一种有机溶液辅助的晶圆级过渡金属硫化物的生长方法

    公开(公告)号:CN116005262A

    公开(公告)日:2023-04-25

    申请号:CN202310008003.9

    申请日:2023-01-04

    Abstract: 本发明公开了一种有机溶液辅助的晶圆级过渡金属硫化物的生长方法,涉及晶圆级过渡金属硫化物制备技术领域。方法包括以下步骤:将过渡族金属源与有机黏着剂溶于溶剂中,得到溶液;将所述溶液涂覆于基底表面后烘干,得到前驱体;将所述前驱体在含有VIA族元素反应源的气氛中进行退火处理,得到晶圆级过渡金属硫化物。本发明克服MOCVD生长晶圆级多层TMDCs材料的限制以及过渡金属源选择性的问题,提供了一个绿色、低成本、适用范围广、重复性高的层数可控的晶圆级二维TMDCs材料合成策略。相对于MOCVD方法,本发明有机溶液辅助的晶圆级过渡金属硫化物的生长方法(OACVD)更适用于生长单层至多层不同厚度的TMDCs材料。

    基于碲纳米片的二维范德华双极型晶体管及其构筑方法

    公开(公告)号:CN113130637A

    公开(公告)日:2021-07-16

    申请号:CN202110394727.2

    申请日:2021-04-13

    Abstract: 本发明公开了一种基于碲纳米片的二维范德华双极型晶体管及其构筑方法,属于半导体材料技术领域,本发明基于碲纳米片的二维范德华双极型晶体管(BJTs),包括不同厚度的二维p型碲纳米片、二维n型半导体材料、电极及目标衬底,利用水热法合成的不同厚度的碲纳米片以及二维n型半导体纳米片,通过改变集电极与发射极碲纳米片的厚度来调控载流子浓度差,改变基极二维n型半导体的厚度来调控载流子的隧穿势垒,借助于PPC辅助转移实现三层材料的垂直无损堆垛,设计p型半导体与高功函数金属接触,n型半导体与低功函数金属接触来减小金属与材料之间的肖特基势垒,进而实现BJTs性能的有效调控,实现良好的电流放大功能。

    一种拉伸非灵敏型自驱动压力传感器制备方法

    公开(公告)号:CN109540345B

    公开(公告)日:2020-09-04

    申请号:CN201811472031.1

    申请日:2018-12-04

    Abstract: 本发明涉及一种拉伸非灵敏型自驱动压力传感器的制备方法,属于纳米功能器件领域。其特征在于:在拉伸电阻保持不变的电极上,构建摩擦纳米发电机。所构筑的摩擦纳米发电机可作为自驱动压力传感器;在相同压力下,所制压力传感器输出不受其拉伸长度影响。同时,传感器在不同拉伸长度下,探测的灵敏度基本没有变化,大大提高了压力传感器用作为可穿戴电子器件时的工作精度。本发明使用的材料体系简单可控、制作成本低廉,拥有重大的商业价值和实用意义。

    一种过渡金属族硫化物逻辑运算器及其构筑方法

    公开(公告)号:CN109638152B

    公开(公告)日:2020-05-12

    申请号:CN201811426960.9

    申请日:2018-11-27

    Abstract: 本发明属于逻辑运算器领域,涉及一种过渡金属族硫化物同质结逻辑运算器及其构筑方法。构筑方法为:对一个过渡金属族硫化物纳米片的一半区域进行保护,另一半未保护的区域用弱氧化性溶液进行硫空位的构筑。而过渡金属族硫化物的电子特性受硫空位调控的影响明显,从而在保护区域和硫空位构筑区域产生了电子浓度差,形成同质结。在原始区域,硫空位构筑区域和同质结区域构筑电极之后便可得到同质结逻辑运算器,避免了复杂范德华异质结堆垛的工艺和不稳定的器件界面和不稳定的P/N掺杂,提供一个简单稳定的同质结逻辑运算器构筑新途径。由于二维过渡金属族硫化物超薄的特性,将在下一代柔性,透明,大规模集成电子器件上面具有极大的应用前景。

    自组装离子层外延法合成原子层厚氧化锌纳米片的方法

    公开(公告)号:CN109516493A

    公开(公告)日:2019-03-26

    申请号:CN201811284801.X

    申请日:2018-10-31

    Abstract: 本发明提供自组装离子层外延法低温合成原子层厚氧化锌纳米片的方法,利用互不相溶的两相界面作为生长模板,采用烃基碳链长度在C12-C18之间的脂肪醇硫酸酯盐溶液为阴离子表面活性剂来诱导锌氧交替形核进而形成氧化锌纳米片,将表面活性剂溶液滴加在反应液表面,通过水热反应,表面活性分子的模板吸附作用,在两相界面处自组装外延生长原子层厚的氧化锌纳米片,可实现氧化锌向任意基底的转移。利用此发明,可实现50-70℃下生长尺寸约5-30µm、厚度为1.5-5 nm的氧化锌纳米片,高效稳定的合成对下一代柔性、透明、可穿戴的纳米器件应用具有重大的商业价值和深远的现实意义。

    一种有机溶液辅助的晶圆级过渡金属硫化物的生长方法

    公开(公告)号:CN116005262B

    公开(公告)日:2023-08-04

    申请号:CN202310008003.9

    申请日:2023-01-04

    Abstract: 本发明公开了一种有机溶液辅助的晶圆级过渡金属硫化物的生长方法,涉及晶圆级过渡金属硫化物制备技术领域。方法包括以下步骤:将过渡族金属源与有机黏着剂溶于溶剂中,得到溶液;将所述溶液涂覆于基底表面后烘干,得到前驱体;将所述前驱体在含有VIA族元素反应源的气氛中进行退火处理,得到晶圆级过渡金属硫化物。本发明克服MOCVD生长晶圆级多层TMDCs材料的限制以及过渡金属源选择性的问题,提供了一个绿色、低成本、适用范围广、重复性高的层数可控的晶圆级二维TMDCs材料合成策略。相对于MOCVD方法,本发明有机溶液辅助的晶圆级过渡金属硫化物的生长方法(OACVD)更适用于生长单层至多层不同厚度的TMDCs材料。

    一种二维可重构晶体管及其制备方法、调控方法

    公开(公告)号:CN116230761A

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202310174874.8

    申请日:2023-02-28

    Abstract: 本发明提供一种二维可重构晶体管及其制备方法、调控方法,包括绝缘衬底、源极、底栅电极、底栅介电层、二维半导体层、顶栅介电层、漏极和顶栅电极;其中,源极和底栅电极位于绝缘衬底上方,底栅介电层覆盖底栅电极,二维半导体层位于所述底栅介电层上方并与所述源极接触,顶栅介电层覆盖所述二维半导体层,漏极与所述二维半导体层接触,顶栅电极位于所述顶栅介电层上方且不与漏极接触。本发明垂直双栅极电压调控的二维可重构晶体管应用于未来集成电路时,同等算力条件下,可以节省大量的晶体管,减少集成电路占用面积,降低集成电路成本和整体的能耗,满足未来人工智能、物联网等应用的发展需求。

    基于碲纳米片的二维范德华双极型晶体管及其构筑方法

    公开(公告)号:CN113130637B

    公开(公告)日:2022-10-04

    申请号:CN202110394727.2

    申请日:2021-04-13

    Abstract: 本发明公开了一种基于碲纳米片的二维范德华双极型晶体管及其构筑方法,属于半导体材料技术领域,本发明基于碲纳米片的二维范德华双极型晶体管(BJTs),包括不同厚度的二维p型碲纳米片、二维n型半导体材料、电极及目标衬底,利用水热法合成的不同厚度的碲纳米片以及二维n型半导体纳米片,通过改变集电极与发射极碲纳米片的厚度来调控载流子浓度差,改变基极二维n型半导体的厚度来调控载流子的隧穿势垒,借助于PPC辅助转移实现三层材料的垂直无损堆垛,设计p型半导体与高功函数金属接触,n型半导体与低功函数金属接触来减小金属与材料之间的肖特基势垒,进而实现BJTs性能的有效调控,实现良好的电流放大功能。

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