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公开(公告)号：CN109554674A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201811453087.2
申请日：2018-11-28
Applicant: 中国科学院电工研究所 , 国合通用测试评价认证股份公司
Abstract: 一种具有异质结构的碲化铋热电薄膜的制备方法，采用磁控溅射法制备碲化铋热电薄膜。首先安装碲化铋(Bi2Te3)合金靶及碲(Te)单质靶，然后把清洗过的氧化镁(MgO)单晶固定在基片台上；调整碲化铋合金靶与氧化镁单晶衬底之间的距离为120mm～140mm，调整碲单质靶与氧化镁单晶衬底之间的距离为110mm～150mm，抽真空至4×10-4Pa～6×10-4Pa；再对氧化镁(MgO)基片加热至320℃～400℃，通入氩气(Ar)，在工作气压为1Pa～3Pa的条件下分别打开直流电源和射频电源，设置直流电源功率为20W～25W，射频电源功率为25W～40W，然后通过共溅射开始镀膜；最后对溅射的薄膜在350℃～450℃下退火处理，形成具有异质结构的碲化铋热电薄膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110660898A
公开(公告)日：2020-01-07
申请号：CN201910956453.4
申请日：2019-10-10
Applicant: 中国科学院电工研究所 , 国合通用测试评价认证股份公司
Abstract: 本发明提供了一种柔性热电薄膜的制备方法，属于功能性薄膜技术领域。本发明提供的制备方法包括如下步骤：(1)将硝酸铋、亚硒酸钠和乙二醇混合后，在保护气氛中进行还原反应，然后加入异丙醇进行沉淀反应，再依次经清洗和干燥，得到硒化铋粉体；所述硝酸铋和亚硒酸钠的摩尔比为2:3；(2)在保护气的气流中，将所述硒化铋粉体在300～350℃进行热处理，得到高纯硒化铋粉体；(3)将所述高纯硒化铋粉体、PVDF和溶剂混合后依次经铸膜和干燥，得到柔性热电薄膜。本发明采用化学溶液法和流延法结合即可得到柔性热电薄膜，该方法所需设备简单，制备条件温和，在常压即可完成，易于操控。
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公开(公告)号：CN110660898B
公开(公告)日：2023-02-07
申请号：CN201910956453.4
申请日：2019-10-10
Applicant: 中国科学院电工研究所 , 国合通用测试评价认证股份公司
IPC: H10N10/01 , H10N10/852 , H10N10/10
Abstract: 本发明提供了一种柔性热电薄膜的制备方法，属于功能性薄膜技术领域。本发明提供的制备方法包括如下步骤：(1)将硝酸铋、亚硒酸钠和乙二醇混合后，在保护气氛中进行还原反应，然后加入异丙醇进行沉淀反应，再依次经清洗和干燥，得到硒化铋粉体；所述硝酸铋和亚硒酸钠的摩尔比为2:3；(2)在保护气的气流中，将所述硒化铋粉体在300～350℃进行热处理，得到高纯硒化铋粉体；(3)将所述高纯硒化铋粉体、PVDF和溶剂混合后依次经铸膜和干燥，得到柔性热电薄膜。本发明采用化学溶液法和流延法结合即可得到柔性热电薄膜，该方法所需设备简单，制备条件温和，在常压即可完成，易于操控。
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公开(公告)号：CN113447506B
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202010223968.6
申请日：2020-03-26
Applicant: 国标(北京)检验认证有限公司 , 国合通用测试评价认证股份公司
IPC: G01N23/207
Abstract: 本发明涉及一种双相钛合金相比例的快速分析方法，属于XRD定量相分析技术领域。首先清洁样品；采用装备有二维探测器的便携式测量装置，将X射线入射线与样品表面夹角设为45°以上，工作距离调整到15～50mm；调整光斑位置至待测点，并在装置中键入工作距离；开启高压及射线窗口，测量并收集α相和β相德拜环；根据α相{hkl}和β相{nmp}德拜环的2θ角及晶面间距，分辨并指标化各德拜环；解析衍射数据，去除背景，将对应德拜环分别进行强度积分；计算出α和β的比例。本发明无需破坏，特别适用于大型工件，成品件的测量，可在一定程度上减弱织构和晶粒粗大对相含量计算的干扰。
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公开(公告)号：CN113447506A
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN202010223968.6
申请日：2020-03-26
Applicant: 国标(北京)检验认证有限公司 , 国合通用测试评价认证股份公司
IPC: G01N23/207
Abstract: 本发明涉及一种双相钛合金相比例的快速分析方法，属于XRD定量相分析技术领域。首先清洁样品；采用装备有二维探测器的便携式测量装置，将X射线入射线与样品表面夹角设为45°以上，工作距离调整到15～50mm；调整光斑位置至待测点，并在装置中键入工作距离；开启高压及射线窗口，测量并收集α相和β相德拜环；根据α相{hkl}和β相{nmp}德拜环的2θ角及晶面间距，分辨并指标化各德拜环；解析衍射数据，去除背景，将对应德拜环分别进行强度积分；计算出α和β的比例。本发明无需破坏，特别适用于大型工件，成品件的测量，可在一定程度上减弱织构和晶粒粗大对相含量计算的干扰。
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公开(公告)号：CN111896432A
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN202010537753.1
申请日：2020-06-12
Applicant: 国标(北京)检验认证有限公司 , 国合通用测试评价认证股份公司
IPC: G01N15/02 , G01N23/2055 , G01N23/207
Abstract: 本发明公开了属于X射线衍射分析技术领域的一种铜及其合金晶粒尺寸的高通量检测方法。步骤包括：在未知晶粒尺寸的工件待测点上放置内孔尺寸为2mm的遮光孔或透光管；采用X射线衍射装置，测定待测点的德拜衍射斑图谱；当存在衍射斑点，德拜环不可见，晶粒尺寸＞1mm；德拜环可见，晶粒尺寸≤1mm。为进一步区分细小晶粒的粒径区间，依次缩小遮光孔尺寸再次测量，并根据德拜环的形态，快速判定晶粒的尺寸范围。本发明无需破坏工件，特别适用于甄别晶粒粗大的大型工件，真正实现高速高通量的在线原位大规模检测。
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