吸附有害气体的装置及搬运盒

    公开(公告)号:CN102233223B

    公开(公告)日:2016-04-06

    申请号:CN201010154177.9

    申请日:2010-04-20

    发明人: 周伟峰 郭建 明星

    IPC分类号: B01D53/02

    摘要: 本发明公开了一种吸附有害气体的装置及搬运盒,涉及液晶显示器制造领域,用以缓解由于氯气泄露造成阵列基板上出现青蛙卵不良的问题。一种吸附有害气体的装置,包括一容器以及填充在该容器内部的用于吸附所述有害气体的吸附剂;在所述容器的外壳上形成有至少一处开口,在所述开口处设有位于内层的透气薄膜和位于外层的活动挡板,所述活动挡板的控制电路与一气体检测模块相连接;其中,所述气体检测模块在检测到所述有害气体的含量超过阈值时,向所述活动挡板的控制电路输出信号,由所述控制电路控制开启所述活动挡板以便所述容器内部的吸附剂对所述有害气体进行吸附。本发明提供的方案适用于液晶显示设备的制造环境中。

    触摸式液晶面板及其制造方法和液晶显示器

    公开(公告)号:CN102236190B

    公开(公告)日:2015-02-25

    申请号:CN201010163866.6

    申请日:2010-04-29

    发明人: 明星 周伟峰 郭建

    摘要: 本发明公开了一种触摸式液晶面板及其制造方法和液晶显示器。该液晶面板包括第一和第二液晶显示基板,其中还包括触摸检测部件,每个触摸检测部件包括导电柱、信号源导电图案和检测线;导电柱、信号源导电图案和检测线中的任意一个部件与另外两个部件,分设在第一液晶显示基板和第二液晶显示基板上;信号源导电图案与检测线的图案间隔设置,且导电柱与信号源导电图案和检测线的图案分别对应设置,在液晶面板被按压操作的状态下,导电柱与信号源导电图案和检测线分别接触电连接,将信号源导电图案提供的电信号导出至检测线以检测按压位置。本发明通过将触摸检测部件集成在液晶面板中,提高了液晶显示器的显示品质和集成度,且简化了结构。

    可调节透过率的掩模板的掩模方法

    公开(公告)号:CN101487972B

    公开(公告)日:2014-09-10

    申请号:CN200810056495.4

    申请日:2008-01-18

    发明人: 周伟峰 郭建 明星

    IPC分类号: G03F1/60 G03F1/00 G03F7/20

    摘要: 本发明涉及一种可调节透过率的掩模板的掩模方法,包括需要给曝光机配置上偏振滤光元件,使曝光机发出可以调整偏振方向的偏振光,当需要制备目标基板上光刻胶曝光程度不同的电路图形时,根据光刻胶的曝光程度,调整曝光机上偏振滤光元件的偏振方向,使其与掩模板上偏振层的偏振方向呈设定角度,其中,所述掩模板包括基板,所述基板上形成有透光区域、非透光区域和部分透光区域,至少所述部分透光区域上形成有所述偏振层;将掩模板放置在目标基板上,并曝光;移开掩模板。本发明提高了光刻工艺的可控性,降低了开发和生产成本,提高了产品质量。

    掩模板及其制造方法
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101435990B

    公开(公告)日:2012-12-26

    申请号:CN200710177426.4

    申请日:2007-11-15

    摘要: 本发明涉及一种掩模板,包括基板,基板上设置有可掩模出第一电路图案的第一偏振片和可掩模出第二电路图案的第二偏振片,第一偏振片和第二偏振片的偏振方向相互垂直。本发明还涉及一种掩模板制造方法,包括:在基板上粘贴第一偏振片;在第一偏振片上形成第一电路图案;在基板上粘贴第二偏振片,第二偏振片的偏振方向垂直于第一偏振片的偏振方向;在第二偏振片上形成第二电路图案。本发明有效克服了现有掩模板只能掩模出一种电路图案的缺陷和现有掩模板可修复性差、有环境污染隐患的缺陷。

    阵列基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN102034810B

    公开(公告)日:2012-07-18

    申请号:CN200910235277.1

    申请日:2009-09-29

    摘要: 本发明涉及一种阵列基板及其制造方法。该阵列基板包括衬底基板,其上形成有交叉的栅级线和数据线,每个像素单元中设置有TFT开关和像素电极,其中:像素单元中还形成有修补线,修补线与栅极线和/或数据线同层形成,且与栅极线、数据线和TFT开关相互间隔;至少修补线的表层采用活性金属制成,活性金属的表面基于金属针孔效应形成有针刺,针刺至少穿过其上的绝缘层。本发明利用了活性金属的针孔效应所产生的针刺,在出现非正常显示时,通过连接相邻像素单元中的针刺即可实现导电结构的连接。降低了修复难度,提高了液晶显示器的显示品质。

    可调节图形尺寸的掩模版及其制造方法

    公开(公告)号:CN101840150B

    公开(公告)日:2012-05-30

    申请号:CN200910080573.9

    申请日:2009-03-20

    发明人: 郭建 周伟峰 明星

    IPC分类号: G03F1/38 G03F1/54

    摘要: 本发明涉及一种可调节图形尺寸的掩模版及其制造方法。其中,掩模版包括:基板,所述基板上形成有相互搭接的挡光材料层和压电陶瓷材料层,形成有所述挡光材料层和所述压电陶瓷材料层以外的基板区域为透光区域,且所述透光区域与所述压电陶瓷材料层相邻。本发明当掩模版制造完成后,由于工艺条件改变等原因需要调整掩模版图形尺寸时,可通过对压电陶瓷材料进行加压控制,从而对掩模版上的图形尺寸进行调整,而不需要重新制备新的掩模版,降低了生产制造的成本,并有利于缩短生产周期。

    液晶显示面板阵列基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN101685218B

    公开(公告)日:2012-04-04

    申请号:CN200810222779.6

    申请日:2008-09-24

    发明人: 周伟峰 郭建 明星

    CPC分类号: Y02E10/50

    摘要: 本发明公开了一种液晶显示面板阵列基板的制造方法,涉及液晶显示面板制造领域,能够将太阳能电池集成到阵列基板上。本发明液晶显示面板阵列基板包括:玻璃基板;太阳能电池,所述太阳能电池设置于所述玻璃基板上;绝缘层,所述绝缘层设置于所述太阳能电池上;阵列电路,所述阵列电路设置于所述绝缘层上。液晶显示面板阵列基板的制造方法包括:在玻璃基板的表面上形成太阳能电池;在所述太阳能电池上形成绝缘层;在所述绝缘层上形成阵列电路。本发明适用于集成太阳能电池的液晶显示面板制造。

    一种曝光设备、掩膜板及曝光方法

    公开(公告)号:CN102243444A

    公开(公告)日:2011-11-16

    申请号:CN201010175938.9

    申请日:2010-05-14

    IPC分类号: G03F7/20 G03F1/14

    摘要: 本发明提供一种曝光设备、掩膜板及曝光方法,涉及薄膜晶体管液晶显示器制造领域,能够利用一块掩膜板对两层光刻胶进行曝光,减少了制造成本,提高了生产效率。该设备包括:承载基板的载台;在载台上方,与载台平行地设有掩膜板;掩膜板与载台之间设有透镜装置;第一照明光源,射出的光线从掩膜板的上方垂直射到掩膜板的上表面,穿过掩膜板,经由透镜装置射到载台;在掩膜板的下表面上,掩膜板的光吸收区域中设有光反射区域;在透镜装置中设有光反射装置;第二照明光源,射出的光线通过透镜装置中的光反射装置被垂直地反射到掩膜板的下表面,被掩膜板下表面的光反射区域反射,经由透镜装置射到载台。本发明用于光刻胶层曝光。

    阵列基板及其制造方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102243404A

    公开(公告)日:2011-11-16

    申请号:CN201010175990.4

    申请日:2010-05-14

    发明人: 郭建 周伟峰 明星

    摘要: 本发明公开了阵列基板及其制造方法。该阵列基板包括基板、形成于基板上的栅线和数据线,所述栅线和所述数据线限定的像素区域内形成有像素电极和第一薄膜晶体管,所述栅线包括第一栅线和第二栅线,所述阵列基板还包括位于显示区域周边的周边区域形成的第二薄膜晶体管和连接结构,所述第一栅线和第二栅线通过第二薄膜晶体管和连接结构相连接。本发明提供的阵列基板及其制造方法,降低了第二栅线上电压的上升时间,从而降低了对第二栅线的充电时间,实现了降低对栅线的充电时间。