一种高功率a-IGZO薄膜晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN116504815B

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202310762255.0

    申请日:2023-06-27

    Abstract: 一种高功率a‑IGZO薄膜晶体管及其制备方法,包括基底、支撑层、栅电极层、栅介质层、a‑IGZO有源层、变掺杂区、源电极层和漏电极层,支撑层设于基底上表面;栅电极层设于支撑层上表面中部;栅介质层覆盖于所述栅电极层和所述支撑层上;a‑IGZO有源层设于栅介质层上表面,变掺杂区为a‑IGZO有源层右端经处理后形成的变掺杂区;源电极层设于a‑IGZO有源层上表面的左侧,漏电极层设于变掺杂区上表面的右侧。本发明提供的漂移区变掺杂结构通过调制漂移区中的电场分布,能够有效提升器件击穿电压,降低漂移区电阻,优化器件导通电阻,显著提升薄膜晶体管的Baliga优值,可以用以提升晶体管的耐压性能和输出电流能力。

    一种高功率a-IGZO薄膜晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN116504815A

    公开(公告)日:2023-07-28

    申请号:CN202310762255.0

    申请日:2023-06-27

    Abstract: 一种高功率a‑IGZO薄膜晶体管及其制备方法,包括基底、支撑层、栅电极层、栅介质层、a‑IGZO有源层、变掺杂区、源电极层和漏电极层,支撑层设于基底上表面;栅电极层设于支撑层上表面中部;栅介质层覆盖于所述栅电极层和所述支撑层上;a‑IGZO有源层设于栅介质层上表面,变掺杂区为a‑IGZO有源层右端经处理后形成的变掺杂区;源电极层设于a‑IGZO有源层上表面的左侧,漏电极层设于变掺杂区上表面的右侧。本发明提供的漂移区变掺杂结构通过调制漂移区中的电场分布,能够有效提升器件击穿电压,降低漂移区电阻,优化器件导通电阻,显著提升薄膜晶体管的Baliga优值,可以用以提升晶体管的耐压性能和输出电流能力。

    一种基于氟化聚合物电介质的有机场效应晶体管制备方法

    公开(公告)号:CN116234326A

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202310326929.2

    申请日:2023-03-30

    Abstract: 本发明公开了一种基于氟化聚合物电介质的有机场效应晶体管制备方法,属于微电子材料及器件技术领域,所述制备方法包括:首先在衬底上方蒸镀形成源漏电极,继而通过旋涂的方式在其上方形成半导体层和介电层,然后通过蒸镀的方式在介电层上方形成栅极,本发明选用DPPT‑TT作半导体层,选用CYTOP作介电层,通过CYTOP介电层的最佳退火温度能在介电层和半导体层界面产生最多的偶极子数目,获得电学性能最优的有机晶体管器件。本申请所提供的基于氟化聚合物电介质的高性能有机场效应晶体管制备方法,在保证器件工作状态最佳的情况下,通过确认使用最佳介电层退火温度,优化了有机薄膜晶体管的迁移率、阈值电压和开关比。

    一种基于氟化电介质的双介电层有机场效应晶体管的制备方法

    公开(公告)号:CN116096102A

    公开(公告)日:2023-05-09

    申请号:CN202310261183.1

    申请日:2023-03-17

    Abstract: 本发明属于电子材料及器件技术领域,涉及一种基于氟化电介质的双介电层有机场效应晶体管的制备方法,晶体管包括:衬底、源漏电极、有机半导体层、介电层和栅极,介电层包括下方与有机半导体层接触的无氟聚合物介电层和位于其上的氟化聚合物介电层;首先以蒸镀的方式在衬底上方蒸镀形成源漏电极,继而通过旋涂的方式在其上方形成有机半导体层和介电层,然后通过蒸镀的方式在介电层上方形成栅极;本发明在无氟聚合物介电层上再旋涂一层氟化聚合物介电层,可以将有机场效应晶体管从双极性电荷传输调节为单极性电荷传输,揭示了用于未来有机电子的电介质的新功能,适宜发展相关的互补对称CMOS电路及应用。

    基于镍电极的高稳定性聚合物场效应晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN116390500A

    公开(公告)日:2023-07-04

    申请号:CN202310275429.0

    申请日:2023-03-21

    Abstract: 本发明公开了一种基于镍电极的高稳定性聚合物场效应晶体管及其制备方法,属于微电子材料及器件技术领域,所述方法包括:首先在衬底上方蒸镀一层镍形成源漏电极,继而通过旋涂的方式在其上方依次形成有机半导体有源层和栅介质层,然后通过蒸镀的方式在栅介质层上方形成栅电极,本发明使用镍作为源漏电极,相较于传统使用金作为源漏电极的器件,其载流子迁移率有所提升,器件的阈值电压明显降低,尤其是在空气暴露的条件下,依然能够保持稳定的电学特性,主要电学参数衰减相对采用常规金电极的器件大幅降低。本申请所提供的制备方法提升了顶栅底接触聚合物场效应晶体管的电学性能及稳定性,具有工艺简单,操作便捷,成本低,稳定性高的特点。

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