公开(公告)号：CN102725834B

公开(公告)日：2015-04-01

申请号：CN201180007086.5

申请日：2011-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 高槻浩一 ,  山崎和良 ,  野口秀幸 ,  田村大辅 ,  齐藤智博

IPC: H01L21/318

CPC classification number: H01L21/02332 ,  H01J37/32192 ,  H01J2237/3387 ,  H01L21/0234

Abstract: 向等离子体氮化处理装置（100）的处理容器（1）中，导入包括氮气和稀有气体的处理气体，处理气体的流量在换算成每1L所述处理容器的容积的处理气体的合计流量[mL/min（sccm）]时处于1.5（mL/min）/L以上13（mL/min）/L以下的范围内，在处理容器（1）内产生含氮等离子体，更换晶片W并连续进行氮化处理。氮气和稀有气体的体积流量比（氮气/稀有气体）优选为0.05以上0.8以下的范围内。

公开(公告)号：CN102753727A

公开(公告)日：2012-10-24

申请号：CN201180006900.1

申请日：2011-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 米泽亮太 ,  高桥哲朗 ,  大崎良规 ,  铃木公贵 ,  齐藤智博 ,  山下润 ,  佐藤吉宏 ,  盐泽俊彦 ,  山崎幸一 ,  古木和弘

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/50 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/16 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H01J2237/166

Abstract: 在电介质板（28）和盖部件（13）的支撑部（13a）之间具有环状的O型环（29a），并且在该O型环（29a）的外周侧设置有用于在处理容器（1）的上部配置的盖部件（13）的支撑部（13a）和电介质板（28）之间形成缝隙（d）的垫片（60）。即使处理容器（1）内的等离子体的热导致盖部件（13）和电介质板（28）热膨胀，通过缝隙（d），盖部件（13）和电介质板（28）也不会接触、摩擦，能够防止电介质板（28）的破损和颗粒的产生。

公开(公告)号：CN115786888A

公开(公告)日：2023-03-14

申请号：CN202211072196.6

申请日：2022-09-02

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 唐泽宏之 ,  齐藤智博

IPC: C23C16/52 ,  C23C16/448

Abstract: 本发明提供原料供给装置、基片处理系统和剩余量估算方法，实现一种能够高精度地估算原料容器内的原料剩余量的技术。原料供给装置包括：收纳有固体或液体原料的原料容器；与原料容器连接、供载气流通的上游路径；与原料容器连接、供包含从原料产生的原料气体的气体流通的下游路径；不经原料容器地将上下游路径连接，使载气从上游路径向下游路径流通的旁通路径；将下游路径的流路开闭的下游侧阀；设置于上下游路径中的至少一者，检测该上游路径内或下游路径内压力的压力计；和剩余量估算部，其从压力计获取压力检测值，在原料气体开始从原料容器向下游路径流通时，基于打开下游侧阀时降低的压力检测值估算原料容器内的原料的剩余量。

公开(公告)号：CN102725834A

公开(公告)日：2012-10-10

申请号：CN201180007086.5

申请日：2011-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 高槻浩一 ,  山崎和良 ,  野口秀幸 ,  田村大辅 ,  齐藤智博

IPC: H01L21/318

CPC classification number: H01L21/02332 ,  H01J37/32192 ,  H01J2237/3387 ,  H01L21/0234

Abstract: 向等离子体氮化处理装置（100）的处理容器（1）中，导入包括氮气和稀有气体的处理气体，处理气体的流量在换算成每1L所述处理容器的容积的处理气体的合计流量[mL/min（sccm）]时处于1.5（mL/min）/L以上13（mL/min）/L以下的范围内，在处理容器（1）内产生含氮等离子体，更换晶片W并连续进行氮化处理。氮气和稀有气体的体积流量比（氮气/稀有气体）优选为0.05以上0.8以下的范围内。