电光显示装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN1885549A

    公开(公告)日:2006-12-27

    申请号:CN200610073741.8

    申请日:2006-04-03

    Inventor: 荒木利夫

    CPC classification number: G02F1/136227 H01L27/1248 H01L27/1288

    Abstract: 本发明提供防止上层像素电极和下层TFT漏电极之间断线引起的点缺陷的电光显示装置及其制造方法。像素电极(16)配置成覆盖贯通第三绝缘膜(12)及第二绝缘膜(11)达到漏电极(9)上面的像素漏极接触孔(CH)内壁,在像素漏极接触孔(CH)底部,经由接触导电膜(15)电连接到漏电极(9)。像素漏极接触孔(CH)将贯通第二绝缘膜(11)的接触孔(13)和贯通第三绝缘膜(12)的接触孔(14)连通而构成,接触孔(14)的内壁不陡地倾斜而剖面呈研钵状,使得开口端尺寸大于其底部尺寸。

    电光显示装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN1881593A

    公开(公告)日:2006-12-20

    申请号:CN200610073326.2

    申请日:2006-03-28

    Abstract: 本发明提供简化TFT结构部的制造工序,同时不限定源/漏电极材质,并准确控制成为TFT沟道部的半导体层膜厚,并防止显示不匀的电光显示装置。漏电极(26)配置成从活性区层(AR)上开始延伸至像素电极(30)下方的透明绝缘性衬底(1)上方。源电极(24)及源极布线(25)配置成使其端面位于相对半导体膜(6)任意端面均退后的位置,活性区层(AR)上的漏电极(26)端面也配置成位于相对半导体膜(6)的具有大致平行关系的端面退后的位置。

    显示面板及其制造方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101344695B

    公开(公告)日:2011-11-23

    申请号:CN200810136155.2

    申请日:2008-07-10

    Abstract: 本发明提供一种显示面板及其制造方法,其中能抑制具有端子的金属薄膜的腐蚀等。涉及本发明的显示面板具有:公共布线(4),形成在TFT阵列基板(30)上并具有第一端子(5);第一透明导电性膜(6),形成在公共布线(4)上;层间绝缘膜(15),形成在第一透明导电性膜(6)上,并在显示区域(54)的外侧而且是密封材料(50)的内侧具有第一端子部接触孔(17);以及端子焊盘(20),形成在层间绝缘膜(15)上,并在第一端子部接触孔(17)中经由第一透明导电性膜(6)与公共布线(4)电连接。

    元件衬底的制造方法及衬底保持装置

    公开(公告)号:CN100474552C

    公开(公告)日:2009-04-01

    申请号:CN200610164127.2

    申请日:2006-10-11

    Abstract: 在对会因电荷而产生不良的衬底实施预定处理的工序中,防止该衬底带电,并且进行控制使得在从该衬底除去电荷时流动的电流不超过预定值,结果能提高制造的器件的成品率。本发明的衬底保持装置具有保持衬底201的卡盘101和支撑卡盘101的旋转轴104,用105Ωcm~1010Ωcm的电阻率值的材料形成卡盘101的和衬底201的接触部中电阻率值最低的部分,该电阻率值最低的部分通过旋转轴104接地。

    显示面板及其制造方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101344695A

    公开(公告)日:2009-01-14

    申请号:CN200810136155.2

    申请日:2008-07-10

    Abstract: 本发明提供一种显示面板及其制造方法,其中能抑制具有端子的金属薄膜的腐蚀等。涉及本发明的显示面板具有:公共布线(4),形成在TFT阵列基板(30)上并具有第一端子(5);第一透明导电性膜(6),形成在公共布线(4)上;层间绝缘膜(15),形成在第一透明导电性膜(6)上,并在显示区域(54)的外侧而且是密封材料(50)的内侧具有第一端子部接触孔(17);以及端子焊盘(20),形成在层间绝缘膜(15)上,并在第一端子部接触孔(17)中经由第一透明导电性膜(6)与公共布线(4)电连接。

    液晶显示元件
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1987628A

    公开(公告)日:2007-06-27

    申请号:CN200610171144.9

    申请日:2006-12-25

    Abstract: 本发明涉及一种液晶显示元件,提供一种解决以下全部问题的结构:即场序液晶显示元件,在形成像素区域的液晶层厚度小的结构的情况下,在现有的方法中难以将处于基板间的密封材料良好地硬化形成。虽然在像素区域内设置液晶层厚度调节膜可以解决,但对向电极和遮光膜的层叠结构受到阻碍,产生由对向电极的电阻增大而造成的显示不良。因此本发明为在像素区域内前基板(23)的内面上设置遮光膜(19),并以覆盖该遮光膜的方式设置液晶层厚度调节膜(3),在其上层设置由ITO膜(4)构成的对向电极,经由设置于液晶层厚度调节膜(3)上的接触孔(7)将ITO膜(4)和遮光膜(19)连接。

    元件衬底的制造方法及衬底保持装置

    公开(公告)号:CN1956162A

    公开(公告)日:2007-05-02

    申请号:CN200610164127.2

    申请日:2006-10-11

    Abstract: 在对会因电荷而产生不良的衬底实施预定处理的工序中,防止该衬底带电,并且进行控制使得在从该衬底除去电荷时流动的电流不超过预定值,结果能提高制造的器件的成品率。本发明的衬底保持装置具有保持衬底201的卡盘101和支撑卡盘101的旋转轴104,用105Ωcm~1010Ωcm的电阻率值的材料形成卡盘101的和衬底201的接触部中电阻率值最低的部分,该电阻率值最低的部分通过旋转轴104接地。

    薄膜晶体管阵列基板的制造方法及显示装置

    公开(公告)号:CN101436569A

    公开(公告)日:2009-05-20

    申请号:CN200810173892.X

    申请日:2008-11-13

    CPC classification number: H01L27/1288 H01L27/1214

    Abstract: 本发明的标题是“薄膜晶体管阵列基板的制造方法及显示装置”,其中包括如下工序:形成由第1导电膜(10)构成的图案;依次层叠栅绝缘膜(2)、半导体层(4)及光刻胶层;形成沿厚度方向具有台阶构造的光刻胶图案(41);利用光刻胶图案(41)形成第1导电膜(10)的露出区及半导体层(4)的图案;在第1导电膜的露出区中形成由与第1导电膜(10)接触的第2导电膜(20)构成的图案;用上层膜覆盖第2导电膜(20);以及在上述第2导电膜(20)的上层形成第3导电膜(30)。薄膜晶体管的栅电极(16)用第1导电膜(10)形成,源电极(25)及漏电极(26)用第2导电膜(20)形成,像素电极用第3导电膜(30)形成,第2导电膜(20)用上层膜覆盖。

    显示装置及其制造方法
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100451793C

    公开(公告)日:2009-01-14

    申请号:CN200610139957.X

    申请日:2006-09-27

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种防止由于层间绝缘膜的针孔或缺陷而引起的电极间的短路不良、并具有高可靠性的液晶显示装置。本发明的一个实施形态的液晶显示装置具有TFT阵列基板(101)、对置配置在TFT阵列基板(101)上的滤色器基板(102)、和粘合两基板的密封图形(40),滤色器基板(102)具有对置电极(42),TFT阵列基板(101)具有栅极布线(4)、在栅极布线(4)上形成的栅极绝缘膜(6)、通过栅极布线(4)和栅极绝缘膜(6)交叉配置的源极布线(11)、在源极布线(11)上形成为两层的层间绝缘膜(14、18)、和在密封图形(40)的下面设置的、通过该密封图形(40)与对置电极(42)导通的共同电极布线(37),密封图形(40)通过层间绝缘膜(14、18)和源极布线(11)重叠。

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