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公开(公告)号：CN111081599B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN201910993949.9
申请日：2019-10-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/68
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置和搬送位置校正方法，针对载置台高精度地搬送基板。基板处理装置具备：搬送机构，其具有保持基板的第一拾取器，用于搬送基板；检测机构，其检测由搬送机构搬送来的基板的位置；载置台，其设置于处理腔室内，用于载置基板；升降机构，其以相对于载置台进退自如的方式设置，用于使基板升降；以及控制装置，其控制搬送机构和升降机构。控制装置具备：调整部，其进行示教处理；检测部，其将基板从第一拾取器交接至载置台以及从载置台交接至第一拾取器，并利用检测机构来检测从载置台被交接至第一拾取器的基板的第一位置；以及校正部，其基于基板的第一位置与基准位置的偏移量来校正第一拾取器的位置。
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公开(公告)号：CN108933097B
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN201810503290.X
申请日：2018-05-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 新藤健弘
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种在真空气氛下输送基片的真空输送组件。真空输送组件(4)具有在装载互锁组件(3)与对基片进行真空处理的多个处理组件(6)之间输送基片(W)的基片输送机构(51)，还具有：内部形成真空气氛的箱体(41)；和接合件安装部(44)，其在箱体(41)的侧壁形成有多个，能够分别选择专门用来连接装载互锁组件(3)的第一接合件(45)和专门用来连接处理组件(6)的第二接合件(46)中的一者来安装，且对于该第一接合件(45)和第二接合件(46)是通用的。由此，能够提高与该真空输送组件连接的装载互锁组件和多个处理组件的配置的自由度。
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公开(公告)号：CN116207021A
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN202211467269.1
申请日：2022-11-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 新藤健弘
IPC: H01L21/677 , H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 一种使输送精度提高的基板输送装置及基板输送方法。该基板输送装置包括:瓷砖形状单元,其设于输送室,具有线圈和霍尔元件；输送单元,其具有永磁体,并且在上述瓷砖形状单元之上移动而输送基板；温度传感器,其对上述瓷砖形状单元中的温度进行检测；以及控制部,其基于由上述温度传感器的检测值获得的上述霍尔元件的温度及上述霍尔元件的检测值,推定上述输送单元的位置。
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公开(公告)号：CN106340479B
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：CN201610465321.8
申请日：2016-06-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明涉及一种基板输送方法和基板处理装置。提供一种能够提高基板输送的生产率并且能够抑制基板进一步发生偏移的基板输送方法。通过使晶圆的边缘经过被配置在用于向基板处理室输送晶圆的输送路径中的右侧传感器和左侧传感器的上方来在第一晶圆坐标系中获取四个边缘交叉点，基于四个边缘交叉点创建由相邻的两个边缘交叉点构成的基准边缘交叉点的组，并将不构成基准边缘交叉点的组的剩余两个边缘交叉点中的、存在于由根据构成基准边缘交叉点的组的两个边缘交叉点规定的两个圆围成的区域内的边缘交叉点挑选为有效边缘交叉点，将经过基准边缘交叉点和有效边缘交叉点的圆的中心位置获取为晶圆的中心位置。
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公开(公告)号：CN111081599A
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201910993949.9
申请日：2019-10-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/68
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置和搬送位置校正方法，针对载置台高精度地搬送基板。基板处理装置具备：搬送机构，其具有保持基板的第一拾取器，用于搬送基板；检测机构，其检测由搬送机构搬送来的基板的位置；载置台，其设置于处理腔室内，用于载置基板；升降机构，其以相对于载置台进退自如的方式设置，用于使基板升降；以及控制装置，其控制搬送机构和升降机构。控制装置具备：调整部，其进行示教处理；检测部，其将基板从第一拾取器交接至载置台以及从载置台交接至第一拾取器，并利用检测机构来检测从载置台被交接至第一拾取器的基板的第一位置；以及校正部，其基于基板的第一位置与基准位置的偏移量来校正第一拾取器的位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110491798A
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201910370477.1
申请日：2019-05-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 新藤健弘
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。其目的在于抑制基板处理装置的占用面积。所述基板处理装置具有：多边形的输送室；处理室，其经由基板的输送口与所述输送室连接；以及输送机构，其配置于所述输送室，用于经由所述输送口在所述输送室与所述处理室之间输送基板，所述输送室和所述处理室具有俯视时重叠的区域。
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公开(公告)号：CN1808691A
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：CN200510132164.0
申请日：2005-12-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 新藤健弘
IPC: H01L21/00 , H01L21/3065 , H01L21/20 , H01L21/67 , C23C14/00 , C23C16/00 , C23F1/12 , C23F4/00 , F16N1/00 , F16H57/04 , F16H25/20
CPC classification number: F16K51/02 , H01L21/67196 , Y10S414/135
Abstract: 在真空搬送腔室的内部配置有润滑脂供给机构，该润滑脂供给机构包括：在内部收容有润滑脂的有底筒状的润滑脂收容部；和闭塞润滑脂收容部的开口而配置的、能够与润滑脂收容部的内壁滑动移动的盖体。当按压并移动盖体时，润滑脂经过润滑脂供给口而注入到润滑脂注入口内。
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公开(公告)号：CN116960038A
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202310406115.X
申请日：2023-04-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供能够在包括能够利用磁力进行移动的多个输送体的基片输送装置中使用的输送体的路径设定系统中，减轻操作者的设定负担的路径设定系统、路径设定方法和软件。本发明的路径设定系统为在包括基片输送区域和多个输送体的基片输送装置中使用的各个所述输送体的路径设定系统，各个所述输送体包括用于支承基片的支承部、并且能够利用磁力从形成所述基片输送区域的底板浮起并移动，所述路径设定系统的特征在于，包括：虚拟区域设定部，其用于设定与所述基片输送区域对应的虚拟区域；路径生成部，其用于在所述虚拟区域中，对每个所述输送体生成从移动开始位置到移动结束位置的移动路径；和干扰判断部，其用于进行关于所述移动路径的干扰的判断。
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公开(公告)号：CN110491798B
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN201910370477.1
申请日：2019-05-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 新藤健弘
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。其目的在于抑制基板处理装置的占用面积。所述基板处理装置具有：多边形的输送室；处理室，其经由基板的输送口与所述输送室连接；以及输送机构，其配置于所述输送室，用于经由所述输送口在所述输送室与所述处理室之间输送基板，所述输送室和所述处理室具有俯视时重叠的区域。
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公开(公告)号：CN115223905A
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202210376413.4
申请日：2022-04-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 新藤健弘
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板搬送装置和基板搬送方法。在基板搬送装置中，设置于基板的搬送区域内的移动用区块具备移动面和能够改变磁场的状态的多个第一磁体，保持基板的基板搬送模块具备第二磁体，该第二磁体受到作用于该第二磁体与所述第一磁体的磁场之间的磁力的作用，所述基板搬送模块构成为能够在从所述移动面浮起的状态下沿所述移动面移动。检测部检测与基板搬送模块的实际的移动路径相对于所述设定路径的偏离的大小对应的指标值，校正参数计算部以使所述偏离的大小减小的方式计算校正参数。在之后的沿着所述设定路径进行的基板的搬送中，搬送控制部进行基于所述校正参数来改变用于使基板搬送模块移动的磁场的状态的校正。
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