一种锗硅电吸收调制器及其制作方法

    公开(公告)号:CN114355634B

    公开(公告)日:2025-05-06

    申请号:CN202111517323.4

    申请日:2021-12-13

    Abstract: 本发明涉及一种锗硅电吸收调制器及其制作方法,其中,锗硅电吸收调制器包括多晶硅层和硅衬底;N掺杂区,所述N掺杂区设置于所述多晶硅层中;P掺杂区,所述P掺杂区设置于所述硅衬底中,其中,所述硅衬底内部设置有第一二氧化硅层,所述P掺杂区位于第一二氧化硅层上表面;锗硅光子晶体波导,所述锗硅光子晶体波导垂直设置于N掺杂区和P掺杂区之间,所述锗硅光子晶体波导周围填充有第二二氧化硅层,所述第二二氧化硅层的下表面与硅衬底相连、上表面与多晶硅层相连。本发明通过锗硅光子晶体波导的慢光效应增强材料对于光的吸收,从而提升器件性能。

    一种马赫曾德尔电光调制器

    公开(公告)号:CN114200696B

    公开(公告)日:2025-05-02

    申请号:CN202111403724.7

    申请日:2021-11-24

    Abstract: 本发明涉及一种马赫曾德尔电光调制器,包括第一和第二耦合器、第一波导臂、第二波导臂、第三波导臂、第四波导臂、第一和第二氮化硅波导;第一氮化硅波导和第二氮化硅波导均包括依次连接的第一弯曲部、直部和第二弯曲部;第一耦合器分别与第一波导臂的一端和第二波导臂的一端连接;第一氮化硅波导通过第一弯曲部和第一波导臂的另一端连接、通过第二弯曲部和第三波导臂的一端连接;第二氮化硅波导通过第一弯曲部和第二波导臂的另一端连接、通过第二弯曲部和第四波导臂的一端连接;第三波导臂的另一端和第二耦合器连接;第四波导臂的另一端通过相位改变器与第二耦合器连接;本发明能够降低调制器的有源区电容,并提高调制器的高频性能。

    一种非易失性相位校正方法和光电子器件

    公开(公告)号:CN119335765A

    公开(公告)日:2025-01-21

    申请号:CN202411536359.0

    申请日:2024-10-31

    Inventor: 岳文成 蔡艳

    Abstract: 本发明涉及一种非易失性相位校正方法和光电子器件,其中,方法包括:在光电子器件的波导上集成相变材料;通过改变所述相变材料的所处状态,实现对光电子器件的初始相位差进行校正。光电子器件包括相变材料和调节装置,所述相变材料集成在波导上;所述调节装置用于改变所述相变材料的所处状态以对光电子器件的初始相位差进行校正。本发明能够对所设计光电子器件的初始相位进行校正且具有非易失性。

    一种多层结构层间耦合器
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116148981A

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202310277488.1

    申请日:2023-03-21

    Abstract: 本发明涉及一种多层结构层间耦合器,包括:下波导部分,包括至少两层堆叠的波导层,每层波导层均包括依次连接的第一波导和第一渐变波导,沿第一波导指向第一渐变波导的方向,第一渐变波导的宽度逐渐变窄;第一渐变波导之间呈错层结构;上波导部分,包括至少两层堆叠的波导层,每层波导层均包括依次连接的第二渐变波导和第二波导,沿第二渐变波导指向第二波导的方向,第二渐变波导的宽度逐渐变宽;第二渐变波导之间呈错层结构;包层,位于上波导部分和下波导部分之间;第一渐变波导和第二渐变波导的空间交叠部分形成层间耦合区。本发明能够提高耦合效率,同时减小器件尺寸。

    一种锗硅电吸收调制器及其制作方法

    公开(公告)号:CN114355634A

    公开(公告)日:2022-04-15

    申请号:CN202111517323.4

    申请日:2021-12-13

    Abstract: 本发明涉及一种锗硅电吸收调制器及其制作方法,其中,锗硅电吸收调制器包括多晶硅层和硅衬底;N掺杂区,所述N掺杂区设置于所述多晶硅层中;P掺杂区,所述P掺杂区设置于所述硅衬底中,其中,所述硅衬底内部设置有第一二氧化硅层,所述P掺杂区位于第一二氧化硅层上表面;锗硅光子晶体波导,所述锗硅光子晶体波导垂直设置于N掺杂区和P掺杂区之间,所述锗硅光子晶体波导周围填充有第二二氧化硅层,所述第二二氧化硅层的下表面与硅衬底相连、上表面与多晶硅层相连。本发明通过锗硅光子晶体波导的慢光效应增强材料对于光的吸收,从而提升器件性能。

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