基板检测装置及其控制方法

    公开(公告)号:CN1908685A

    公开(公告)日:2007-02-07

    申请号:CN200610007929.2

    申请日:2006-02-21

    Abstract: 本发明涉及一种基板检测装置及其控制方法,依据本发明所提供的基板检测装置包含:用于检测所述基板的检测单元;设置在所述检测单元入口区域并具有多个供应台架和供应驱动部的供应单元,该多个供应台架支持至少一个所述基板而向所述检测单元依次供应所述基板,该供应驱动部对应于所述检测单元的入口侧而移动多个所述供应台架;设置在所述检测单元出口区域并具有多个排出台架和排出驱动部的排出单元,该多个排出台架支持从所述检测单元依次排出的至少一个所述基板,该排出驱动部对应所述检测单元的出口侧而移动多个所述排出台架。由此提供可以较迅速、简单地检测基板的基板检测装置及其控制方法。

    基板检测装置及其控制方法

    公开(公告)号:CN100570381C

    公开(公告)日:2009-12-16

    申请号:CN200610007929.2

    申请日:2006-02-21

    Abstract: 本发明涉及一种基板检测装置及其控制方法,依据本发明所提供的基板检测装置包含:用于检测所述基板的检测单元;设置在所述检测单元入口区域并具有多个供应台架和供应驱动部的供应单元,该多个供应台架支持至少一个所述基板而向所述检测单元依次供应所述基板,该供应驱动部对应于所述检测单元的入口侧而移动多个所述供应台架;设置在所述检测单元出口区域并具有多个排出台架和排出驱动部的排出单元,该多个排出台架支持从所述检测单元依次排出的至少一个所述基板,该排出驱动部对应所述检测单元的出口侧而移动多个所述排出台架。由此提供可以较迅速、简单地检测基板的基板检测装置及其控制方法。

    化学蒸镀装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1891855A

    公开(公告)日:2007-01-10

    申请号:CN200510123337.2

    申请日:2005-11-23

    Abstract: 本发明涉及一种化学蒸镀装置(CVD),该装置包含:形成反应室的反应器,该反应室上部具有用于供应反应气体的气体流入孔;在所述反应室内用于支持作业物的支持台;用于从所述气体流入孔将反应气体喷射于所述作业物上的、具有喷嘴单元的喷头,该喷嘴单元设有从中心轴线到径向外侧流动长度逐渐变长的多个喷嘴孔。由此,本发明提供一种可以均匀地形成蒸镀膜的化学蒸镀装置。

    化学蒸镀装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100567563C

    公开(公告)日:2009-12-09

    申请号:CN200510123337.2

    申请日:2005-11-23

    Abstract: 本发明涉及一种化学蒸镀装置(CVD),该装置包含:形成反应室的反应器,该反应室上部具有用于供应反应气体的气体流入孔;在所述反应室内用于支持作业物的支持台;用于从所述气体流入孔将反应气体喷射于所述作业物上的、具有喷嘴单元的喷头,该喷嘴单元设有从中心轴线到径向外侧流动长度逐渐变长的多个喷嘴孔。由此,本发明提供一种可以均匀地形成蒸镀膜的化学蒸镀装置。

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