐缩的宽度。上述方法还包括放置一半导体晶圆于晶圆座的支撑表面。上述方法还包括对半导体晶圆进行微影制程。
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公开(公告)号：CN110658693A
公开(公告)日：2020-01-07
申请号：CN201910578244.0
申请日：2019-06-28
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种激光产生电浆极紫外辐射源设备及其错误恢复的方法、诊断该设备的RF产生器的方法。在一种诊断激光产生电浆极紫外(LPP EUV)辐射源设备的RF产生器的方法中，将测试系统连接至该LPP EUV辐射源设备的该RF产生器。通过改变该RF产生器的输入功率由该测试系统量测输出功率。使用计算机系统分析该已量测输出功率。基于该经分析的已量测输出功率来判定该RF产生器是否正适当地操作。
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公开(公告)号：CN113050384B
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202010326540.4
申请日：2020-04-23
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20 , B08B1/12 , B08B1/30 , H01L21/027
Abstract: 本揭露部分实施例提供一种半导体晶圆加工方法及清洁刷头。上述方法包括利用具有多个微结构的一清洁刷头对一晶圆座的一支撑表面进行一清洁制程。微结构间彼此相隔一间距且具有渐缩的宽度。上述方法还包括放置一半导体晶圆于晶圆座的支撑表面。上述方法还包括对半导体晶圆进行微影制程。
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公开(公告)号：CN113594073A
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN202110851441.2
申请日：2021-07-27
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/687
Abstract: 一种微影系统及形成半导体装置的方法，方法包括在晶圆台上的晶圆载物台上方传送晶圆。晶圆台包括台主体、晶圆载物台、第一滑动部件、第二滑动部件、第一缆线、第一托架及第二托架，以及挡止器。第二滑动部件为沿着第一方向可移动的，其中第一滑动部件耦接至第二滑动部件的轨道，第一滑动部件为沿着垂直于第一方向的第二方向可移动的。第一托架及第二托架通过板弹簧连接。方法包括朝向台主体的边缘移动晶圆载物台，使得晶圆载物台向外推动第一缆线，使得板弹簧朝向挡止器的面向板弹簧的表面上的第一保护膜移动。
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公开(公告)号：CN113263413A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202110129359.9
申请日：2021-01-29
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: B24B27/033 , B24B23/02 , B24B37/11 , B24B37/34
Abstract: 本揭露提供一种可携式手持清洁装置，其能够清洁基板台的表面而不会损坏此表面。根据本揭示案的可携式手持清洁装置包括具有第一侧及第二侧(第一侧及第二侧彼此重叠)的底座、在底座的第一侧上的中空结构，及在中空结构内的配重保持空间。在底座的第二侧上设置研磨衬垫。此研磨衬垫包括清洁表面，此清洁表面具有多个大体上金字塔形结构。
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