硅片对准标记布局的优化方法

    公开(公告)号:CN110880469A

    公开(公告)日:2020-03-13

    申请号:CN201911178873.0

    申请日:2019-11-26

    IPC分类号: H01L21/68 H01L21/67

    摘要: 一种硅片对准标记布局的优化方法,该方法包括初始化对准标记个数,选取对准标记所在的场格;根据硅片变形数据,优化对准标记所处场格;优化对准标记在场格中的位置;计算最小的对准标记个数,即完成所述硅片对准标记布局优化。本发明通过优化方法给出最优的对准标记位置,从而提高套刻对准性能;通过优化方法给出最少对准标记测量个数,从而减少对准系统测量时间,为提升产率提供可能。

    一种具有振动隔离嵌套结构的检测装置

    公开(公告)号:CN110031027A

    公开(公告)日:2019-07-19

    申请号:CN201910224154.1

    申请日:2019-03-22

    IPC分类号: G01D5/26 G01D11/00

    摘要: 本发明公开了一种具有振动隔离嵌套结构的检测装置,涉及光学性能参数检测技术领域,所述装置包括:微环境控制模块,所述微环境控制模块包括上层气浴单元和下层气浴单元,其中,所述上层气浴单元位于所述检测装置的上层,所述下层气浴单元位于所述上层气浴单元下方;带有隔振器的光学检测台架,所述带有隔振器的光学检测台架设置在所述上层气浴单元和所述下层气浴单元之间;位移台模块,所述位移台模块位于所述微环境控制模块下方,与所述微环境控制模块和所述带有隔振器的光学检测台架相互独立。达到了阻断微环境控制模块所产生的振动,实现检测环境的绝对安静,提高检测精度的技术效果。

    一种衍射光栅的设计方法及系统

    公开(公告)号:CN111610586B

    公开(公告)日:2022-04-29

    申请号:CN202010594125.7

    申请日:2020-06-24

    IPC分类号: G02B5/18

    摘要: 本公开提供了一种衍射光栅的设计方法及系统,方法包括:S1,获得衍射光栅衍射光的零衍射级和高衍射级的衍射效率增强和缺级的条件;S2,根据零衍射级缺级的第一条件获得衍射光栅的槽深;S3,根据高衍射级增强的条件获得衍射光栅的栅脊宽度和栅脊之间的距离;S4,将步骤S3获得的结构复制并进行对称设置,以使高衍射级的偶衍射级缺级。该方法根据需要增强的衍射级次,选择相应的栅级和栅槽的宽度和位置,不需要将整个光栅结构均设置为优化条件进行优化,避免了大量计算。

    一种气浴装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110068122B

    公开(公告)日:2020-12-29

    申请号:CN201910218702.X

    申请日:2019-03-21

    IPC分类号: F24F13/06

    摘要: 本发明实施例提供的一种气浴装置,包括:基板;气浴模组,所述气浴模组的上表面与所述基板连接,其中,所述气浴模组包括多个气浴单元,所述多个气浴单元首尾相连通,构成中心位置具有第一通孔的所述气浴模组;托板,所述托板位于所述气浴模组的下表面,将所述气浴模组于所述基板进行固定连接。解决了现有技术中紧凑的气浴单元管道密布占用过多空间,且气流容易形成遮挡,造成工作环境的流场紊乱,进而影响温度、气压等参数的均匀度的技术问题。达到了减少管道多杂带来的空间占用与安装问题,多个气浴单元组合后相互联通,形成大面积的静压腔室,提高了气流均匀度的技术效果。

    一种减振装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110081117B

    公开(公告)日:2020-09-29

    申请号:CN201910218688.3

    申请日:2019-03-21

    IPC分类号: F16F13/00

    摘要: 本发明提供了一种减振装置,包括:壳体由上壳体、下壳体套接构成,背部具有多个通孔,壳体的前侧面顶部设置有多个安装孔,所述通孔与所述安装孔数量相同;弹簧卡块嵌设在所述安装孔内;三角弹簧组件,三角弹簧组件卡设在所述壳体内,其中,所述三角弹簧组件包括:三角弹簧件,所述三角弹簧件顶部与所述弹簧卡块连接,弹簧卡块将所述三角弹簧件进行限定;调高件,调高件与三角弹簧件固定连接,调高件穿过通孔,且,在所述通孔内部可进行上下移动。解决被动隔振多用于固定负载应用,不适用于不同负载的减振要求,而主动隔振结构复杂的技术问题。达到适应不同负载的使用需求,同时构造简单,组装便捷,组合灵活的技术效果。

    一种衍射光栅的设计方法及系统

    公开(公告)号:CN111610586A

    公开(公告)日:2020-09-01

    申请号:CN202010594125.7

    申请日:2020-06-24

    IPC分类号: G02B5/18

    摘要: 本公开提供了一种衍射光栅的设计方法及系统,方法包括:S1,获得衍射光栅衍射光的零衍射级和高衍射级的衍射效率增强和缺级的条件;S2,根据零衍射级缺级的第一条件获得衍射光栅的槽深;S3,根据高衍射级增强的条件获得衍射光栅的栅脊宽度和栅脊之间的距离;S4,将步骤S3获得的结构复制并进行对称设置,以使高衍射级的偶衍射级缺级。该方法根据需要增强的衍射级次,选择相应的栅级和栅槽的宽度和位置,不需要将整个光栅结构均设置为优化条件进行优化,避免了大量计算。

    调整吸盘吸力分布改善硅片翘曲的方法

    公开(公告)号:CN110620067A

    公开(公告)日:2019-12-27

    申请号:CN201910908045.1

    申请日:2019-09-24

    IPC分类号: H01L21/67 H01L21/68

    摘要: 一种调整吸盘吸力分布改善硅片翘曲的方法,该方法包括:获取当前待曝光硅片的形貌图,得到硅片表面高度分布信息数据;根据硅片表面高度分布信息数据计算当前硅片局部翘曲度;根据计算出的当前硅片局部翘曲度计算硅片表面局部吸附载荷;根据计算出的硅片表面局部吸附载荷调整硅片表面吸点吸力大小。本发明提出的调整吸盘吸力分布改善硅片翘曲的方法,基于吸孔密集化分布且局部或单一吸孔独立可控的吸盘结构,根据计算出的硅片表面局部吸附载荷调整硅片表面吸点吸力大小可实现对不同形状和翘曲程度的硅片达到理想修正。

    一种活动密封装置
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110067493A

    公开(公告)日:2019-07-30

    申请号:CN201910218689.8

    申请日:2019-03-21

    IPC分类号: E06B7/18 E06B7/28

    摘要: 本发明提供了一种活动密封装置,应用于具有密封要求和活动开口的系统,包括:活动门,活动门设置在所述系统的腔体外侧,对所述腔体进行密封;十字转盘,十字转盘设置在所述活动门的中心位置,与所述活动门可转动连接;拉杆机构,拉杆机构的一端分别经过所述活动门的四个顶角处与所述腔体连接,另一端所述十字转盘连接;压紧机构,压紧机构设置在所述活动门内侧,位于所述活动门四周边缘处,对腔体进行压紧密封。解决现有技术中活动门密封效果不佳,使用的端面密封存在压力不均匀和压力弱的技术问题,达到了通过一个转盘带动活动门四周的压紧机构同时压紧,保证活动门周边的密封压紧同步性和均匀性,密封效果佳的技术效果。

    一种调制和解调信号的同步控制方法以及装置

    公开(公告)号:CN114035460A

    公开(公告)日:2022-02-11

    申请号:CN202111189694.4

    申请日:2021-10-12

    IPC分类号: G05B19/042

    摘要: 本公开提供调制和解调信号的同步控制方法以及装置,调制和解调信号的同步控制方法包括获取外部同步脉冲以及时钟信号,形成同步信号根据所述同步信号,控制产生调制信号以及控制采集解调信号。在本公开提供的技术方案中,使用同步采集机制,可同时控制解调采集信号和调制信号输出,具有灵活的网络拓扑结构,能够完成测控系统光电信号精确的同步控制和高精度并行计算;同步信号输入到FPGA模块内,由FPGA模块进行控制,FPGA模块收到外同步信号后,同时控制解调信号采集和调制信号输出。对光信号的同步调制产生以及解调信号采集能够实现同步控制。