公开(公告)号：CN1122876C

公开(公告)日：2003-10-01

申请号：CN95191612.2

申请日：1995-02-10

Applicant: 杜邦光掩公司

Inventor： H·U·阿尔培 ,  R·H·弗伦奇 ,  F·D·卡尔克

IPC: G03F1/14

CPC classification number: G03F1/32

Abstract: 本发明公开了可透过预埋移相器-光掩模坯料，它包括一种光学非均匀性衰减薄膜，该薄膜在平印波长下至少具有0.001的透射，而且实质上是由多种成分的组合构成的，其中一种成分比另一种成分在平印波长下具有更高的吸收率。距离薄膜表面的一种深度，比另一种深度具有较高吸收成分的较高含量，并且贯穿此薄膜厚度的折射率和/或消光系数变化曲线是渐变的。上述变化曲线和薄膜厚度可进行选择，以在选定的平印波长下提供约180°或其奇数倍的相位移。

公开(公告)号：CN1311292C

公开(公告)日：2007-04-18

申请号：CN97194798.8

申请日：1997-05-09

Applicant: 杜邦光掩公司

Inventor： P·F·卡思尔 ,  R·H·弗伦奇

IPC: G03F1/00

CPC classification number: G03F1/32

Abstract: 一种可以按照选定的＜400nm的蚀刻波长以至少0.001的透光率产生180°相移的衰减镶嵌式相移光掩模空白片，所述的光掩模空白片包括若干或者是周期性地、或者是非周期性地交错排列的光学透明材料层和光学吸收材料层。所述的光学透明材料层和光学吸收材料层优选是通过用蒸气沉积法交替地将光学透明材料层和光学吸收材料层沉积在片基上而制成的。

公开(公告)号：CN1628382A

公开(公告)日：2005-06-15

申请号：CN03803435.2

申请日：2003-01-14

Applicant: 杜邦光掩公司

Inventor： A·恩格利斯

IPC: H01L21/66 ,  H01L23/58

CPC classification number: H01L22/34 ,  G03F1/40 ,  G03F1/84

Abstract: 本发明公开了一种测试晶片(12)和一种用于勘测静电放电感应的晶片缺陷的方法。测试晶片(12)包括在其上形成的静电放电(ESD)敏感危险尺度几何结构(16)。在经受半导体制造工序之后，可以通过使用ESD危险尺度几何结构(16)分析测试晶片(12)，从而识别和评估与半导体制造工序有关的任何ESD效应的严重程度。

公开(公告)号：CN1618069A

公开(公告)日：2005-05-18

申请号：CN02827813.5

申请日：2002-12-10

Applicant: 杜邦光掩公司

Inventor： C·W·科克约翰

IPC: G06F17/50 ,  G06F19/00 ,  G06K9/00

CPC classification number: G03F1/84 ,  G03F1/50

Abstract: 公开了一种光掩模和使其合格的方法。该方法包括对在光掩模的图案层中所形成的多个管芯位置与样板规范进行比较。如果至少有一个管芯位置符合样板规范，就选择该光掩模用于半导体制造过程中。

公开(公告)号：CN1618043A

公开(公告)日：2005-05-18

申请号：CN02828000.8

申请日：2002-12-13

Applicant: 杜邦光掩公司

Inventor： E·V·约翰斯顿 ,  F·D·卡尔克

IPC: G03F9/00

CPC classification number: G03F1/50

Abstract: 公开了多色调光掩模(12)及其制造方法。光掩模(12)包括在至少部分衬底(16)上形成的滤光层(20)。滤光层(20)包括利用第一刻蚀工艺形成的第一图案。在至少部分滤光层(20)上利用第二刻蚀工艺形成包括第一图案的阻挡层(22)。在至少部分阻挡层(22)上利用第三刻蚀工艺形成包括第二图案的吸收层(18)。阻挡层(22)用来终止第三刻蚀工艺。

公开(公告)号：CN1679040A

公开(公告)日：2005-10-05

申请号：CN03820512.2

申请日：2003-06-27

Applicant: 杜邦光掩公司

Inventor： P·惠格 ,  W·B·奈顿

IPC: G06F17/60

CPC classification number: G06Q30/06 ,  G03F1/00 ,  G06Q10/087 ,  G06Q20/401

Abstract: 公开了用于光掩模订单的电子订单登记和自动处理的方法和系统。光掩模部件的制造过程中订单登记和处理的方法包括电子接收产品订单信息文件。产品订单信息被自动转换成标准数据库格式。然后使用规则引擎将一组预定义的客户要求应用到该产品订单信息文件来自动处理转换后的产品订单信息文件，使得该产品订单信息载入订单登记模块。该订单登记模块用于根据该产品订单信息文件自动产生对于生产光掩模部件所必要的生产文件。

公开(公告)号：CN1672099A

公开(公告)日：2005-09-21

申请号：CN03818126.6

申请日：2003-06-09

Applicant: 杜邦光掩公司

Inventor： L·迪乌 ,  M·J·拉曼蒂亚

IPC: G03F1/00

CPC classification number: G03F1/72

Abstract: 公开了一种光掩模和用于修补该光掩模上的缺陷的方法。优选，该光掩模包括基板、缓冲层和不透射层，该缓冲层设置在该基板和该不透射层之间。该方法包括在该不透射层中形成图案。如果在图案化的不透射层中识别出一个或多个缺陷，则该缓冲层保护基板在修补图案化的不透射层中的缺陷时不受损伤。

公开(公告)号：CN1099613C

公开(公告)日：2003-01-22

申请号：CN93112904.4

申请日：1993-11-16

Applicant: 杜邦光掩公司

Inventor： H·U·阿尔普莱 ,  R·H·弗伦奇 ,  F·D·卡尔克

IPC: G03F1/14

CPC classification number: G03F1/32 ,  G03F1/54

Abstract: 公开了一种透光埋置相移器光掩模板，其包括光学上不均匀衰减薄膜，该膜有至少0.001的透光度和基本上由金属组分和电介质组分组合而成。薄膜的一个表面有比另一表面较高含量的金属组分，贯穿整个薄膜厚度，消光系数变化的分布呈缓变状态。选择消光系数变化的分布和薄膜厚度，在选定波长的情况下，提供大约180°的相移(或者它的奇数倍相移)。

公开(公告)号：CN1653392A

公开(公告)日：2005-08-10

申请号：CN03802666.X

申请日：2003-01-24

Applicant: 杜邦光掩公司

Inventor： L·迪厄 ,  F·D·卡尔克

IPC: G03F9/00 ,  G03C5/00

CPC classification number: G03F1/26 ,  G03F1/32

Abstract: 本发明公开了一种光掩模及其制备方法。在至少部分基底上沉积第一材料以形成第一材料层。在第一材料的沉积完成之前，在高于大约300摄氏度的温度对该基底施加热处理。

公开(公告)号：CN1452749A

公开(公告)日：2003-10-29

申请号：CN01815170.1

申请日：2001-06-29

Applicant: 杜邦光掩公司

Inventor： T·T·科格德尔 ,  J·S·彻普 ,  J·E·根特里

IPC: G06F17/30

CPC classification number: G03F1/00 ,  G03F1/68 ,  G06Q30/02 ,  G06Q30/04 ,  G06Q30/0603 ,  G06Q50/04 ,  H01J2237/31762 ,  Y02P90/30

Abstract: 一种用于根据顾客输入的光掩模规格数据而生成用在光掩模制造设备的指令的计算机网络。通常通过互联网连接将一系列订单输入屏下载到远程顾客的计算机上。该顾客被提示要输入光掩模规格数据，该光掩模规格数据被交付到制造商的本地网络的计算机设备中。该制造商的计算设备验证光掩模规格数据，并使用该数据来生成蚀刻指令和设备控制指令。该蚀刻指令与来自顾客的图形设计数据一起被发送到蚀刻机，它用于提供蚀刻图形数据。然后，可以把该控制指令和蚀刻图形数据电子交付到该制造设备。