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公开(公告)号：CN119187951B
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202411747524.7
申请日：2024-12-02
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/38 , B23K26/08 , B23K26/70 , B23K26/064 , B23K26/082 , B23K26/046
Abstract: 本发明公开一种激光环切装置及其环切方法，属于激光环切技术领域，解决现有激光环切装置大多是被切割件自转而激光器固定，激光器不便于根据需要进行更换，切割精度和效率不高且存在安全隐患的技术问题。本发明包括：悬臂结构和样品搭载台，所述悬臂结构包括第一悬臂，所述第一悬臂为导光臂，所述导光臂包括臂壳、位于臂壳顶部的激光入射口、位于臂壳内部的导光组件以及位于臂壳下部的激光出射口，所述导光组件包括扩束镜、反射镜和扫描振镜；所述样品搭载台转动设置于所述悬臂结构的下方，且所述激光出射口朝向样品搭载台的一侧。本发明具有待切割样品无需转动，能保证安全，且方便切换多种激光器，切割精度和效率高等优点。
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公开(公告)号：CN119085906A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202411120947.6
申请日：2024-08-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 , 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01L5/00 , G06F30/20 , G06F111/10 , G06F119/08
Abstract: 本发明公开了一种利用多种场耦合分析熔石英激光抛光残余应力的方法，包括：通过构建的熔石英二氧化碳激光熔融抛光的等效热传导系数数值模拟分析获取熔石英激光抛光过程中各个时刻的温度场的步骤；通过构建的熔石英二氧化碳激光熔融抛光的等效结构弛豫时间常数数值模拟分析获取各个时刻表征熔石英结构的假想温度场的步骤；通过构建的冻结的温度场的等效热膨胀系数，数值模拟分析获取熔石英二氧化碳激光熔融抛光后的残余应力场的步骤。规避了熔石英二氧化碳激光熔融抛光涉及到的一系列复杂的物理过程的影响，简洁高效地实现了从熔石英激光抛光参数评估残余应力，尤其适用于对表面质量要求极高的熔石英元件激光抛光参数设计和残余应力控制。
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公开(公告)号：CN118428189B
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202410644780.7
申请日：2024-05-23
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开一种干法刻蚀表面微观形貌演化理论模拟方法、介质及产品，属于微纳加工领域，方法包括：首先，初始化晶格网络，统计所有晶格单元上可能发生的沉积、扩散和脱附等动理学事件，计算其发生概率，生成事件列表和事件概率列表；然后，根据事件发生概率的大小，采用蒙特卡洛方法从事件列表中随机选择一个事件来执行；如果选择事件为沉积事件，则在落点选择时引入阴影效应，通过对沉积粒子进行运动轨迹计算来确定其在刻蚀表面的落点。最后，执行所选择的动理学事件，更新刻蚀形貌、事件列表和事件概率列表，进行下一个模拟循环，直至达到所需的模拟时间和步数。本发明提供一种综合覆盖两种作用机制的理论模拟方法，提高模拟方法的准确性。
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公开(公告)号：CN117930501A
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202410269186.4
申请日：2024-03-08
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明属于光学元件技术领域，具体涉及一种涉氚光学元件干法无损去污除膜方法。本发明首先根据元件表面膜层和基底的折射率等光学特征参数，模拟计算元件透射率/反射率与膜层厚度间的函数关系曲线；接着，利用分光光度计光路对光学元件透射率/反射率进行在线监测，并依据模拟计算得到的透射率/反射率与膜层厚度关系曲线，实时计算监测剩余膜层厚度；采用反应离子束刻蚀的方法对光学元件进行去污和除膜处理，当在线监测显示膜层已被完全去除时，停止反应离子束刻蚀；最后，对元件表面的氚污染含量进行测量确认。本发明提供的方法绿色环保无氚化水产生，不破坏元件基底，可同步实现元件的去污和除膜两个目的。
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公开(公告)号：CN116297479A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310175409.6
申请日：2023-02-27
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种用于大口径光学元件损伤观测的无线侧照明装置及方法，包括对大口径光学元件进行固定的装调组件，还包括设置在待测大口径光学元件侧面，以提供损伤检测光源的照明模块；其中，所述照明模块通过相配合的线缆、接插件与装调组件上的供电模块电性连接。本发明提供一种用于大口径光学元件损伤观测的无线侧照明装置及方法，该装置无需单独外接有线电源，从而极大地扩展了大口径光学元件损伤观测的使用场景，观测时侧照明LED灯条可均匀辐照于整个大口径光学元件，根据观测距离和角度的不同，可分辨出表面或体内损伤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112355488B
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202011220524.3
申请日：2020-11-05
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/362 , B23K26/70 , B23K26/073
Abstract: 本发明公开了一种抗激光损伤的软边光阑制备方法，按照以下步骤进行：S1：调试聚焦CO2激光脉冲的功率和脉宽，利用聚焦CO2激光脉冲辐照熔石英表面，形成无裂纹的烧蚀凹坑点；S2：利用光弹法检测烧蚀凹坑点的残余应力是否为0；S3：利用凹坑点排列密度调控光的透射率，使软边光阑边缘CO2激光相爆炸烧蚀凹坑点的密度朝着靠近软边光阑边缘的方向逐渐增加。采用以上技术方案，制备的软边光阑激光损伤阈值高且经济高效，克服了超短激光脉冲制备软边光阑成本高昂的问题，解决了CO2激光制备软边光阑的热应力问题，不仅可以制备传统的圆孔、方孔和矩形孔软边光阑，并且可以灵活方便地制备圆环、方形环以及中心透射率调制的软边光阑等。
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公开(公告)号：CN113340504A
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202110788340.5
申请日：2021-07-13
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种从熔石英假想温度分布获取残余应力分布的方法，按照以下步骤进行：S1：构建熔石英的假想温度分布；S2：作出初始冻结状态曲线以及体积变化曲线；S3：计算各个位置的体积收缩量；S4：获得相对体积应变量的分布；S5：求解获得熔石英的残余应力分布。采用以上技术方案，简洁准确，易于实现，克服了现有方法评估残余应力复杂繁琐的技术问题，并解决了目前玻璃假想温度状态只表征其结构状态而不能通过其分布获取残余应力的难题；本方法不仅可以获得CO2激光作用后熔石英的残余应力分布，而且可以方便灵活地获得石英光纤的残余应力，在熔石英加工领域具有重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN105759389B
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：CN201610231486.9
申请日：2016-04-14
Applicant: 哈尔滨工业大学 , 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B7/00
Abstract: 具有平衡装置的大负载单端驱动移动平台，涉及一种大负载单端驱动移动平台。解决了现有单侧驱动易造成机构偏载，上升和下降过程中机构形变不同，影响设备的运行精度或安装过程中误差过大，会导致元件卡死在两侧导轨之间，造成设备损坏的问题。本发明的两个气缸结构的浮动接头的下端固定在承载框体的下边框的上表面，且浮动接头的上端与低摩擦力气缸杆螺纹连接，低摩擦力气缸杆在低摩擦力气缸体内做活塞运动，低摩擦力气缸体顶端穿过龙门横板与双耳环座固定链接，双耳环结构安装在龙门肋板上，双耳环结构(11)与双耳环座(12)之间通过气缸铰链轴铰接，实现相对旋转。本发明适用于作为单端驱动形成装置使用。
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公开(公告)号：CN105834636B
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201610231493.9
申请日：2016-04-14
Applicant: 哈尔滨工业大学 , 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B7/02
Abstract: 大口径曲面光学元件表面微缺陷修复用快速装夹随行夹具装置，涉及一种随行夹具。解决了现有光学元件随行夹具装置存在夹持不稳定、易划伤光学元件且夹持过程耗时的问题。本发明的夹具框体为矩形框架，夹具框体的底边框的下表面设有两个定位球头，且两个定位球头以夹具框体竖直方向的中线为对称轴对称设置，夹具框体的前侧设置有两个前挡板，且固定在夹具框体的底边框上，夹具框体的左右两个边框上分别设置有一个侧面顶柱，两个侧面顶柱均固定在夹具框体的后侧，夹具框的左右两个边框上的外侧分别设有一个球窝件，夹具框体的上边框上固定有上顶柱，底部定位夹持件的一端夹持在夹具框体下边框上。本发明适用于作为随行夹具使用。
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公开(公告)号：CN107036868A
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201710464476.4
申请日：2017-06-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明涉及激光修复领域。本发明提供了一种用于制备熔石英光学元件表面损伤的装置及方法，用于人为制备出熔石英光学元件的表面损伤，以供研究其修复过程，其技术方案可概括为：用于制备熔石英光学元件表面损伤的装置，其特征在于，包括光学平台、二维平移台、金刚石压针、配重装置、显微镜、支撑装置及控制终端，所述二维平移台及支撑装置分别与控制终端连接，受控制终端控制，显微镜与控制终端连接。本发明的有益效果是：简单方便，适用于人为制备出熔石英光学元件的表面损伤。
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