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公开(公告)号：CN115565925A
公开(公告)日：2023-01-03
申请号：CN202210728783.X
申请日：2022-06-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/687 , H01L21/67
Abstract: 本公开提供一种基板处理装置和防雾件的清洗方法。基板处理装置具备：保持部，其保持基板；驱动部，其驱动保持部以使保持部旋转；内侧杯体，其以从保持于保持部的基板的外侧包围基板的方式设置于保持部；防雾件，其以使保持部和内侧杯体位于该防雾件的内部的方式从保持部和内侧杯体的外侧包围保持部和内侧杯体，并且构成为能够进行升降；清洗液供给部，其供给清洗液；以及控制部。控制部构成为执行以下处理：第一处理，在基板保持于保持部且防雾件上升了的状态下，从处理液供给部向基板供给处理液；以及第二处理，在第一处理之后，在从保持部搬出基板且防雾件上升了的状态下，使从清洗液供给部供给的清洗液飞散到防雾件的整个内周面。
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公开(公告)号：CN107527839A
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201710471653.1
申请日：2017-06-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
CPC classification number: B08B13/00 , B08B3/041 , B08B3/08 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/67173 , H01L21/67023
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板处理装置的清洗方法和存储介质。其中，对液体承接杯的杯体的突出部均匀地进行清洗。使第1杯体(51)和第2杯体(52)中任一者升降而使两者设为接近的状态。此时，在第1突出部(5102)的下表面形成的间隙形成部(5106)与第2突出部(5202)的上表面之间的第1间隙(G1)比第1突出部的没有间隙形成部的部分与第2突出部的上表面之间的第2间隙(G2)小。在该状态下，向第2间隙供给清洗液。欲沿着半径方向朝外流动的清洗液的运动被较窄的第1间隙限制，因此，第1突出部与第2突出部之间的空间的整个区域能够由清洗液充满，能够对清洗对象面均匀地进行清洗。
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公开(公告)号：CN112349621B
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202010756171.2
申请日：2020-07-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及其制造方法。针对从喷嘴单元喷出的处理液具有充分的耐蚀性，且可靠地防止所喷出的处理液的带电。基板处理装置具有喷嘴单元。喷嘴单元具备配管和设置到配管的顶端的喷头，配管具有第1层、第2层以及第3层。喷头由具有导电性的耐蚀性树脂形成。第3层从外方覆盖第1层和第2层，并且从外方覆盖喷头的一部分。
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公开(公告)号：CN113161255A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202011576637.7
申请日：2020-12-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 本发明提供一种基片处理装置，其能够抑制在利用混合液的蚀刻处理结束时在混合部发生突沸反应。本发明的一个方式的基片处理装置包括升温部、混合部和释放部。升温部使硫酸升温。混合部将升温后的硫酸与含有水分的液体混合来生成混合液。释放部在基片处理部内对基片释放混合液。此外，混合部包括：合流部，其用于供升温后的硫酸流动的硫酸供给管路与供液体流动的液体供给管路合流；和反应抑制机构，其抑制合流部中的升温后的硫酸与液体的反应。
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公开(公告)号：CN112349621A
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN202010756171.2
申请日：2020-07-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及其制造方法。针对从喷嘴单元喷出的处理液具有充分的耐蚀性，且可靠地防止所喷出的处理液的带电。基板处理装置具有喷嘴单元。喷嘴单元具备配管和设置到配管的顶端的喷头，配管具有第1层、第2层以及第3层。喷头由具有导电性的耐蚀性树脂形成。第3层从外方覆盖第1层和第2层，并且从外方覆盖喷头的一部分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116264174A
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN202211551531.0
申请日：2022-12-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明涉及喷嘴、基板处理装置以及基板处理方法。能够在使用流体与处理液的混合流体的液处理中将流体与处理液高效地混合。喷嘴是将包含加压后的纯水的蒸气或雾沫的流体与至少包含硫酸的处理液混合并喷出的喷嘴。喷嘴具备第1喷出口、第2喷出口以及导出路。第1喷出口喷出流体。第2喷出口喷出处理液。导出路与第1喷出口以及第2喷出口连通，用于导出从第1喷出口喷出来的流体和从第2喷出口喷出来的处理液的混合流体。另外，第1喷出口或第2喷出口配置为在平面视角下朝向自导出路的中心轴线偏离的位置。
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公开(公告)号：CN107871693B
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN201710864350.6
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 提供一种基板处理装置和处理液供给方法。能够更准确地进行利用期望的温度的SPM液的处理。该基板处理装置具备：处理液供给机构(70)，其向基板供给SPM液；温度调整部(加热器)(303)，其用于对从处理液供给机构(70)向基板供给时的SPM液的温度进行调整；获取部(温度传感器)(80)，其用于获取基板的表面上的SPM液的温度信息；以及控制部(18)，其根据由获取部(温度传感器)(80)获取到的SPM液的温度信息来设定温度调整部(加热器)(303)中的调整量，其中，温度调整部(加热器)(303)基于由控制部(18)设定的调整量来对向基板供给时的SPM液的温度进行调整。
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公开(公告)号：CN114762088A
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202080082687.1
申请日：2020-11-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304 , B05C11/08 , B05C11/10
Abstract: 本公开的一形态的处理基板液处理装置(16)具有杯(30)、多个喷嘴循环循环系统(40)、第2喷嘴(61)以及收纳部(70)。杯(30)包围基板的周缘。多个喷嘴循环系统(40)均包含第1喷嘴(41)、受液槽(42)以及循环部(43)，该受液槽(42)配置于杯(30)的外侧，用于接收从第1喷嘴(41)喷出的处理液，该循环部(43)使由受液槽(42)接收到的处理液向第1喷嘴(41)返回。第2喷嘴(61)是不构成喷嘴循环系统(40)的喷嘴。收纳部(70)收纳杯(30)、多个喷嘴循环系统(40)所具有的多个第1喷嘴(41)和多个受液槽(42)、以及第2喷嘴(62)。另外，第2喷嘴(61)配置于收纳部(70)所具有的第1侧壁(71b)和杯(30)之间，多个第1喷嘴(41)配置于收纳部(70)所具有的与第1侧壁(71b)不同的第2侧壁(71a)和杯(30)之间。
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公开(公告)号：CN114256103A
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202111390584.4
申请日：2017-01-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种能够将附着到杯状件的周壁部的异物去除的基板处理装置和基板处理装置的清洗方法。实施方式的一技术方案的基板处理装置包括保持部、处理液供给部、第1杯状件、第2杯状件以及清洗液供给部。保持部用于保持基板。处理液供给部用于向基板供给第1处理液和第2处理液。第1杯状件具有周壁部，用于将第1处理液回收于由周壁部形成的回收部中。第2杯状件与第1杯状件相邻地配置，用于对第2处理液进行回收。清洗液供给部用于将清洗液向第1杯状件的回收部供给。在基板处理装置中，通过使由清洗液供给部供给来的清洗液从周壁部向第2杯状件侧溢流，来对周壁部进行清洗。
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公开(公告)号：CN106960807B
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN201710022808.3
申请日：2017-01-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种能够将附着到杯状件的周壁部的异物去除的基板处理装置和基板处理装置的清洗方法。实施方式的一技术方案的基板处理装置包括保持部、处理液供给部、第1杯状件、第2杯状件以及清洗液供给部。保持部用于保持基板。处理液供给部用于向基板供给第1处理液和第2处理液。第1杯状件具有周壁部，用于将第1处理液回收于由周壁部形成的回收部中。第2杯状件与第1杯状件相邻地配置，用于对第2处理液进行回收。清洗液供给部用于将清洗液向第1杯状件的回收部供给。在基板处理装置中，通过使由清洗液供给部供给来的清洗液从周壁部向第2杯状件侧溢流，来对周壁部进行清洗。
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