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公开(公告)号：CN113161255A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202011576637.7
申请日：2020-12-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 本发明提供一种基片处理装置，其能够抑制在利用混合液的蚀刻处理结束时在混合部发生突沸反应。本发明的一个方式的基片处理装置包括升温部、混合部和释放部。升温部使硫酸升温。混合部将升温后的硫酸与含有水分的液体混合来生成混合液。释放部在基片处理部内对基片释放混合液。此外，混合部包括：合流部，其用于供升温后的硫酸流动的硫酸供给管路与供液体流动的液体供给管路合流；和反应抑制机构，其抑制合流部中的升温后的硫酸与液体的反应。
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公开(公告)号：CN116264174A
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN202211551531.0
申请日：2022-12-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明涉及喷嘴、基板处理装置以及基板处理方法。能够在使用流体与处理液的混合流体的液处理中将流体与处理液高效地混合。喷嘴是将包含加压后的纯水的蒸气或雾沫的流体与至少包含硫酸的处理液混合并喷出的喷嘴。喷嘴具备第1喷出口、第2喷出口以及导出路。第1喷出口喷出流体。第2喷出口喷出处理液。导出路与第1喷出口以及第2喷出口连通，用于导出从第1喷出口喷出来的流体和从第2喷出口喷出来的处理液的混合流体。另外，第1喷出口或第2喷出口配置为在平面视角下朝向自导出路的中心轴线偏离的位置。
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公开(公告)号：CN107851572A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201680044518.2
申请日：2016-07-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
CPC classification number: B08B17/025 , B08B3/02 , B08B3/022 , B08B3/08 , B08B2203/0264 , H01L21/02052 , H01L21/67051 , H01L21/68764
Abstract: 基板处理装置具备：固定杯体(51)，其包围基板保持部(31)并接受被供给到基板的处理液或处理液的雾，且相对于处理容器相对地不动；雾防护件(80)；以及防护件升降机构(84)，其使雾防护件升降。雾防护件以包围固定杯体的方式设置于固定杯体的外侧，对越过固定杯体的上方而向外方飞散的液进行阻断。雾防护件具有：筒状的筒部(81)；以及伸出部(82)，其从筒部的上端朝且向固定杯体的侧伸出。
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公开(公告)号：CN118039528A
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202311416316.4
申请日：2023-10-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/02 , B08B3/02
Abstract: 本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。提供去除药液的残渣的技术。基板处理装置具备基板保持部、旋转驱动部、第1旋转环、第2旋转环以及第1喷嘴。基板保持部包括水平的底板和抓持基板的周缘的多个把持部，利用多个把持部以使基板从底板分离开的方式将基板保持为水平。旋转驱动部使基板保持部旋转。第1旋转环将在基板保持部保持的基板的下表面的周缘包围，与基板保持部一起旋转。第2旋转环设于第1旋转环的外侧，将在基板保持部保持的基板的上表面的周缘包围，与基板保持部一起旋转。第1喷嘴从在第1旋转环和第2旋转环之间形成的旋转流路的入口的上方，朝向旋转流路的入口喷出清洗液。
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公开(公告)号：CN114401801B
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202080064746.2
申请日：2020-09-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明的一个方式的处理液喷嘴包括超声波施加部(60)、第一供给流路(71)、释放流路(72)和第二供给流路(73)。超声波施加部(60)具有产生超声波的振子(61)和与振子(61)接合的振动体(62)。第一供给流路(71)对与超声波施加部(60)的振动体(62)接触的位置供给第一液体(L1)。释放流路(72)将由超声波施加部(60)施加了超声波的第一液体(L1)供给到释放口(74)。第二供给流路(73)连接在释放流路(72)的比超声波施加部(60)靠下游侧的位置，对释放流路(72)供给第二液体(L2)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114975169A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210127703.5
申请日：2022-02-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本公开涉及基板处理装置、基板处理方法和计算机可读取的存储介质，能够提高蚀刻处理的面内均匀性。基板处理装置具有支承部、基座构件、旋转部、气体供给部、以及气体整流部。气体整流部包含：棒状构件，其包含与基板的下表面相对的顶端部；整流构件，其配置为包围顶端部。顶端部包含以自顶端部的外周面向外侧突出后朝向下方延伸的方式设于外周面的折回部。整流构件包含：底壁部，其配置为内周缘与顶端部的外周面分离开；突出部，其以顶端部位于折回部和顶端部的外周面之间的方式自底壁部的内周部朝向上方延伸；水平整流部，其以与底壁部分离开的状态沿水平方向延伸；以及多个柱部，其连接水平整流部和底壁部。
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公开(公告)号：CN114420551A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202111159129.3
申请日：2021-09-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/306 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法和基板处理装置，能够抑制在液处理中使基板被污染。基于本公开的一个方式的基板处理方法包括处理液喷出工序和混合流体喷出工序。在处理液喷出工序中，向基板喷出将硫酸和过氧化氢水溶液混合生成的处理液。在混合流体喷出工序中，向被喷出有处理液的基板喷出将处理液与蒸汽状或雾状的纯水混合生成的混合流体。
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公开(公告)号：CN107851572B
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN201680044518.2
申请日：2016-07-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 基板处理装置具备：固定杯体(51)，其包围基板保持部(31)并接受被供给到基板的处理液或处理液的雾，且相对于处理容器相对地不动；雾防护件(80)；以及防护件升降机构(84)，其使雾防护件升降。雾防护件以包围固定杯体的方式设置于固定杯体的外侧，对越过固定杯体的上方而向外方飞散的液进行阻断。雾防护件具有：筒状的筒部(81)；以及伸出部(82)，其从筒部的上端朝且向固定杯体的侧伸出。
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公开(公告)号：CN115565925A
公开(公告)日：2023-01-03
申请号：CN202210728783.X
申请日：2022-06-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/687 , H01L21/67
Abstract: 本公开提供一种基板处理装置和防雾件的清洗方法。基板处理装置具备：保持部，其保持基板；驱动部，其驱动保持部以使保持部旋转；内侧杯体，其以从保持于保持部的基板的外侧包围基板的方式设置于保持部；防雾件，其以使保持部和内侧杯体位于该防雾件的内部的方式从保持部和内侧杯体的外侧包围保持部和内侧杯体，并且构成为能够进行升降；清洗液供给部，其供给清洗液；以及控制部。控制部构成为执行以下处理：第一处理，在基板保持于保持部且防雾件上升了的状态下，从处理液供给部向基板供给处理液；以及第二处理，在第一处理之后，在从保持部搬出基板且防雾件上升了的状态下，使从清洗液供给部供给的清洗液飞散到防雾件的整个内周面。
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公开(公告)号：CN114401801A
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202080064746.2
申请日：2020-09-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明的一个方式的处理液喷嘴包括超声波施加部(60)、第一供给流路(71)、释放流路(72)和第二供给流路(73)。超声波施加部(60)具有产生超声波的振子(61)和与振子(61)接合的振动体(62)。第一供给流路(71)对与超声波施加部(60)的振动体(62)接触的位置供给第一液体(L1)。释放流路(72)将由超声波施加部(60)施加了超声波的第一液体(L1)供给到释放口(74)。第二供给流路(73)连接在释放流路(72)的比超声波施加部(60)靠下游侧的位置，对释放流路(72)供给第二液体(L2)。
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