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公开(公告)号：CN109946927B
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN201711384841.7
申请日：2017-12-20
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明提供了光对准信号处理方法，包括以下步骤：步骤1、光信号采集模块采集对准测量的多级次光信号信息；步骤2、滤波模块对所述多级次光信号信息处理，并允许a级次光信号信息通过；步骤3、对所述a级次光信号信息进行处理、分析，得到对准信息；其中，所述a级次光信号信息可以为1、3、5……级次光信号信息中的一个或多个。本发明提供的光对准信号处理方法、光栅对准方法以及对准系统能够使得对准精度高。
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公开(公告)号：CN108508713B
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201710115103.6
申请日：2017-02-28
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明公开了一种掩模传输预对准装置及方法，依次包括光源模组、预对准测试部件和成像模组；光源模组依次包括光源、准直单元和带十字标记的掩模版；成像模组包括第一转折棱镜、半透半反射棱镜、CCD探测器和四象限探测器，所述光源发出的光线进入所述成像模组后，依次经第一转折棱镜和半透半反射棱镜后，其中一部分进入CCD探测器，另一部分进入四象限探测器。在对准过程中，首先将带十字标记的掩模版上十字标记成像在CCD探测器中，检测出光源模组与成像模组之间的位置偏差量，并根据该位置偏差量对之后的四象限探测器测量值进行线性校准补偿，实现了自身检测和标定的功能，解决光源模组和成像模组对准精度不高的问题，保证了预对准精度。
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公开(公告)号：CN107664922B
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201610614644.9
申请日：2016-07-29
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明揭示了一种扫描反射镜振幅测量装置及测量方法。所述扫描反射镜振幅测量装置包括光源，输出光信号；光阑，调节所述光源输出光信号的光斑的大小以及形状；扫描反射镜设置结构，用于安置待测量的扫描反射镜，所述扫描反射镜安置后周期性反射所述光信号；光电传感器，包括3个以上的传感器单元，探测并采集经所述扫描反射镜反射后的光信号；信号采集及处理器，处理所述光电传感器采集到的信号，获得所述扫描反射镜的振幅。由此，能够在扫描反射镜应用前对扫描反射镜特性进行方便测量，识别扫描发射镜性能好坏。
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公开(公告)号：CN106933072B
公开(公告)日：2019-07-23
申请号：CN201511025832.X
申请日：2015-12-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司 , 上海微高精密机械工程有限公司
Abstract: 本发明涉及一种调焦调平测量系统及其校准方法，该系统包括测量分系统和校准分系统，测量分系统包括第一照明单元、第一投影单元、第一探测透镜组及第一调焦探测器，校准分系统包括第二照明单元、第二投影单元、第二探测透镜组及第二调焦探测器，测量分系统与校准分系统关于硅平面的上表面呈轴对称分布，第一照明单元发出的光源经所述第一投影单元入射至硅平面的上表面，经反射后入射至第一探测透镜组并被第一调焦探测器接收；第二照明单元发出的光源经第二投影单元入射至硅平面的下表面，经反射后入射至第二探测透镜组并被第二调焦探测器接收。本发明在同一个系统中设置两套三角测量装置，能够进行交叉测量，从而快速识别漂移部位并进行有效补偿。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108508713A
公开(公告)日：2018-09-07
申请号：CN201710115103.6
申请日：2017-02-28
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明公开了一种掩模传输预对准装置及方法，依次包括光源模组、预对准测试部件和成像模组；光源模组依次包括光源、准直单元和带十字标记的掩模版；成像模组包括第一转折棱镜、半透半反射棱镜、CCD探测器和四象限探测器，所述光源发出的光线进入所述成像模组后，依次经第一转折棱镜和半透半反射棱镜后，其中一部分进入CCD探测器，另一部分进入四象限探测器。在对准过程中，首先将带十字标记的掩模版上十字标记成像在CCD探测器中，检测出光源模组与成像模组之间的位置偏差量，并根据该位置偏差量对之后的四象限探测器测量值进行线性校准补偿，实现了自身检测和标定的功能，解决光源模组和成像模组对准精度不高的问题，保证了预对准精度。
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公开(公告)号：CN107664922A
公开(公告)日：2018-02-06
申请号：CN201610614644.9
申请日：2016-07-29
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明揭示了一种扫描反射镜振幅测量装置及测量方法。所述扫描反射镜振幅测量装置包括光源，输出光信号；光阑，调节所述光源输出光信号的光斑的大小以及形状；扫描反射镜设置结构，用于安置待测量的扫描反射镜，所述扫描反射镜安置后周期性反射所述光信号；光电传感器，包括3个以上的传感器单元，探测并采集经所述扫描反射镜反射后的光信号；信号采集及处理器，处理所述光电传感器采集到的信号，获得所述扫描反射镜的振幅。由此，能够在扫描反射镜应用前对扫描反射镜特性进行方便测量，识别扫描发射镜性能好坏。
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公开(公告)号：CN109426093B
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN201710773193.8
申请日：2017-08-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种调焦调平检测装置，包括包括投影单元、探测单元和智能控制单元，所述投影单元发出入射光线入射到待测物表面形成区域测量标记，所述待测物将入射光线反射，形成携带有待测物表面信息的反射光线进入所述探测单元，所述智能控制单元对经过探测单元处理的反射光线进行再处理，得出所述待测物的位置信息。本发明所提供的调焦调平检测装置，区域测量标记可以覆盖待测物上一个区域，而不仅仅是单点，实现了区域测量，提高了效率，并且根据不同待测物可以采用不同大小的区域测量标记，从而提高了测量的准确性；并且采用智能控制单元，实现了实时测量。
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公开(公告)号：CN107783379B
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201610766759.X
申请日：2016-08-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种垂向位置测量装置，沿光路方向依次包括：照明光源、投影狭缝、第一光学组件、探测狭缝、光电探测器和信号处理单元，其中，所述投影狭缝、所述探测狭缝和所述光电探测器的数量相等且位置对应，每个所述光电探测器在测量方向上的尺寸与每个所述探测狭缝的尺寸相等，所述光电探测器包括若干个探测单元，每个所述探测单元包括中心单元以及分设在所述中心单元两侧的第一边缘单元和第二边缘单元，所述中心单元的尺寸为所述探测狭缝所成的像的摆幅的两倍，所述探测单元的细化提高了所述垂向位置测量装置的测量准确性。
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公开(公告)号：CN106814545B
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201510856576.2
申请日：2015-11-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司 , 上海微高精密机械工程有限公司
Abstract: 本发明提供了一种气压测量装置、气压测量方法、调焦调平装置和光刻机设备。气压测量装置包括连接至供气装置的参考管路和多个测量管路；位于参考管路一端的参考管路气嘴，参考管路气嘴设置于一参考平面上方，用于向参考平面喷射气体；位于每个测量管路一端的分支测量管路气嘴，多个分支测量管路气嘴并排设置于同一测量平面上方，用于向测量平面喷射气体；连接于参考管路和多个测量管路之间的气压计；连接至吸气装置的多个吸气管路及位于每个吸气管路一端的分支吸气管路气嘴，多个分支吸气管路气嘴并排设置于测量平面上方，并且，一个分支测量管路气嘴周围设置至少两个分支吸气管路气嘴，用于吸走测量管路周围的气体，提高了位置测量的精度。
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