公开(公告)号：CN109979868A

公开(公告)日：2019-07-05

申请号：CN201811515565.8

申请日：2018-12-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小林俊之 ,  北原竜 ,  越石和也 ,  佐藤淳哉 ,  须藤骏 ,  千叶俊光

IPC: H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种搬送装置的示教方法，能够抑制铅垂方向的示教精度的偏差。在一个实施方式的搬送装置的示教方法中，搬送装置具有：基板保持部，其具备用于通过抽吸来吸附保持基板的抽吸孔；驱动机构，其使基板保持部移动；以及压力检测部，其检测与抽吸孔连通的抽吸路径的压力，搬送装置的示教方法包括以下步骤：第一移动步骤，使基板保持部移动到基板的下方；第二移动步骤，在对抽吸路径进行抽吸的状态下检测抽吸路径的压力，并且使基板保持部从基板的下方朝向上方移动；判定步骤，基于抽吸路径的压力来判定基板保持部是否接触到基板；以及存储步骤，将判定为基板保持部接触到基板时的基板保持部的位置存储为基准位置。

公开(公告)号：CN1842242A

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：CN200610066499.1

申请日：2006-03-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松本直树 ,  田中秀朗 ,  藤原尚 ,  舆水地盐 ,  小岩史明 ,  小林俊之 ,  仲山阳一 ,  中村博

IPC: H05H1/46 ,  H01J37/32 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32091 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32174

Abstract: 本发明提供除高频电力之外，以施加直流电压的电容结合型等离子体处理装置为前提，可以得到良好的等离子体的等离子体处理装置和等离子体处理方法。在腔室(10)内相对配置的上部电极(34)和下部电极(16)之间形成处理气体的等离子体，在晶片(W)上进行等离子体蚀刻的等离子体蚀刻装置中，具有将高频电力供给到上部电极(34)，用于形成等离子体的高频电源(48)；将直流电压施加到上部电极(34)的直流电源(50)和控制高频电源(48)与可变直流电源(50)的控制部(95)。控制部(95)进行控制，使得在开始从高频电源(18)供电的时刻或其后，使从可变直流电源(50)施加的电压成设定值。

公开(公告)号：CN100591190C

公开(公告)日：2010-02-17

申请号：CN200610066499.1

申请日：2006-03-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松本直树 ,  田中秀朗 ,  藤原尚 ,  舆水地盐 ,  小岩史明 ,  小林俊之 ,  仲山阳一 ,  中村博

IPC: H05H1/46 ,  H01J37/32 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32091 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32174

Abstract: 本发明提供除高频电力之外，以施加直流电压的电容结合型等离子体处理装置为前提，可以得到良好的等离子体的等离子体处理装置和等离子体处理方法。在腔室(10)内相对配置的上部电极(34)和下部电极(16)之间形成处理气体的等离子体，在晶片(W)上进行等离子体蚀刻的等离子体蚀刻装置中，具有将高频电力供给到上部电极(34)，用于形成等离子体的高频电源(48)；将直流电压施加到上部电极(34)的直流电源(50)和控制高频电源(48)与可变直流电源(50)的控制部(95)。控制部(95)进行控制，使得在开始从高频电源(18)供电的时刻或其后，使从可变直流电源(50)施加的电压成设定值。

公开(公告)号：CN100397569C

公开(公告)日：2008-06-25

申请号：CN200610003291.5

申请日：2006-02-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中村博 ,  小林俊之 ,  早坂伸一郎 ,  贝瀬精一

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205 ,  C23C16/44 ,  C23F4/00

Abstract: 本发明的基板处理装置(100)具备导入气体后进行规定的处理的多个处理室(200A、200B等)；分别设置在所述各处理室中的排气系统(220A、220B等)；和连接所述各处理室的排气系统中至少两个以上的处理室的排气系统的共同排气系统(310)，其中，共同排气系统构成为可切换除害共同排气系统(320)与非除害共同排气系统(330)，除害共同排气系统(320)通过除害部件(340)对来自所述各处理室的排气系统的排气进行除害并排出，非除害共同排气系统(330)不经过除害部件排出来自所述各处理室的排气系统的排气，设置控制部件(400)，根据各处理室进行的处理的种类，进行除害共同排气系统与非除害共同排气系统的切换控制。

公开(公告)号：CN109979868B

公开(公告)日：2023-05-23

申请号：CN201811515565.8

申请日：2018-12-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小林俊之 ,  北原竜 ,  越石和也 ,  佐藤淳哉 ,  须藤骏 ,  千叶俊光

IPC: H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种搬送装置的示教方法，能够抑制铅垂方向的示教精度的偏差。在一个实施方式的搬送装置的示教方法中，搬送装置具有：基板保持部，其具备用于通过抽吸来吸附保持基板的抽吸孔；驱动机构，其使基板保持部移动；以及压力检测部，其检测与抽吸孔连通的抽吸路径的压力，搬送装置的示教方法包括以下步骤：第一移动步骤，使基板保持部移动到基板的下方；第二移动步骤，在对抽吸路径进行抽吸的状态下检测抽吸路径的压力，并且使基板保持部从基板的下方朝向上方移动；判定步骤，基于抽吸路径的压力来判定基板保持部是否接触到基板；以及存储步骤，将判定为基板保持部接触到基板时的基板保持部的位置存储为基准位置。

公开(公告)号：CN1822315A

公开(公告)日：2006-08-23

申请号：CN200610003291.5

申请日：2006-02-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中村博 ,  小林俊之 ,  早坂伸一郎 ,  贝瀬精一

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205 ,  C23C16/44 ,  C23F4/00

Abstract: 本发明的基板处理装置(100)具备导入气体后进行规定的处理的多个处理室(200A、200B等)；分别设置在所述各处理室中的排气系统(220A、220B等)；和连接所述各处理室的排气系统中至少两个以上的处理室的排气系统的共同排气系统(310)，其中，共同排气系统构成为可切换除害共同排气系统(320)与非除害共同排气系统(330)，除害共同排气系统(320)通过除害部件(340)对来自所述各处理室的排气系统的排气进行除害并排出，非除害共同排气系统(330)不经过除害部件排出来自所述各处理室的排气系统的排气，设置控制部件(400)，根据各处理室进行的处理的种类，进行除害共同排气系统与非除害共同排气系统的切换控制。