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公开(公告)号：CN107871828B
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN201710863857.X
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够减轻基板的面内的涂敷层的减压干燥速度的不均的减压干燥装置。本发明的减压干燥装置，包括：处理容器，其收纳形成有包含有机材料和溶剂的涂敷层的基板；在上述处理容器的内部从下方保持上述基板的基板保持部；与上述处理容器的排气口连接，将上述处理容器的内部减压的减压机构；和对从由上述基板保持部保持的上述基板的上表面附近向上述处理容器的排气口去的气流进行限制的气流限制部，上述气流限制部包括：在由上述基板保持部保持的上述基板的侧方遮挡气流的侧壁部；和在由上述基板保持部保持的上述基板的上方遮挡气流的顶部。
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公开(公告)号：CN107872914B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN201710863784.4
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05B33/10
Abstract: 本发明提供能够提高通过量的减压干燥系统。该减压干燥系统包括：第一减压干燥装置，其包括：收纳形成有包括有机材料和溶剂的涂敷层的基板的第一处理容器；在上述第一处理容器的内部保持上述基板的第一基板保持部；和将上述第一处理容器的内部减压至比大气压低的气压的第一减压机构，在气压比大气压低的减压气氛中使上述溶剂从上述涂敷层蒸发；和第二减压干燥装置，其包括：收纳从上述第一减压干燥装置搬送来的上述基板的第二处理容器；在上述第二处理容器的内部保持上述基板的第二基板保持部；和将上述第二处理容器的内部减压至比大气压低的气压的第二减压机构，在气压比大气压低的减压气氛中使残留于上述涂敷层的上述溶剂蒸发。
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公开(公告)号：CN110544752B
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN201910830977.9
申请日：2016-10-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统和基板处理系统的控制方法，能够在早期检测基板中涂敷有有机材料的涂敷区域的干燥状态。一种实施方式的基板处理系统包括拍摄部和干燥状态检测部。拍摄部对基板中涂敷有有机材料的涂敷区域进行拍摄。干燥状态检测部基于由拍摄部所拍摄的涂敷区域的色浓度来检测涂敷区域的干燥状态。
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公开(公告)号：CN107872914A
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201710863784.4
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05B33/10
CPC classification number: H05B33/10
Abstract: 本发明提供能够提高通过量的减压干燥系统。该减压干燥系统包括：第一减压干燥装置，其包括：收纳形成有包括有机材料和溶剂的涂敷层的基板的第一处理容器；在上述第一处理容器的内部保持上述基板的第一基板保持部；和将上述第一处理容器的内部减压至比大气压低的气压的第一减压机构，在气压比大气压低的减压气氛中使上述溶剂从上述涂敷层蒸发；和第二减压干燥装置，其包括：收纳从上述第一减压干燥装置搬送来的上述基板的第二处理容器；在上述第二处理容器的内部保持上述基板的第二基板保持部；和将上述第二处理容器的内部减压至比大气压低的气压的第二减压机构，在气压比大气压低的减压气氛中使残留于上述涂敷层的上述溶剂蒸发。
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公开(公告)号：CN107871828A
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201710863857.X
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , B05D3/0254 , H01L51/0026
Abstract: 本发明提供一种能够减轻基板的面内的涂敷层的减压干燥速度的不均的减压干燥装置。本发明的减压干燥装置，包括：处理容器，其收纳形成有包含有机材料和溶剂的涂敷层的基板；在上述处理容器的内部从下方保持上述基板的基板保持部；与上述处理容器的排气口连接，将上述处理容器的内部减压的减压机构；和对从由上述基板保持部保持的上述基板的上表面附近向上述处理容器的排气口去的气流进行限制的气流限制部，上述气流限制部包括：在由上述基板保持部保持的上述基板的侧方遮挡气流的侧壁部；和在由上述基板保持部保持的上述基板的上方遮挡气流的顶部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113036066A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202110263228.X
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够减轻基板的面内的涂敷层的减压干燥速度的不均的减压干燥装置。本发明的减压干燥装置，包括：处理容器，其收纳形成有包含有机材料和溶剂的涂敷层的基板；在上述处理容器的内部从下方保持上述基板的基板保持部；与上述处理容器的排气口连接，将上述处理容器的内部减压的减压机构；和对从由上述基板保持部保持的上述基板的上表面附近向上述处理容器的排气口去的气流进行限制的气流限制部，上述气流限制部包括：在由上述基板保持部保持的上述基板的侧方遮挡气流的侧壁部；和在由上述基板保持部保持的上述基板的上方遮挡气流的顶部。
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公开(公告)号：CN112974180A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202011436834.9
申请日：2020-12-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明的提供能够提高减压干燥处理的均匀性的减压干燥装置和减压干燥方法。本发明的一个方式的减压干燥装置进行使基片上的液体在减压状态下干燥的减压干燥处理。实施方式的减压干燥装置包括腔室、多个顶升销和工作台。腔室收纳基片，顶升销具有与基片的下表面接触的头部和与头部连接的杆部，能够在进行基片的交接时的上升位置与进行减压干燥处理时的下降位置之间升降。工作台具有多个供杆部插通的插通孔。此外，头部在上表面的至少一部分具有在下降位置与工作台的上表面成为一个面的平坦面。
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公开(公告)号：CN103247564A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201310048165.1
申请日：2013-02-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/687
Abstract: 本发明提供一种能够在相对于载物台搬入搬出被处理基板时能够稳定保持基板、防止基板的位置错位的基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置具备：能够载置被处理基板（G）的载物台（11）；能够升降地设置于上述载置台的周围、在上升位置向上述载物台的上方突出支承上述被处理基板的周缘部的多个支承销（16）；和使上述多个支承销升降移动的支承销升降机构（17），在上述多个支承销的上升位置，分别设置于上述载物台的至少一对相对的边侧的上述多个支承销，沿着上述载物台的边配置为支承位置的高度凹凸不同。
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公开(公告)号：CN101807005A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN201010103298.0
申请日：2010-01-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 植田稔彦
IPC: G03F7/16
Abstract: 本发明提供一种处理液供给系统和处理液供给方法。在对使用规定的处理液的装置供给存储在罐内的上述处理液的处理液供给系统中，在对上述装置供给处理液时也能对上述罐补充处理液，防止延长生产节拍时间。其包括：输出处理液的处理液存储罐；经由补充管路将用于补充到上述处理液存储罐的处理液供给到上述处理液存储罐的处理液补充部件；开闭上述补充管路的阀；将上述处理液存储罐内的压力调整为第一压力值的第一压力调整部件；将比上述阀更靠上述处理液补充部件侧的压力调整为高于上述第一压力值的第二压力值的第二压力调整部件，通过打开上述阀，从上述处理液存储罐对上述装置供给处理液，并从上述处理液补充部件对上述处理液存储罐供给处理液。
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公开(公告)号：CN114628279A
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202111461609.5
申请日：2021-12-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供观察装置、减压干燥装置、显示方法和存储介质。本发明要解决的技术问题是提高减压干燥处理中的基片的拍摄结果的便利性。本发明的观察装置包括：拍摄部，其用于对减压干燥处理中的基片进行拍摄，所述减压干燥处理用于使所述基片上的溶液在减压下进行干燥；和获取部，其用于将所述减压干燥处理中的各时刻的、由所述拍摄部拍摄得到的基片图像和用于进行所述减压干燥处理的减压干燥装置的与所述减压干燥处理相关的状态，与该时刻的时刻信息一起获取。
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