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公开(公告)号：CN111527486B
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN201880083796.8
申请日：2018-12-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G06F16/00
Abstract: 本发明对在制造工艺中收集到的数据实现通用性高的数据处理。数据处理装置具有：计算单元，收集与工艺内的规定步骤建立对应的数据群，并关于各个数据群来计算该规定步骤中的效果；分割单元，分割特征空间，以便与上述规定步骤建立对应的多个数据群各自在该特征空间中的分布按计算出的每一上述效果被分类；以及输出单元，输出特定数据，该特定数据特定分割后的上述特征空间的各区域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111527486A
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN201880083796.8
申请日：2018-12-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G06F16/00
Abstract: 本发明对在制造工艺中收集到的数据实现通用性高的数据处理。数据处理装置具有：计算单元，收集与工艺内的规定步骤建立对应的数据群，并关于各个数据群来计算该规定步骤中的效果；分割单元，分割特征空间，以便与上述规定步骤建立对应的多个数据群各自在该特征空间中的分布按计算出的每一上述效果被分类；以及输出单元，输出特定数据，该特定数据特定分割后的上述特征空间的各区域。
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公开(公告)号：CN104428823A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201380036298.5
申请日：2013-07-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及无尘室的监视装置以及无尘室的监视方法。该装置是用于监视在地板部配置了能够取下的格栅的无尘室的内部的无尘室的监视装置，该装置具备：监视照相机，其拍摄上述格栅；监视部，其根据利用上述监视照相机得到的图像信号来检测取下了上述格栅的开口部的有无，并在有开口部的情况下检测接近该开口部的作业人员的有无，并在检测到上述作业人员时输出警报信号；以及警报发生单元，其从上述监视部接受上述警报信号，并发出警报。
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公开(公告)号：CN110880462A
公开(公告)日：2020-03-13
申请号：CN201910827312.2
申请日：2019-09-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及基片状态判断装置及方法、基片处理装置和模型生成装置。本发明的一个方式的基片状态判断装置包括：拍摄载置于载置台的基片的拍摄部；学习部，其使用在上述基片的图像添加了表示基片的状态的信息而得的训练数据进行机械学习，来生成基片状态判断模型，上述基片状态判断模型以上述基片的图像为输入、以关于与该基片的图像对应的基片的状态的值为输出；和判断部，其使用由上述学习部生成的上述基片状态判断模型，判断与由上述拍摄部拍摄的上述基片的图像对应的上述基片的状态。本发明能够以高精度检测在半导体制造装置中载置于载置台的基片的状态。
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公开(公告)号：CN110880462B
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN201910827312.2
申请日：2019-09-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及基片状态判断装置及方法、基片处理装置和模型生成装置。本发明的一个方式的基片状态判断装置包括：拍摄载置于载置台的基片的拍摄部；学习部，其使用在上述基片的图像添加了表示基片的状态的信息而得的训练数据进行机械学习，来生成基片状态判断模型，上述基片状态判断模型以上述基片的图像为输入、以关于与该基片的图像对应的基片的状态的值为输出；和判断部，其使用由上述学习部生成的上述基片状态判断模型，判断与由上述拍摄部拍摄的上述基片的图像对应的上述基片的状态。本发明能够以高精度检测在半导体制造装置中载置于载置台的基片的状态。
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公开(公告)号：CN104428823B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201380036298.5
申请日：2013-07-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及无尘室的监视装置以及无尘室的监视方法。该装置是用于监视在地板部配置了能够取下的格栅的无尘室的内部的无尘室的监视装置，该装置具备：监视照相机，其拍摄上述格栅；监视部，其根据利用上述监视照相机得到的图像信号来检测取下了上述格栅的开口部的有无，并在有开口部的情况下检测接近该开口部的作业人员的有无，并在检测到上述作业人员时输出警报信号；以及警报发生单元，其从上述监视部接受上述警报信号，并发出警报。
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