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公开(公告)号：CN119720670A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202411840005.5
申请日：2024-12-13
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于ICP反应器设计的技术领域，公开了一种ICP反应器设计方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：获取ICP反应器对应的ICP反应器模型，用三次贝塞尔曲线表示ICP反应器的反应室形状，在ICP反应器模型的壁面中添加材料并设置对应的材料参数，设置物理场，并配置对应的优化求解器，根据材料参数和物理场，利用优化求解器求解三次贝塞尔曲线，计算得到反应室形状的最优参数组合，使ICP反应器模型在反应室出口处的电子密度达到最大值；通过有限元方法，根据材料参数和物理场，利用优化求解器求解三次贝塞尔曲线，计算得到最优参数组合，使反应室出口处的电子密度达到最大值，以对ICP反应器进行优化设计，提高了ICP反应器的设计效率。
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公开(公告)号：CN119591651A
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202411646542.6
申请日：2024-11-18
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及分离纯化技术领域，公开了一种红景天苷的分离纯化方法，步骤包括：（1）将大孔树脂作为填料填入耐有机中压层析柱中，将所述耐有机中压层析柱安装于高效液相色谱仪的色谱柱位置；（2）将红景天苷粗品溶解，调节红景天苷粗品的pH，作为上样液；（3）将上样液上样于耐有机中压层析柱，采用高效液相色谱仪作为输液系统，采用乙醇水溶液对上样液进行洗脱，分段收集洗脱液；大孔树脂为大孔树脂LX‑32。所提供的分离纯化方法可快速获得高纯度红景天苷产品，分离纯化工艺简便，纯度高，回收率大，可有效解决市面上大规模工业化提取分离方法不成熟、过程复杂、稳定性不高、回收率低、重复使用次数低、提取率低等问题。
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公开(公告)号：CN119084647A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202411583998.2
申请日：2024-11-07
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明提供了一种真空调节阀压力控制系统及其控制方法，涉及真空调节阀压力控制技术领域。该控制方法包括通过阀门转速模型获得指定转速后，根据指定转速控制真空调节阀的阀板转动到指定的角度位置；阀门转速模型基于PWM脉冲频率和Simoid函数建立。本发明的真空调节阀压力控制系统的控制方法解决了目前真空调节阀压力控制系统无法满足生产线所要求的响应速度和稳定性的问题，达到提高系统响应速度和稳定性的效果。
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公开(公告)号：CN118377217B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410804206.3
申请日：2024-06-21
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本公开涉及气体压力控制技术领域，尤其提供一种蝶阀开度的控制方法、控制器、系统和存储介质，该方法包括：基于腔体内部的当前压力和预设压力，确定控制误差信号以及误差信号变化率；基于当前压力和预先确定的电机步数与实际压力的对应关系，确定当前压力对应的实际步数；基于实际步数以及电机步数与修正参数的对应关系确定目标修正参数；对控制误差信号以及误差信号变化率进行模糊处理，得到PID调整量；基于目标修正参数、PID调整量以及初始时刻PID参数，确定当前时刻的PID参数；基于当前时刻的PID参数以及PID控制算法计算蝶阀的控制信号，控制信号用于控制蝶阀的开度。可以提高气体压力的控制精度。
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公开(公告)号：CN118070564B
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410464333.3
申请日：2024-04-17
Applicant: 季华实验室
IPC: G06F30/20 , G06F113/08 , G06F119/08
Abstract: 本申请属于激光烧蚀的技术领域，公开了一种水平集法激光烧蚀模拟方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：获取表面设置有镀层模型的相变材料模型，设置镀层模型的第一材料参数和相变材料模型的第二材料参数，根据激光烧蚀过程的传热特征、物质蒸发特征和相变特征，设置固体传热物理场和基于两相体积分数的水平集物理场，基于第一材料参数、第二材料参数、固体传热物理场和基于两相体积分数的水平集物理场，对表面设置有镀层模型的相变材料模型进行激光烧蚀模拟，得到激光烧蚀模拟分析结果，通过固体传热物理场和基于两相体积分数的水平集物理场，对激光烧蚀过程进行模拟，提高了相变材料的激光烧蚀过程的分析效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118268208A
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202410683218.5
申请日：2024-05-30
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种面板涂胶装置，涉及液晶面板技术领域，进料平台用于放置玻璃基板，进料平台上设有第一气浮组件，第一气浮组件用于使基板悬浮于进料平台上；涂覆平台与进料平台连接，涂覆平台上设有第二气浮组件，第二气浮组件用于在基板与涂覆平台之间形成气膜，气膜用于调整基板的高度；涂胶模头用于对基板的表面进行涂层；吸附头设置在进料平台的边缘，吸附头用于吸附基板的边缘；传动组件设置在进料平台边缘，传动组件与吸附头连接，传动组件用于驱动吸附头移动，吸附头移动时，带动基板从进料平台转移至涂覆平台。本发明技术方案提高涂胶精度，避免产生静电与微粒，提高涂胶效果及涂胶质量。
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公开(公告)号：CN115355977B
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202211238592.1
申请日：2022-10-11
Applicant: 季华实验室
IPC: G01H9/00
Abstract: 本公开涉及一种振动检测装置、设备及振动检测方法，振动检测装置包括：单模光纤组件、悬臂梁组件和处理组件；单模光纤组件与悬臂梁组件之间留有间隙，单模光纤组件与悬臂梁组件形成法布里‑珀罗干涉腔；单模光纤组件用于向悬臂梁组件发射光信号，并接收反射面反射的反射信号；悬臂梁组件用于感应振动信号并产生共振，悬臂梁组件产生共振时，反射信号发生变化；处理组件连接单模光纤组件，处理组件用于基于接收到的干涉信号确定法布里‑珀罗干涉腔的腔长变化量，并且基于腔长变化量是否大于预设的变化阈值判断振动信号是否为目标振动信号；其中，干涉信号基于反射信号和光信号生成。基于上述装置，准确地检测振动信号。
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公开(公告)号：CN114871941B
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202210443467.8
申请日：2022-04-25
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于化学机械抛光技术领域，公开一种抛光头及抛光机，抛光头包括用于安装待抛光工件的安装盘、用于安装安装盘的环形安装板、用于安装环形安装板的底板、用于驱动所述底板向下移动的移动驱动件、用于驱动底板转动的第一转动驱动件及用于驱动安装盘向下变形的电缸，环形安装板的两端分别连接安装盘及底板，移动驱动件的输出端连接底板的上表面，第一转动驱动件的输出端连接底板或移动驱动件，安装盘、环形安装板及底板形成安装空间，电缸设置在安装空间内，电缸的输出端连接有移动板，移动板抵接安装盘上表面的中心区域。本申请的抛光头及抛光机能够使得安装盘在电缸的驱动作用下产生向下的变形，从而改善待抛光工件的平坦度，提高抛光质量。
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公开(公告)号：CN117779032A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202410025252.3
申请日：2024-01-08
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种高结合性耐高温复合涂层及其制备方法，属于表面薄膜制备技术领域，方法步骤包括：对基体材料进行微加工刻蚀，以在基体材料表面形成周期性图案，进行喷砂处理，在基体材料表面溅射形成四面体非晶碳过渡层薄膜，继续化学气相沉积出金刚石保护膜，从而在基体材料表面获得高结合性耐高温复合涂层，该方法可以提高金刚石在基体材料上的形核率，增加金刚石保护膜和基体材料之间的结合力，四面体非晶碳薄膜可以贴合不同材料，如金属、塑料、无机非金属等，又不会出现沉积时严重的应力问题，将四面体非晶碳作为基体材料的过渡层可以增加金刚石在基体材料上的稳定性，在高温情况下有效保护基体材料的抗氧化以及抗腐蚀等性能。
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公开(公告)号：CN117497665A
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202311496964.5
申请日：2023-11-10
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请公开了一种Micro‑LED芯片结构，属于半导体技术领域，该芯片结构包括从下到上依次叠置的衬底、N型半导体层、P‑N结层和P型半导体层，还包括P电极和N电极；P电极设置在P型半导体层的其中一个侧面上，N电极设置在N型半导体层远离P电极的侧面上，在封装接线时，可以避免导线经过芯片结构的出光面，从而提高光照效果。
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