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公开(公告)号：CN118961717A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202411087432.0
申请日：2024-08-08
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本申请公开了一种光学元件表面颗粒污染诱导损伤判定装置及方法，涉及光学元件检测技术领域，该装置包括：激光系统、原位定位显微系统、在线透射率测量系统、原位光谱测试系统和上位机；激光系统向表面附着有颗粒污染物的待检测光学元件的表面发射激光；在线透射率测量系统用于测量待检测光学元件在激光辐照待检测光学元件之前和之后的透过率；原位光谱测试系统用于采集激光辐照待检测光学元件过程中的光谱信息；原位定位显微系统用于采集激光辐照待检测光学元件之前和之后待检测光学元件表面的图像；上位机根据两个透过率、光谱信息和两个图像判断待检测光学元件是否损伤。本申请可提高损伤判断的置信度。
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公开(公告)号：CN118455193A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410578668.8
申请日：2024-05-10
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种用于光学元件表面颗粒的去除装置，包括吸附系统、显微系统以及位置调节系统。本发明还提供一种用于光学元件表面颗粒的去除方法，位置调节系统带动吸附系统移动至靠近光学元件表面的微米颗粒处；声波发生器发出的声波振动能够减弱光学元件对表面微米级颗粒的吸附力，并使光学元件表面的微米颗粒聚集，在负压吸附器的负压作用下，聚集的颗粒由负压吸附器的吸附口被吸入负压吸附器的内腔，并由吸附管排出；利用显微系统观测光学元件表面的颗粒是否被去除。本发明采用非接触无损处理方式对光学元件表面微米颗粒进行去除，处理效果好，无二次污染产生，且对环境空间无要求，便携性好，处理效率高。
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公开(公告)号：CN107179516B
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN201710631839.9
申请日：2017-07-28
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01R33/032
摘要： 本发明公开了一种基于单模‑多模‑无芯光纤结构的磁场强度检测传感器，包括：单模光纤；多模光纤，其输入端与单模光纤的输出端熔接；无芯光纤，其一端与多模光纤的输出端偏心熔接；无芯光纤与多模光纤偏心熔接后的不重叠位置处包覆第一金属膜层；无芯光纤的另一端面附着第二金属膜层；无芯光纤的表面包覆超磁致伸缩材料层。将磁场强度检测传感器置于磁场中，磁场强度发生变化，会导致有超磁致伸缩材料薄膜发生形变及波导折射率发生变化，从而引起无芯光纤纵向长度产生微小形变及谐振条件发生变化，使马赫‑泽德混合干涉中一干涉臂光程发生变化导致整个波导干涉条件发生变化，通过光电探测器接收信号，并进行处理即可反推外部环境磁场强度。
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公开(公告)号：CN115826227A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211455581.9
申请日：2022-11-21
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明涉及一种光学系统非金属密封材料的洁净处理方法和评价方法，解决了真空环境中光学元件易受非金属密封材料污染的问题，本发明通过第一遍清洗、真空烘烤以及第二遍清洗，对光学系统中非金属密封材料进行洁净处理，使得非金属密封材料的污染得到有效去除，实现非金属密封材料的彻底洁净。本发明的洁净处理方法，处理效果好，具有可靠、经济、高效的特点，处理后的材料对光学系统影响小，能够确保光学元件维持较高光学特性。
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公开(公告)号：CN113655010A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202111211048.3
申请日：2021-10-18
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种低压氧等离子体清洗有机污染物的性能评价方法，包括：利用峰值透过率获得特定碳氢类有机污染物空间浓度；按照碳原子数分配的氢原子个数改写确定的特定碳氢类有机污染物等效浓度；通过拟合确定的由化学反应常数、活性氧原子空间浓度及按碳原子数分配的氢原子个数构建的评价系数。本发明利用基于透过率测试的碳氢污染物等效空间浓度获得低压氧等离子体的评价系数，可以用于评价不同状态的低压氧等离子体对多孔增透膜内特定碳氢类有机污染物清洗性能。
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公开(公告)号：CN107179617A
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201710630998.7
申请日：2017-07-28
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G02F1/065
CPC分类号： G02F1/065
摘要： 本发明公开了一种高速电光调制器，包括：微纳光纤耦合器，其采用两根单模光纤缠绕在一起，放入光纤拉制平台拉制而成；高分子电光材料层，其包覆在微纳光纤耦合器上；电极板，其抵近设置于所述高分子电光材料层的外部。采用本发明提供的新型高速电光调制器的制备方法，高效快速地制备出了调制速度快、光信号损耗小、信噪比高及成本低廉的电光调制器，当半导体激光器发出的激光从电光调制器的输入端注入该器件时，同时电极将电信号加在电极板两端，这将改变单元的表面折射率导致谐振波长发生变化，影响输出端光功率的变化，最终得到与电信号变化一致的光信号，能够用于光通信领域，解决了目前普通电光调制器成本高、调制速度慢、信噪比较低等问题。
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公开(公告)号：CN105527252A
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201610019827.6
申请日：2016-01-13
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01N21/55
CPC分类号： G01N21/55
摘要： 本发明提供了一种光学元件反射率测量仪，用于光学元件反射率的测量。本发明的光学元件反射率测量仪采用光电二极管采集光学元件或光学标准片的反射光并转换为电信号，电信号再经过前置放大器和锁相放大器放大后，得到与信号光强度成正比的直流电压信号。该仪器以测量光学标准片反射光所获得的直流电压信号为基准，测量待测元件反射光所获得的直流电压信号与基准比对，获得待测光学元件的反射率。本发明结构简单，易于实现，测量精度高，且能够实现对光学元件反射率的在线测量。
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公开(公告)号：CN105234131A
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201510729977.1
申请日：2015-11-02
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明提供了一种用于去除光机元件表面微量有机污染物的烘烤装置。该烘烤装置利用低真空烘烤方式，通过红外烘烤灯烘烤出金属或熔石英光机元件表面或亚表面的有机污染物，并将有机污染物利用微量循环空气带出真空箱。该烘烤装置使用空气过滤器和AMC过滤器，避免了空气中的颗粒及有机物对光机元件表面的二次污染；该烘烤装置通过调节真空压力及烘烤温度，可以在确保在光机元件性能不变的情况下去除光机元件表面或者亚表面有机污染物，同时达到较高的洁净度等级。本发明的烘烤装置具有有机污染物去除效果好、结构简单、不引入二次污染、易于使用的优点，可拓展适用于航空、航天等对洁净度要求比较高的领域。
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公开(公告)号：CN110813924B
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN201911291678.9
申请日：2019-12-16
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，包括：底板，其上通过支撑柱放置有光学元件；风刀及离子棒单元，其通过支撑单元连接在底板上，且风刀及离子棒单元位于光学元件的一端，并使风刀及离子棒单元的出风口正对光学元件的上表面；静电吸附电极，其包括平行设置的正电极棒和负电极棒，正电极棒和负电极棒分别通过电极支撑架连接在底板上，且正电极棒位于光学元件的上方，负电极棒位于光学元件的的下方。本发明通过风刀及离子棒产生离子风或高速气流将光学元件表面的污染物去除并使污染物荷电，采用静电吸附电极在光学元件末端或将静电吸附电极带动在光学元件表面进行来回运动，对污染物进行收集，从而达到污染物去除的目的。
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公开(公告)号：CN111175683B
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202010181860.5
申请日：2020-03-16
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01R35/00
摘要： 本发明公开了一种交直流复合磁场‑力‑热环境下实验测试系统，包括：工作台；一对平行的直流亥姆霍兹线圈，其通过移动单元设置在工作台上；两对平行的交流亥姆霍兹线圈，其通过支撑杆设置在工作台上，且两对平行的交流亥姆霍兹线圈连接在支撑杆的顶部并合围形成容纳腔体；且容纳腔体位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈之间的中心处；温控炉，其设置在支撑杆的顶部，且温控炉位于容纳腔体内；测力单元，其设置在工作台上并位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈的一端，且测力单元的施力方向与一对平行的直流亥姆霍兹线圈的轴线平行；夹具单元，其设置在工作台上并位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈的另一端，且夹具单元与测力单元相对应设置。
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