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公开(公告)号：CN113039465A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN201980066997.1
申请日：2019-08-01
Applicant: 株式会社V技术
Abstract: 本发明提供一种修复用单元，该修复用单元是用作缺陷单元的替代品的修复用单元(21a)，具备：微型LED(3)，其发出从紫外至蓝色波段中的具有特定的光谱的光，在彼此相对的面中的一个面上具有用于发光的电极(31a、31b)，在另一个面形成有将光射出的光射出面(32)；平坦化膜(4)，其形成为平板状，在预先决定的位置具有用于与微型LED(3)的周侧面粘接而对微型LED(3)进行保持的包围壁(41)，通过紫外线照射或加热而表现出粘接功能，从而保持1个或多个微型LED(3)；以及荧光发光层(11)，其设置在平坦化膜上，是与微型LED(3)的数量相应地在周围被遮光壁(12)包围的区域中填充荧光材料而成的，上述荧光材料由从微型LED(3)射出的光激发而波长转换为对应颜色的荧光，由此，省略复杂的工序，缩短节拍时间，并能修复微型LED显示器的缺陷部位。
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公开(公告)号：CN111684511A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201980011675.7
申请日：2019-01-23
Applicant: 株式会社V技术
Abstract: 本发明具备：LED阵列基板(1)，它是将放出紫外或蓝色波段的光的多个LED(4)呈矩阵状配置在布线基板(5)上而成；多个荧光发光层(2)，它们以使荧光色素均匀地分散到感光树脂中而具有的荧光抗蚀层的岛形图案的形式形成于对应三原色的多个所述LED(4)上，被从所述LED(4)放出的激发光激发而波长转换为对应颜色的荧光；以及遮光构件(3)，其被覆设置在所述荧光发光层(2)的除放光面(2a)以外的周面(2b)上，反射或吸收所述激发光及所述荧光。由此，可靠地防止邻接的荧光发光层间的混色。
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公开(公告)号：CN111264089A
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201880069088.9
申请日：2018-10-17
Applicant: 株式会社V技术
Abstract: 本发明是用于将微型LED(3)装配到配线基板(4)的基板连接结构，在与上述微型LED(3)的触点(5)对应地设置于上述配线基板(4)的电极焊盘(6)上，具备使上述触点(5)与上述电极焊盘(6)电连接的导电性的弹性突起部(7)，上述弹性突起部(7)是通过图案化形成的。由此，能安装电极间隔窄的电子部件。
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公开(公告)号：CN105209976B
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201480027536.0
申请日：2014-06-16
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/7015 , G03F7/201 , G03F7/70275
Abstract: 本发明涉及通过利用微透镜阵列将掩模上的图案成像在基板上而曝光基板的曝光装置等，并使射出曝光光的照明单元小型化。微透镜阵列(30)具有包含朝向与移动方向(A)相交的方向的排列且以二维方式配置的多个微透镜(31)，照明单元具有：排列有多个激光二极管的LD阵列条；以及照明光学系统，其将从构成该LD阵列条的多个激光二极管射出的多个发出光转换成缝形状的曝光光束，并利用该曝光光束的曝光光(170)对排成一列的多个微透镜上进行照明，关于与移动方向相交的方向，该曝光光束以跨越在该方向上排列的多个微透镜的方式扩展，并且关于移动方向，该曝光光束被限制为不会波及排列于在该移动方向上相邻的列上的微透镜的宽度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105980933B
公开(公告)日：2018-06-22
申请号：CN201580007561.7
申请日：2015-02-26
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: G03F7/7015 , B41J2/447 , B41J2/47 , G03F7/2057 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03G15/04054
Abstract: 在使多个光束的射束之间微小偏转的射束曝光装置中均匀地进行多个光束的微小偏转。射束曝光装置(1)具备：光出射部(2)，从多个光出射位置(2a)射出光束(Lb)；扫描部(3)；聚光光学系统(4)，将光束(Lb)的光斑聚光于被曝光面(Ex)；及微小偏转部(5)，将多个光束(Lb)微小偏转以曝光多个光束(Lb)的射束之间。聚光光学系统(4)具备：第1微透镜阵列(41)，配置在光出射部(2a)与微小偏转部(5)之间，并具备多个与光出射位置(2a)对应的微透镜(41M)；及第2微透镜阵列(42)，配置在微小偏转部(5)与被曝光面(Ex)之间，并具备多个与光出射位置(2a)对应的微透镜(42M)。
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公开(公告)号：CN104412152B
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201380034672.8
申请日：2013-03-29
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02F1/1337 , G02F1/13
CPC classification number: G02F1/133788 , G02F1/133753 , G02F2001/133757
Abstract: 本发明提供一种光取向曝光方法及光取向曝光装置。将取向曝光方式适用于多域法时，消除单位图像区域的分割区域的边界附近的取向混乱。一种光取向曝光方法，其将液晶显示元件的各单位图像区域(Pa)分割为多个分割区域(Da1、Da2)，并分别向不同方向对各分割区域(Da1、Da2)的取向材料膜进行光取向，所述光取向曝光方法具有：第1曝光工序，相对于整个单位图像区域(Pa)的被曝光面以倾斜的光照射角度(θ1)照射光；及第2曝光工序，相对于分割区域(Da1、Da2)中的一个区域即第2分割区域(Da2)，用以与第1曝光工序中的光照射角度(θ1)不同的角度倾斜的光照射角度(θ2)照射光。第2曝光工序经由与分割区域(Da1、Da2)中的一个区域即第2分割区域(Da2)对应的掩模图案照射光，通过聚光机构(13)对掩模图案的透射光进行聚光并照射于所曝光的第2分割区域(Da2)。
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公开(公告)号：CN105121692B
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201480020185.0
申请日：2014-03-31
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: C23C14/042 , H01L51/0011
Abstract: 本发明是成膜掩模(1)，成膜掩模(1)具有使树脂制的膜(3)与片状的磁性金属构件(2)的一面紧密接触而形成的结构，磁性金属构件(2)具有并列排列的狭缝状的多个贯通孔(5)，成膜掩模(1)设有在上述各贯通孔(5)内的上述膜(3)的部分贯通的多个开口图案(6)，上述膜(3)具有线膨胀系数在正交二轴不同的各向异性，上述膜(3)的线膨胀系数小的轴与和上述磁性金属构件(2)的上述贯通孔(5)的长轴交叉的方向一致。
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公开(公告)号：CN103797149B
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201280044893.9
申请日：2012-09-14
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: B05B12/20 , B23K26/342 , B23K26/359 , B23K26/382 , C23C14/042 , C23C14/24 , C23C14/34 , C23C14/48 , H01L51/0011 , H01L51/5012 , Y10T156/10
Abstract: 本发明是用于在基板上蒸镀形成一定形状的薄膜图案的蒸镀掩膜，该蒸镀掩膜构成为具备透射可见光的树脂制的膜，该树脂制的膜对应于预先在所述基板上确定的所述薄膜图案的形成区域，形成了与该薄膜图案的形状尺寸相同的贯通的开口图案。
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公开(公告)号：CN106536066A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201580038458.9
申请日：2015-07-03
Applicant: 株式会社V技术
Abstract: 本发明的成膜方法进行：在使金属掩模(6)贴紧到显示面板(4)的显示面(4a)的状态下，一边加热金属掩模(6)，一边从金属掩模(6)侧对显示面板(4)的显示面(4a)涂敷液体的成膜材料膜材料(16)而形成薄膜图案的步骤。(16)的步骤；以及加热并烧制所涂敷的液体的成
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