半导体结构及其制造方法

    公开(公告)号:CN113484948A

    公开(公告)日:2021-10-08

    申请号:CN202110675284.4

    申请日:2021-06-18

    Abstract: 根据本发明的半导体结构包括掩埋氧化物层、设置在掩埋氧化物层上方的第一介电层、设置在第一介电层中的第一波导部件、设置在第一介电层和第一波导部件上方的第二介电层、设置在第二介电层上方的第三介电层以及设置在第二介电层和第三介电层中的第二波导部件。第二波导部件设置在第一波导部件上方,并且第二波导部件的部分与第一波导部件的部分垂直地重叠。本发明的实施例还涉及半导体结构的制造方法。

    用于光学耦合的设备及用于通信的系统

    公开(公告)号:CN111103658A

    公开(公告)日:2020-05-05

    申请号:CN201911021486.6

    申请日:2019-10-25

    Abstract: 本揭露公开具有用于光学通信的高耦合效率的光栅耦合器。在一个实施例中,公开一种用于光学耦合的设备。所述设备包括:衬底;光栅耦合器,包括位于衬底之上的多个耦合光栅,其中所述多个耦合光栅中的每一者在第一横向方向上延伸且在第二横向方向上具有具有中间凸起形状的横截面,其中第一横向方向与第二横向方向平行于衬底的表面且在光栅平面中彼此垂直;以及包覆层,包含光学介质,其中光栅耦合器被包覆层填充。

    锁相环路
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108988852A

    公开(公告)日:2018-12-11

    申请号:CN201810555357.4

    申请日:2018-06-01

    Abstract: 全数字锁相环路接收用于使全数字锁相环路内的模拟电路运行的模拟输入电源电压。本公开的实施例的全数字锁相环路将模拟输入电源电压按比例调整以提供用于使全数字锁相环路内的数字电路运行的数字输入电源电压。模拟电路包含时间数字转换器以测量全数字锁相环路内的相位误差。时间数字转换器的分辨率至少部分地依赖于数字输入电源电压。数字电路调节数字输入电源电压以稳定在工艺、电压及/或温度变化时的时间数字转换器的分辨率。此稳定的时间数字转换器的分辨率可使得全数字锁相环路保持在工艺、电压及/或温度变化时的固定带内相位噪声。

    用于射频开关的电压控制器

    公开(公告)号:CN104052442B

    公开(公告)日:2018-10-23

    申请号:CN201310595454.3

    申请日:2013-11-22

    Abstract: 本发明提供了一种或多种用于限制天线与射频开关电路之间的电势的系统和技术。本发明提供了一种用于射频开关电路的电压控制器,电压控制器包括电压发生器、电压检测电路和开关单元。电压检测电路连接至电压发生器和开关单元,而开关单元连接至电压源和射频开关电路与天线之间的节点。当电势超过规定阈值时,电压发生器生成电压检测电路测量到的电压,使电压检测电路启动开关单元,造成射频开关电路与电压源之间的短路。例如,这用于抑制电势超过规定阈值。本发明还提供了一种在射频开关电路中应用电源控制器的方法。

    具有降低的寄生电容的半导体元件

    公开(公告)号:CN108666369A

    公开(公告)日:2018-10-16

    申请号:CN201710347125.5

    申请日:2017-05-17

    Inventor: 周淳朴

    Abstract: 一种半导体元件包括:衬底以及晶体管,所述晶体管包括形成在所述衬底上的源极、漏极及栅极。所述半导体元件进一步包括:深井,其形成在所述衬底中位于所述衬底的表面之下的预定距离处;以及触点,其被配置成将所述深井电耦合至电压源,使得电压能够施加至所述深井而生成用于降低所述晶体管与所述衬底之间的寄生电容的衬底耗尽区。

    集成电路、垂直金属-绝缘体-金属电容器及其制造方法

    公开(公告)号:CN107437538A

    公开(公告)日:2017-12-05

    申请号:CN201611114134.1

    申请日:2016-12-07

    Inventor: 周淳朴 包天一

    Abstract: 在芯片的多层级金属互连系统的多个层内形成垂直的金属-绝缘体-金属(MIM)电容器。垂直的MIM电容器具有第一电极、第二电极和设置在第一电极和第二电极之间的高k电容器介电材料。电容器介电材料的介电常数大于层间介电(ILD)材料的介电常数。从垂直定向、相互交叉的部分第一电极和第二电极之间去除ILD后,电容器介电材料的介电常数大于设置在第一电极和第二电极之间的ILD材料的介电常数。本发明的实施例还涉及集成电路、垂直的金属-绝缘体-金属电容器及其制造方法。

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