通孔填充方法及结构
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111834235B

    公开(公告)日:2022-10-28

    申请号:CN202010736473.3

    申请日:2020-07-28

    IPC分类号: H01L21/48 H01L23/498

    摘要: 本发明提供了一种通孔填充方法及结构,方法包括:利用光刻胶填充通孔,形成填料体;去除所述基底表面上的光刻胶,其中所述通孔内的填料体向内凹陷;在所述填料体上进行曝光打孔,形成标准孔,所述标准孔的孔径小于所述通孔的孔径;将所述填料体进行固化;进行金属沉积,形成过渡结构,所述过渡结构包覆标准孔侧壁、基底表面以及固化胶体的外表面;通过金属电镀工艺形成电镀金属层,填充所述标准孔;以及去除基底上下表面上的过渡结构和电镀金属层,上述方法形成的结构避免了大孔径高深宽比孔出现空洞及表面镀层过厚等问题,良率高,成本低且可实现性好。

    一种封装方法
    8.
    发明公开
    一种封装方法 审中-实审

    公开(公告)号:CN114792632A

    公开(公告)日:2022-07-26

    申请号:CN202210194575.6

    申请日:2022-03-01

    摘要: 本发明提供一种封装方法,包括如下步骤:提供转接板;在转接板的一侧设置第一临时键合基板;在转接板的另一侧表面形成第一重布线结构;在转接板的一侧设置第一临时键合基板之后,在部分第一重布线结构背向转接板的一侧形成焊球,焊球与第一重布线结构电学连接;在焊球背向转接板的一侧设置第二临时键合基板;设置第二临时键合基板之后,去除第一临时键合基板;去除第一临时键合基板之后,将芯片设置在转接板背向第一重布线结构的一侧;在转接板背向第一重布线结构的一侧形成包围芯片的塑封层。因塑封层产生的翘曲对封装结构的影响较小,降低了封装过程中对封装工艺设备的要求,提高了封装工艺对设备的选择性。

    一种三维堆叠封装结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN113284867B

    公开(公告)日:2022-07-26

    申请号:CN202110499384.6

    申请日:2021-05-07

    摘要: 本发明提供一种三维堆叠封装结构及其制备方法,三维堆叠封装结构包括:相对设置的下基板和上基板;位于下基板和上基板之间的第一芯片,第一芯片与下基板电学连接;第一微流道液冷板,位于上基板和下基板之间且设置于第一芯片背离下基板的一侧;第二芯片,设置于上基板背向第一微流道液冷板的一侧,第二芯片与上基板电学连接。第一芯片产生的热量能够以较短的路径传输至第一微流道液冷板以对第一芯片进行散热,提高了第一芯片的散热效果,避免由于结温过高导致第一芯片失效。第二芯片产生的热量也能够通过第一微流道液冷板进行散热,提高了第二芯片的散热效果。综上,第一微流道液冷板的设置提高了三维堆叠封装结构的散热效果。

    一种半导体结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN113130316B

    公开(公告)日:2022-07-01

    申请号:CN202110379707.8

    申请日:2021-04-08

    发明人: 范俊 曹立强

    IPC分类号: H01L21/3065 H01L21/308

    摘要: 本发明提供一种半导体结构及其制备方法,半导体结构的制备方法包括:提供晶圆组,晶圆组包括第一晶圆至第N晶圆,N为大于等于3的整数;在第k晶圆的正面的部分区域嵌入第k阻挡层,k为大于等于3且小于等于N的整数;在第一晶圆的背面的部分区域嵌入第一阻挡层;形成第k2阻挡层之后,键合第k2晶圆的正面和第k1晶圆的背面,k2‑k1=1,k2为大于等于3且小于等于N的整数;形成第一阻挡层之后,键合第一晶圆的背面和第二晶圆的正面;以第一阻挡层、以及第三阻挡层至第N阻挡层为掩膜,从第一晶圆的正面刻蚀第一晶圆至第N晶圆,以在第一晶圆至第N晶圆中形成多台阶凹槽。多台阶凹槽的底部平整,形貌良好,精度较高。