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公开(公告)号：CN116264174A
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN202211551531.0
申请日：2022-12-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明涉及喷嘴、基板处理装置以及基板处理方法。能够在使用流体与处理液的混合流体的液处理中将流体与处理液高效地混合。喷嘴是将包含加压后的纯水的蒸气或雾沫的流体与至少包含硫酸的处理液混合并喷出的喷嘴。喷嘴具备第1喷出口、第2喷出口以及导出路。第1喷出口喷出流体。第2喷出口喷出处理液。导出路与第1喷出口以及第2喷出口连通，用于导出从第1喷出口喷出来的流体和从第2喷出口喷出来的处理液的混合流体。另外，第1喷出口或第2喷出口配置为在平面视角下朝向自导出路的中心轴线偏离的位置。
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公开(公告)号：CN114289224A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202111164695.3
申请日：2021-09-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B05B15/555 , B05B15/55 , H01L21/67
Abstract: 本发明涉及液处理装置和清洗方法。使附着于内杯的涂布液不会在清洗了液处理装置的内杯之后残留。一种在基板上涂布涂布液的液处理装置，其包括：保持部，其保持基板并使其旋转；涂布液供给部，其向被保持部保持着的基板供给涂布液；外杯，其围绕被保持部保持着的基板的周边；以及内杯，其设于外杯的内侧，自侧方包围保持部，该内杯的周缘侧上表面自顶部随着朝向径向外方去而下降倾斜，该顶部位于被保持部保持着的基板的周缘侧的下方，内杯具有在顶部沿着周向形成有多个的喷出孔，使自喷出孔喷出来的清洗液沿着附着有涂布液的内杯的周缘侧上表面流下，从而对该周缘侧上表面进行清洗，喷出孔形成为向径向外方且斜上方喷出清洗液。
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公开(公告)号：CN104854681B
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201380065321.3
申请日：2013-12-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B5/00 , B08B5/02 , B08B5/023 , H01L21/67028 , H01L21/67034
Abstract: 基板液体处理装置包括：保持晶片进行旋转的卡盘(13)；向晶片的背面喷射吹扫气体的背面吹扫喷嘴(15)；和将吹扫气体喷到晶片的背面的周缘吹扫喷嘴(16)。背面吹扫喷嘴具有当俯视时从基板的中心侧延伸到周缘侧的缝隙状的开口部(15a)，该缝隙状的开口部与由卡盘保持的基板之间的铅直方向距离随着靠近该开口部的基板中心侧的端部而变宽。周缘吹扫喷嘴向着基板的背面中的、比背面吹扫喷嘴的缝隙状的开口部的基板周缘侧的端部更靠外侧且比基板的周缘的端面靠内侧的区域，将吹扫气体喷向基板的中心部。
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公开(公告)号：CN112346303A
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN202010736750.0
申请日：2020-07-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基片处理装置。基片处理装置包括：遮罩部件，其配置成包围由旋转保持部保持的基片的周围；收集部件，其配置于遮罩部件与旋转保持部之间的排气路径；和溶剂供给部，其配置在收集部件的上方，构成为能够对收集部件供给溶剂。溶剂供给部包括：内侧贮存室，其构成为当从上方观察时包围基片的周围；外侧贮存室，其构成为当从上方观察时包围内侧贮存室的周围；和分隔壁，其以划分出内侧贮存室和外侧贮存室的方式沿周向延伸。多个连通孔以被导入到外侧贮存室的溶剂能够向内侧贮存室流通的方式贯通分隔壁地形成。多个滴落孔以内侧贮存室内的溶剂能够向收集部件滴落的方式贯通内侧贮存室的底壁地形成。本发明能够有效地除去棉状块。
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公开(公告)号：CN104854681A
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201380065321.3
申请日：2013-12-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B5/00 , B08B5/02 , B08B5/023 , H01L21/67028 , H01L21/67034 , H01L21/6708
Abstract: 基板液体处理装置包括：保持晶片进行旋转的卡盘(13)；向晶片的背面喷射吹扫气体的背面吹扫喷嘴(15)；和将吹扫气体喷到晶片的背面的周缘吹扫喷嘴(16)。背面吹扫喷嘴具有当俯视时从基板的中心侧延伸到周缘侧的缝隙状的开口部(15a)，该缝隙状的开口部与由卡盘保持的基板之间的铅直方向距离随着靠近该开口部的基板中心侧的端部而变宽。周缘吹扫喷嘴向着基板的背面中的、比背面吹扫喷嘴的缝隙状的开口部的基板周缘侧的端部更靠外侧且比基板的周缘的端面靠内侧的区域，将吹扫气体喷向基板的中心部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117917761A
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202311358288.5
申请日：2023-10-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明涉及杯、液处理装置以及液处理方法。调整作为液处理对象的基板的周围的气流而使处理状况成为期望的处理状况。本公开的杯具备：流路形成构件，其在杯内的比基板靠该杯的周缘侧的位置，从下向上按顺序分别形成第1排气路径、飞散物回收路径、第2排气路径；合流排气路径，其以使第1排气路径、飞散物回收路径、第2排气路径分别朝向杯的周缘侧一并地排气的方式与该各路径连接；第1环状部，其包含在流路形成构件，在上方形成飞散物回收路径，在下方形成第1排气路径，并沿着基板的外周形成；以及连通孔，其为了使飞散物回收路径和合流排气路径连通而设于流路形成构件，相比于第1环状部和基板所构成的间隙，该连通孔的压力损失较大。
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公开(公告)号：CN116991038A
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN202310409583.2
申请日：2023-04-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/16
Abstract: 本发明涉及气流形成装置。通过抑制处理空间内风速的变化来抑制液处理后的基板的膜厚的偏差。气流形成单元(2)从涂敷处理部(100)的上方向去向该涂敷处理部(100)的处理空间(PS)的下方产生气流。气流形成单元(2)包括将导入的气体从与处理空间(PS)相对的吹出面(12a)向下方吹出的气体供给部(10)。此外，气流形成单元(2)包括在吹出面(12a)的下方且是处理空间(PS)的上方以包围处理空间(PS)的正上方的开口部(300)的方式配置的气流控制板(50)。气流控制板(50)针对从吹出面(12a)吹出到下方的气体在开口部(300)的周边形成环状的强气流形成区域(SA)，在该强气流形成区域(SA)产生有比其外侧的区域强的气流。
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公开(公告)号：CN221226168U
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202322810514.0
申请日：2023-10-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本实用新型涉及杯以及液处理装置。调整作为液处理对象的基板的周围的气流而使处理状况成为期望的处理状况。本实用新型的杯具备：流路形成构件，其在杯内的比基板靠该杯的周缘侧的位置，从下向上按顺序分别形成第1排气路径、飞散物回收路径、第2排气路径；合流排气路径，其以使第1排气路径、飞散物回收路径、第2排气路径分别朝向杯的周缘侧一并地排气的方式与该各路径连接；第1环状部，其包含在流路形成构件，在上方形成飞散物回收路径，在下方形成第1排气路径，并沿着基板的外周形成；以及连通孔，其为了使飞散物回收路径和合流排气路径连通而设于流路形成构件，相比于第1环状部和基板所构成的间隙，该连通孔的压力损失较大。
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公开(公告)号：CN216631347U
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202122398639.8
申请日：2021-09-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B05B15/555 , B05B15/55 , H01L21/67
Abstract: 本实用新型涉及液处理装置，其使附着于内杯的涂布液不会在清洗了液处理装置的内杯之后残留。一种在基板上涂布涂布液的液处理装置，其包括：保持部，其保持基板并使其旋转；涂布液供给部，其向被保持部保持着的基板供给涂布液；外杯，其围绕被保持部保持着的基板的周边；以及内杯，其设于外杯的内侧，自侧方包围保持部，该内杯的周缘侧上表面自顶部随着朝向径向外方去而下降倾斜，该顶部位于被保持部保持着的基板的周缘侧的下方，内杯具有在顶部沿着周向形成有多个的喷出孔，使自喷出孔喷出来的清洗液沿着附着有涂布液的内杯的周缘侧上表面流下，从而对该周缘侧上表面进行清洗，喷出孔形成为向径向外方且斜上方喷出清洗液。
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公开(公告)号：CN219370972U
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202223248445.0
申请日：2022-12-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本实用新型涉及喷嘴以及基板处理装置。能够在使用流体与处理液的混合流体的液处理中将流体与处理液高效地混合。喷嘴是将包含加压后的纯水的蒸气或雾沫的流体与至少包含硫酸的处理液混合并喷出的喷嘴。喷嘴具备第1喷出口、第2喷出口以及导出路。第1喷出口喷出流体。第2喷出口喷出处理液。导出路与第1喷出口以及第2喷出口连通，用于导出从第1喷出口喷出来的流体和从第2喷出口喷出来的处理液的混合流体。另外，第1喷出口或第2喷出口配置为在平面视角下朝向自导出路的中心轴线偏离的位置。
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