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公开(公告)号：CN119187951B
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202411747524.7
申请日：2024-12-02
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/38 , B23K26/08 , B23K26/70 , B23K26/064 , B23K26/082 , B23K26/046
Abstract: 本发明公开一种激光环切装置及其环切方法，属于激光环切技术领域，解决现有激光环切装置大多是被切割件自转而激光器固定，激光器不便于根据需要进行更换，切割精度和效率不高且存在安全隐患的技术问题。本发明包括：悬臂结构和样品搭载台，所述悬臂结构包括第一悬臂，所述第一悬臂为导光臂，所述导光臂包括臂壳、位于臂壳顶部的激光入射口、位于臂壳内部的导光组件以及位于臂壳下部的激光出射口，所述导光组件包括扩束镜、反射镜和扫描振镜；所述样品搭载台转动设置于所述悬臂结构的下方，且所述激光出射口朝向样品搭载台的一侧。本发明具有待切割样品无需转动，能保证安全，且方便切换多种激光器，切割精度和效率高等优点。
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公开(公告)号：CN119085906A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202411120947.6
申请日：2024-08-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 , 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01L5/00 , G06F30/20 , G06F111/10 , G06F119/08
Abstract: 本发明公开了一种利用多种场耦合分析熔石英激光抛光残余应力的方法，包括：通过构建的熔石英二氧化碳激光熔融抛光的等效热传导系数数值模拟分析获取熔石英激光抛光过程中各个时刻的温度场的步骤；通过构建的熔石英二氧化碳激光熔融抛光的等效结构弛豫时间常数数值模拟分析获取各个时刻表征熔石英结构的假想温度场的步骤；通过构建的冻结的温度场的等效热膨胀系数，数值模拟分析获取熔石英二氧化碳激光熔融抛光后的残余应力场的步骤。规避了熔石英二氧化碳激光熔融抛光涉及到的一系列复杂的物理过程的影响，简洁高效地实现了从熔石英激光抛光参数评估残余应力，尤其适用于对表面质量要求极高的熔石英元件激光抛光参数设计和残余应力控制。
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公开(公告)号：CN118428189B
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202410644780.7
申请日：2024-05-23
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开一种干法刻蚀表面微观形貌演化理论模拟方法、介质及产品，属于微纳加工领域，方法包括：首先，初始化晶格网络，统计所有晶格单元上可能发生的沉积、扩散和脱附等动理学事件，计算其发生概率，生成事件列表和事件概率列表；然后，根据事件发生概率的大小，采用蒙特卡洛方法从事件列表中随机选择一个事件来执行；如果选择事件为沉积事件，则在落点选择时引入阴影效应，通过对沉积粒子进行运动轨迹计算来确定其在刻蚀表面的落点。最后，执行所选择的动理学事件，更新刻蚀形貌、事件列表和事件概率列表，进行下一个模拟循环，直至达到所需的模拟时间和步数。本发明提供一种综合覆盖两种作用机制的理论模拟方法，提高模拟方法的准确性。
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公开(公告)号：CN118961717A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202411087432.0
申请日：2024-08-08
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请公开了一种光学元件表面颗粒污染诱导损伤判定装置及方法，涉及光学元件检测技术领域，该装置包括：激光系统、原位定位显微系统、在线透射率测量系统、原位光谱测试系统和上位机；激光系统向表面附着有颗粒污染物的待检测光学元件的表面发射激光；在线透射率测量系统用于测量待检测光学元件在激光辐照待检测光学元件之前和之后的透过率；原位光谱测试系统用于采集激光辐照待检测光学元件过程中的光谱信息；原位定位显微系统用于采集激光辐照待检测光学元件之前和之后待检测光学元件表面的图像；上位机根据两个透过率、光谱信息和两个图像判断待检测光学元件是否损伤。本申请可提高损伤判断的置信度。
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公开(公告)号：CN118455193A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410578668.8
申请日：2024-05-10
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种用于光学元件表面颗粒的去除装置，包括吸附系统、显微系统以及位置调节系统。本发明还提供一种用于光学元件表面颗粒的去除方法，位置调节系统带动吸附系统移动至靠近光学元件表面的微米颗粒处；声波发生器发出的声波振动能够减弱光学元件对表面微米级颗粒的吸附力，并使光学元件表面的微米颗粒聚集，在负压吸附器的负压作用下，聚集的颗粒由负压吸附器的吸附口被吸入负压吸附器的内腔，并由吸附管排出；利用显微系统观测光学元件表面的颗粒是否被去除。本发明采用非接触无损处理方式对光学元件表面微米颗粒进行去除，处理效果好，无二次污染产生，且对环境空间无要求，便携性好，处理效率高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117930501A
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202410269186.4
申请日：2024-03-08
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明属于光学元件技术领域，具体涉及一种涉氚光学元件干法无损去污除膜方法。本发明首先根据元件表面膜层和基底的折射率等光学特征参数，模拟计算元件透射率/反射率与膜层厚度间的函数关系曲线；接着，利用分光光度计光路对光学元件透射率/反射率进行在线监测，并依据模拟计算得到的透射率/反射率与膜层厚度关系曲线，实时计算监测剩余膜层厚度；采用反应离子束刻蚀的方法对光学元件进行去污和除膜处理，当在线监测显示膜层已被完全去除时，停止反应离子束刻蚀；最后，对元件表面的氚污染含量进行测量确认。本发明提供的方法绿色环保无氚化水产生，不破坏元件基底，可同步实现元件的去污和除膜两个目的。
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公开(公告)号：CN115826227A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211455581.9
申请日：2022-11-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明涉及一种光学系统非金属密封材料的洁净处理方法和评价方法，解决了真空环境中光学元件易受非金属密封材料污染的问题，本发明通过第一遍清洗、真空烘烤以及第二遍清洗，对光学系统中非金属密封材料进行洁净处理，使得非金属密封材料的污染得到有效去除，实现非金属密封材料的彻底洁净。本发明的洁净处理方法，处理效果好，具有可靠、经济、高效的特点，处理后的材料对光学系统影响小，能够确保光学元件维持较高光学特性。
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公开(公告)号：CN113021223B
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202110332917.1
申请日：2021-03-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B25B11/00
Abstract: 本发明涉及一种用于大口径平面反射镜的周圈少点夹持框及夹持方法，属于精密光机技术领域，夹持框包括框体、定位元件、压框和夹持元件，框体用于安装和夹持反射镜，定位元件的末端与反射镜相抵以定位反射镜，压框用于限制反射镜自框体内脱出，通过改变夹持元件与反射镜之间的间距，对反射镜的侧面及正面进行夹持，本发明借助夹持元件和定位元件，对反射镜的正面和侧面分别进行夹持，采用侧面中心线点夹持方式，降低夹持力对反射镜面形附加畸变的影响，从受力原理上保证夹持对反射镜面形的低应力性，结构可靠，夹持便捷，能够满足反射镜夹持附加面形畸变和夹持稳定性要求，有利于工程的批量推广。
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公开(公告)号：CN112355488B
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202011220524.3
申请日：2020-11-05
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/362 , B23K26/70 , B23K26/073
Abstract: 本发明公开了一种抗激光损伤的软边光阑制备方法，按照以下步骤进行：S1：调试聚焦CO2激光脉冲的功率和脉宽，利用聚焦CO2激光脉冲辐照熔石英表面，形成无裂纹的烧蚀凹坑点；S2：利用光弹法检测烧蚀凹坑点的残余应力是否为0；S3：利用凹坑点排列密度调控光的透射率，使软边光阑边缘CO2激光相爆炸烧蚀凹坑点的密度朝着靠近软边光阑边缘的方向逐渐增加。采用以上技术方案，制备的软边光阑激光损伤阈值高且经济高效，克服了超短激光脉冲制备软边光阑成本高昂的问题，解决了CO2激光制备软边光阑的热应力问题，不仅可以制备传统的圆孔、方孔和矩形孔软边光阑，并且可以灵活方便地制备圆环、方形环以及中心透射率调制的软边光阑等。
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公开(公告)号：CN109940606B
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN201910084066.6
申请日：2019-01-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开一种基于点云数据的机器人引导系统及方法，通过视觉分析机构将深度相机的数据转化为装配点位的位置信息，从而得到实时的准确位置关系，不论待装配工件是否改变位置，都能为后续机器人动作提供精准的位置信息，再通过手眼关系处理机构标定该位置，令装配机器人控制机构能够准确制定动作，实现快速准确的装配动作。
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