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公开(公告)号：CN101213643A
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200780000047.6
申请日：2007-01-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/3185 , H01J37/32192 , H01J37/32238 , H01L21/28202 , H01L21/3144 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明涉及微波等离子体处理装置，说明了在微波等离子体处理装置中，作为微波透过窗使用的石英玻璃制的顶板的改良。使顶板的与基板W相面对的面的表面粗糙度为算术平均表面粗糙度Ra的0.2μm以下。这样，在微波等离子体处理中，即使顶板暴露在高电子密度和高电子温度的过度严酷的环境下，也可以将由构成顶板的石英玻璃材料引起的颗粒的发生抑制至最小限度。
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公开(公告)号：CN1511244A
公开(公告)日：2004-07-07
申请号：CN02810712.8
申请日：2002-10-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 山崎幸一
CPC classification number: H01L21/67248 , F25B21/02 , H01L21/67109
Abstract: 本发明提供装置自身小型化，并且设置空间也不象原来那样大的热介质循环装置。在热介质循环系统(78)中设置作为温度控制对象的温度被控制体、与热介质进行主要热交换的主热交换器(88)、循环泵(84)而构成的温度控制用的热介质循环装置，在前述主热交换器的下游侧的前述热介质循环系统中，设置使用热电冷却元件(100)的副热交换器(96)来进行前述热介质的温度控制。由此，装置自身小型化，并且也不需要原来那样大的设置空间。
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公开(公告)号：CN102753727A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201180006900.1
申请日：2011-03-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/44 , C23C16/50 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H05H1/46
CPC classification number: H01J37/16 , H01J37/32192 , H01J37/3222 , H01J2237/166
Abstract: 在电介质板（28）和盖部件（13）的支撑部（13a）之间具有环状的O型环（29a），并且在该O型环（29a）的外周侧设置有用于在处理容器（1）的上部配置的盖部件（13）的支撑部（13a）和电介质板（28）之间形成缝隙（d）的垫片（60）。即使处理容器（1）内的等离子体的热导致盖部件（13）和电介质板（28）热膨胀，通过缝隙（d），盖部件（13）和电介质板（28）也不会接触、摩擦，能够防止电介质板（28）的破损和颗粒的产生。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100494821C
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN02810712.8
申请日：2002-10-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 山崎幸一
CPC classification number: H01L21/67248 , F25B21/02 , H01L21/67109
Abstract: 本发明提供装置自身小型化，并且设置空间也不象原来那样大的热介质循环装置。在热介质循环系统(78)中设置作为温度控制对象的温度被控制体、与热介质进行主要热交换的主热交换器(88)、循环泵(84)而构成的温度控制用的热介质循环装置，在前述主热交换器的下游侧的前述热介质循环系统中，设置使用热电冷却元件(100)的副热交换器(96)来进行前述热介质的温度控制。由此，装置自身小型化，并且也不需要原来那样大的设置空间。
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公开(公告)号：CN300924694D
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200830113683.7
申请日：2008-03-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 1.后视图、仰视图和左视图分别与主视图、俯视图和右视图对称，
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公开(公告)号：CN301901949S
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：CN201130327097.4
申请日：2011-09-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 1.外观设计产品的名称：等离子体处理装置的衬里。2.外观设计产品的用途：本产品是设置在使用等离子体对基板进行蚀刻等处理的等离子体处理装置内壁上的衬里，用于防止处理容器的构成材料等造成金属污染。3.外观设计的设计要点：本外观设计的设计要点在于产品的形状。4.指定的图片或照片：立体图。
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公开(公告)号：CN301890754S
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN201130327095.5
申请日：2011-09-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 1.外观设计产品的名称：腔室块体。2.外观设计产品的用途：本产品是使用等离子体对基板进行蚀刻等处理的等离子体处理装置中的处理容器的一部分。3.外观设计的设计要点：本外观设计的设计要点在于产品的形状。4.指定的图片或照片：立体图。
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