七自由度串并混联式对接平台

    公开(公告)号:CN106584437A

    公开(公告)日:2017-04-26

    申请号:CN201611268327.2

    申请日:2016-12-31

    CPC classification number: B25J9/0057

    Abstract: 一种七自由度串并混联式对接平台,其包括一个固定平台、一个动平台、三个支链以及一个随动支链,各个该支链的上端部分别设置于该动平台,各个该支链的下端部分别设置于该固定平台,以使各个该支链连接于该动平台和该固定平台,该随动支链的上端部连接于该动平台的中部,该随动支链的下端部连接于该固定平台的中部,其中在七自由度对接平台在水平方向上采用并联的方式,以实现三个自由度的调整,包括绕X旋转俯仰自由度α、绕Y旋转滚转自由度γ以及沿Z向的移动。进一步地,三个该支链分别是UPS支链,另外各个该支链呈等腰三角形的形状布置在该固定平台和该动平台之间,以使该七自由度对接平台的结构紧凑、安全可靠,以满足吊装和安装空间。

    一种光机组件面形在位检测装置及方法

    公开(公告)号:CN119468978A

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202510066424.6

    申请日:2025-01-16

    Abstract: 本发明公开了一种光机组件面形在位检测装置及方法,属于光学精密检测技术领域,其目的在于解决现有技术中缺乏对光机组件进行在位监控装调过程中进行面形畸变检测的问题。装置中激光器产生的激光依次经光束隔离器、分光棱镜、准直镜A后入射至待测光机组件并产生反射,待测光机组件的反射光经准直镜A后入射至分光棱镜并产生反射,分光棱镜的反射光经由带孔光屏、准直镜B、相位板后入射至CCD相机;CCD相机与计算机系统连接,CCD相机记录的光斑图将被输入计算机系统,用于面形在位检测。该方法通过相位板对待测样品的反射光进行调制,采用基于光场衍射迭代的相位重构算法实现样品面形重构。其具有测量精度高、不需要参考平面、抗振能力强等优点。

    一种激光环切装置及其环切方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119187951A

    公开(公告)日:2024-12-27

    申请号:CN202411747524.7

    申请日:2024-12-02

    Abstract: 本发明公开一种激光环切装置及其环切方法,属于激光环切技术领域,解决现有激光环切装置大多是被切割件自转而激光器固定,激光器不便于根据需要进行更换,切割精度和效率不高且存在安全隐患的技术问题。本发明包括:悬臂结构和样品搭载台,所述悬臂结构包括第一悬臂,所述第一悬臂为导光臂,所述导光臂包括臂壳、位于臂壳顶部的激光入射口、位于臂壳内部的导光组件以及位于臂壳下部的激光出射口,所述导光组件包括扩束镜、反射镜和扫描振镜;所述样品搭载台转动设置于所述悬臂结构的下方,且所述激光出射口朝向样品搭载台的一侧。本发明具有待切割样品无需转动,能保证安全,且方便切换多种激光器,切割精度和效率高等优点。

    一种涉氚光学元件干法无损去污除膜方法

    公开(公告)号:CN117930501B

    公开(公告)日:2024-09-20

    申请号:CN202410269186.4

    申请日:2024-03-08

    Abstract: 本发明属于光学元件技术领域,具体涉及一种涉氚光学元件干法无损去污除膜方法。本发明首先根据元件表面膜层和基底的折射率等光学特征参数,模拟计算元件透射率/反射率与膜层厚度间的函数关系曲线;接着,利用分光光度计光路对光学元件透射率/反射率进行在线监测,并依据模拟计算得到的透射率/反射率与膜层厚度关系曲线,实时计算监测剩余膜层厚度;采用反应离子束刻蚀的方法对光学元件进行去污和除膜处理,当在线监测显示膜层已被完全去除时,停止反应离子束刻蚀;最后,对元件表面的氚污染含量进行测量确认。本发明提供的方法绿色环保无氚化水产生,不破坏元件基底,可同步实现元件的去污和除膜两个目的。

    一种光学元件洁净处理装置及方法

    公开(公告)号:CN118477860A

    公开(公告)日:2024-08-13

    申请号:CN202410578554.3

    申请日:2024-05-10

    Abstract: 本发明公开了一种光学元件洁净处理装置,包括激光约束单元和静电吸附单元,激光约束单元包括激光系统和光束整形系统。本发明提供一种光学元件洁净处理方法,利用光束整形系统将激光系统发出的激光束整形为高斯光束,使静电吸附单元产生的电场覆盖高斯光场;控制激光约束单元以及静电吸附单元的启动时间,与光学元件通光时间同步,以使损伤喷溅离子的飞行路径经过高斯光场和静电吸附单元产生的电场,利用高斯光场控制粒子向静电吸附单元移动,粒子被静电吸附单元吸附。本发明利用高斯光场对喷溅离子的约束力,将喷溅离子限制在高斯光场中,通过调节高斯光场的能量控制粒子向静电吸附单元移动,静电吸附单元将粒子吸附,达到去除损伤颗粒的目的。

    一种精确测定单层化学膜折射率变化值的装置及方法

    公开(公告)号:CN109164064B

    公开(公告)日:2023-08-25

    申请号:CN201811136812.3

    申请日:2018-09-28

    Abstract: 本发明涉及一种精确测定单层化学膜折射率变化值的装置及方法,属于高功率激光技术领域,该装置包括脉冲激光器、第一光电管、取样镜、石英棱镜、单层化学膜和第二光电管,所述石英棱镜为等边三棱镜,所述单层化学膜涂覆在石英棱镜的一个面上,所述脉冲激光器发出的光束经取样镜后,一部分入射到第一光电管上,剩余部分从石英棱镜的一个侧面射入,从涂有单层化学膜的一面射出,出射光线入射到第二光电管上,本发明的装置结构简单紧凑、成本低,能够有效测定高功率激光系统中单层化学膜折射率变化值,折射率变化值的检测精度达到0.0001。

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