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公开(公告)号：CN110880462B
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN201910827312.2
申请日：2019-09-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及基片状态判断装置及方法、基片处理装置和模型生成装置。本发明的一个方式的基片状态判断装置包括：拍摄载置于载置台的基片的拍摄部；学习部，其使用在上述基片的图像添加了表示基片的状态的信息而得的训练数据进行机械学习，来生成基片状态判断模型，上述基片状态判断模型以上述基片的图像为输入、以关于与该基片的图像对应的基片的状态的值为输出；和判断部，其使用由上述学习部生成的上述基片状态判断模型，判断与由上述拍摄部拍摄的上述基片的图像对应的上述基片的状态。本发明能够以高精度检测在半导体制造装置中载置于载置台的基片的状态。
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公开(公告)号：CN101443897A
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200780017545.1
申请日：2007-05-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 佐藤淳哉
CPC classification number: G06T7/11 , G06T7/136 , G06T2207/30141 , G06T2207/30148
Abstract: 一种二值化方法，将拍摄基板上的电极极板得到的原图像二值化。该方法具备如下步骤：电极图像处理步骤，利用第一阈值将原图像二值化，生成电极的二值图像；接触痕迹区域算出步骤，根据电极的二值图像算出包含被假设为物体接触电极得到的痕迹的部分的接触痕迹区域；接触痕迹图像处理步骤，利用与第一阈值不同的第二阈值将相当于接触痕迹区域的区域的原图像二值化，生成接触痕迹区域二值图像；以及图像合成步骤，对电极的二值图像和接触痕迹二值图像对应的每个像素取逻辑和来进行合成。
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公开(公告)号：CN110880462A
公开(公告)日：2020-03-13
申请号：CN201910827312.2
申请日：2019-09-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及基片状态判断装置及方法、基片处理装置和模型生成装置。本发明的一个方式的基片状态判断装置包括：拍摄载置于载置台的基片的拍摄部；学习部，其使用在上述基片的图像添加了表示基片的状态的信息而得的训练数据进行机械学习，来生成基片状态判断模型，上述基片状态判断模型以上述基片的图像为输入、以关于与该基片的图像对应的基片的状态的值为输出；和判断部，其使用由上述学习部生成的上述基片状态判断模型，判断与由上述拍摄部拍摄的上述基片的图像对应的上述基片的状态。本发明能够以高精度检测在半导体制造装置中载置于载置台的基片的状态。
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公开(公告)号：CN109979868B
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN201811515565.8
申请日：2018-12-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种搬送装置的示教方法，能够抑制铅垂方向的示教精度的偏差。在一个实施方式的搬送装置的示教方法中，搬送装置具有：基板保持部，其具备用于通过抽吸来吸附保持基板的抽吸孔；驱动机构，其使基板保持部移动；以及压力检测部，其检测与抽吸孔连通的抽吸路径的压力，搬送装置的示教方法包括以下步骤：第一移动步骤，使基板保持部移动到基板的下方；第二移动步骤，在对抽吸路径进行抽吸的状态下检测抽吸路径的压力，并且使基板保持部从基板的下方朝向上方移动；判定步骤，基于抽吸路径的压力来判定基板保持部是否接触到基板；以及存储步骤，将判定为基板保持部接触到基板时的基板保持部的位置存储为基准位置。
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公开(公告)号：CN109979868A
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201811515565.8
申请日：2018-12-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种搬送装置的示教方法，能够抑制铅垂方向的示教精度的偏差。在一个实施方式的搬送装置的示教方法中，搬送装置具有：基板保持部，其具备用于通过抽吸来吸附保持基板的抽吸孔；驱动机构，其使基板保持部移动；以及压力检测部，其检测与抽吸孔连通的抽吸路径的压力，搬送装置的示教方法包括以下步骤：第一移动步骤，使基板保持部移动到基板的下方；第二移动步骤，在对抽吸路径进行抽吸的状态下检测抽吸路径的压力，并且使基板保持部从基板的下方朝向上方移动；判定步骤，基于抽吸路径的压力来判定基板保持部是否接触到基板；以及存储步骤，将判定为基板保持部接触到基板时的基板保持部的位置存储为基准位置。
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公开(公告)号：CN101443897B
公开(公告)日：2010-07-28
申请号：CN200780017545.1
申请日：2007-05-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 佐藤淳哉
CPC classification number: G06T7/11 , G06T7/136 , G06T2207/30141 , G06T2207/30148
Abstract: 一种二值化方法，将拍摄基板上的电极极板得到的原图像二值化。该方法具备如下步骤：电极图像处理步骤，利用第一阈值将原图像二值化，生成电极的二值图像；接触痕迹区域算出步骤，根据电极的二值图像算出包含被假设为物体接触电极得到的痕迹的部分的接触痕迹区域；接触痕迹图像处理步骤，利用与第一阈值不同的第二阈值将相当于接触痕迹区域的区域的原图像二值化，生成接触痕迹区域二值图像；以及图像合成步骤，对电极的二值图像和接触痕迹二值图像对应的每个像素取逻辑和来进行合成。
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