一种异质结半导体器件热阻测量电路及方法

    公开(公告)号:CN114740325A

    公开(公告)日:2022-07-12

    申请号:CN202210315142.1

    申请日:2022-03-28

    Abstract: 本发明公开了一种异质结半导体器件热阻测量电路及其方法,其中电路包括信号发生模块,驱动模块,待测器件,可控负载模块,恒温装置,数据采集模块以及电源模块。提取异质结半导体器件工作热稳定状态下漏电级电流随时间的变化率作为结温的参考,从而进行异质结半导体器件工作热稳定状态下热阻阻值的计算。其中,可以通过调控可控负载模块,使电路在正常工作模式和测量模式两种状态下切换。正常工作模式用于使待测器件处于热稳定的工作状态;测量模式用于提取待测器件漏电级电流变化率以进行热阻的计算。

    基于异质结的高功率密度隧穿半导体器件及其制造工艺

    公开(公告)号:CN114709255A

    公开(公告)日:2022-07-05

    申请号:CN202210349844.1

    申请日:2022-04-02

    Abstract: 本发明公开一种基于异质结的高功率密度隧穿半导体器件及其制造工艺,器件元胞结构包括:N+衬底,其下设有漏极金属,其上设有N‑漂移区;在N‑漂移区内对称设有一对沟槽,槽底设有P+区,在槽内设有石墨烯源区,石墨烯源区上设有源极金属,N‑漂移区上设有与石墨烯源区部分交叠的栅介质层,栅介质层上设有多晶硅栅,多晶硅栅上设有钝化层,石墨烯源区与N‑漂移区形成异质结。本发明器件结构对注入工艺要求低,元胞尺寸小,单位面积元胞数量多,大幅提升了器件的功率密度,有效降低器件的比导通电阻、亚阈值摆幅,简化了制造工艺,降低了器件成本。器件反偏耐压时,P+区使电场峰值从异质结边界处转移到PN结边界处,提高了器件雪崩能力,增大了击穿电压。

    一种衬底电荷耦合的1200V体硅LDMOS及其制备方法

    公开(公告)号:CN113782609A

    公开(公告)日:2021-12-10

    申请号:CN202111055507.3

    申请日:2021-09-09

    Abstract: 本发明是一种衬底电荷耦合的1200V体硅LDMOS及其制备方法,在P型衬底上设有N型SN埋层,在N型SN埋层上方且靠近漏极侧设有N型DN埋层,在N型SN埋层上方且靠近源极侧设有5个P型BP埋层。P型BP埋层和N型DN埋层上方设有P型P‑well体区、N型漂移区和N型N‑well缓冲层。漂移区上方设有场氧化层、多晶硅栅、二氧化硅氧化层和金属场板,其中金属场板横跨于场氧化层上方,多晶硅栅自源极N型重掺杂区上方经过P型P‑well体区,延伸至场氧化层上方。源极N型重掺杂区和源极P型重掺杂区通过源极金属和源极相连,漏极N型重掺杂区通过漏极金属和漏极相连。本发明结构在低衬底电阻率的衬底材料下即可实现1200V的耐压需求。

    一种适用于功率器件的二次击穿限测试方法及装置

    公开(公告)号:CN113777462A

    公开(公告)日:2021-12-10

    申请号:CN202111003610.3

    申请日:2021-08-30

    Abstract: 本发明公开了一种适用于功率器件的二次击穿限测试方法及装置,主要包括:在搭建的测试系统中,开启功率开关器件,齐纳二极管发生雪崩击穿,产生稳定电压B,使待测功率器件导通,关闭功率开关器件,待测功率器件关闭,即可观测到待测功率器件的源漏电压和漏极电流,此后,通过调节直流电压源的电压和变阻器,多次重复本操作,观察器件的工作电压和电流变化情况,调节直流电压源的电压和变阻器保证器件工作在所需要的条件下。本发明通过对直流电源电压和变阻器的调节,使得器件工作在稳定的源漏电压和漏极电流的条件下,在此过程中,通过观测器件导通过程中的源漏电压和漏极电流的变化情况,从而为器件的进一步的改进提供帮助。

    一种具有两极肖特基控制的凹槽型阳极FRD及制造方法

    公开(公告)号:CN109192787B

    公开(公告)日:2021-07-13

    申请号:CN201810801921.6

    申请日:2018-07-19

    Abstract: 本发明涉及一种具有两极肖特基控制的凹槽型阳极快恢复二极管及其制造方式,包括:阴极金属,在阴极金属的上方有N型本征区,在N型本征区的上方有阳极金属,在阴极金属上设有相互间隔分布的轻掺杂N型区域和重掺杂N型区域,轻掺杂N型区域的底部与阴极金属为肖特基接触,在N型本征区与阳极金属之间设有相互间隔分布的重掺杂P型区域和轻掺杂P型区域,并且,重掺杂P型区域的上表面低于轻掺杂P型区域的上表面,形成凹槽型阳极区域,轻掺杂P型区域与阳极金属为肖特基接触。所述两极肖特基控制的凹槽型阳极快恢复二极管的制造方法,其特征在于,通过一步刻蚀可以同时形成阳极表面和侧壁的肖特基接触。

    一种高精度自适应的张弛振荡器

    公开(公告)号:CN107204755B

    公开(公告)日:2020-07-24

    申请号:CN201710432878.6

    申请日:2017-06-09

    Abstract: 一种高精度的自适应张弛振荡器,利用电容预充电原理抵消设于振荡电路中的充放电控制电路产生的延时,包括振荡电路、第一电容预充电电路和第二电容预充电电路,电容预充电电路用于给振荡器充放电电容预充电,振荡电路在电容预充电电路预充电电平的基础上进行充放电,电容两次充电产生的误差延时抵消,使振荡器工作在预设的频率上,实现显著提高频率‑控制电流线性度,且本发明不是直接通过提升比较器或者RS触发器的速度来减小延时,而是通过两次充电过程抵消控制电路产生的延时以及随外界环境变化的失调的影响,显著地提高了振荡器的精度,并且具有很强的温度稳定性和电源电压抑制即自适应性。

    一种具有温度补偿的宽温度全MOS电压基准源

    公开(公告)号:CN107390767B

    公开(公告)日:2018-08-17

    申请号:CN201710650676.9

    申请日:2017-08-02

    Abstract: 一种具有温度补偿的宽温度全MOS电压基准源,设有启动电路、基准核心电路、由温度检测电路、温度逻辑开启电路和高低温温度补偿电路构成的温度补偿电路。启动电路向基准核心电路注入电流使其正常工作,基准核心电路基于阈值电压和热电压的一阶温度补偿原理,采用CMOS型自偏置电流产生电路产生电流并经过有源负载产生基准电压VREF,温度检测电路提取MOS器件的阈值电压进行温度检测,经温度补偿逻辑开启电路进行逻辑处理后输出给高低温温度补偿电路,高低温温度补偿电路针对对不同的工作温度范围进行补偿并将补偿结果反馈耦合到基准核心电路输出的基准电压中,实现宽温度工作条件下低温度系数和高电源抑制比的全MOS电压基准源。

    一种宽输入范围高电源抑制比的带隙基准电压源

    公开(公告)号:CN106959723B

    公开(公告)日:2018-04-13

    申请号:CN201710351210.9

    申请日:2017-05-18

    Abstract: 一种宽输入范围高电源抑制比的带隙基准电压源,包括电压预调节电路和带隙基准核电路,电压预调节电路产生一个低温漂、高电源抑制比的预调节电压Vreg对带隙基准核电路进行供电,带隙基准核电路包括启动电路、负温度系数电流ICTAT产生电路、正温度系数电流IPTAT产生电路和非线性电流INL产生电路,非线性电流INL产生电路用于补偿负温度系数电流ICTAT产生电路中的高阶温度分量,通过叠加电流ICTAT、IPTAT、INL并由电流‑电压转换电路得到近似零温度系数的基准电压Vref。

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