公开(公告)号：CN204101765U

公开(公告)日：2015-01-14

申请号：CN201420447592.7

申请日：2014-08-08

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 新井敏成 ,  桥本和重

IPC: G02B5/30 ,  G02B27/28 ,  G02F1/1337

Abstract: 本实用新型提供一种偏光元件单元以及使用偏光元件单元的偏光照射装置，偏光元件单元能够防止未偏振光等泄露，并减少未偏振光照射于光取向膜用抗蚀剂，并减少曝光光的照射不均，还提供一种使用该单元的偏光照射装置。本实用新型提供的偏光照射装置(10)对取向膜用抗蚀剂(W1)照射偏振光，进行光取向，其特征在于，包括：光源部(11)，其用于对抗蚀剂(W1)照射光；以及偏光元件单元(1)，其由平行四边形的单位偏光元件构成，用于使来自该光源的光偏振成规定的偏振光。光源部(11)的光源(12)为平行于偏光元件单元(1)的单位偏光元件(2)的排列方向配置的线状光源。

公开(公告)号：CN104395831B

公开(公告)日：2018-07-06

申请号：CN201380034890.1

申请日：2013-03-29

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 桥本和重 ,  新井敏成 ,  富冢吉博

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/201 ,  G03F7/2004

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其使用多个短尺寸灯作为光源，并能够以简单的结构进行照度不均较低的曝光。提供一种可轻松更换灯的曝光装置。曝光装置(100)具有：搬送部(2)，向搬送方向搬送被曝光体(11)；及光照射部(3)，在水平面内以规定间隔排列配置有具备长边方向的长度比被曝光体(11)短的棒状光源(32)及配置于光源(32)与被曝光体(11)之间的偏光器(34)的多个光照射单元(31)，光照射单元(31)配置成光源(32)及偏光器(34)相对于被曝光体(11)平行，且各偏光器(34)的偏振轴的方向相对于搬送方向设定为规定方向，各光源(32)配置成光源(32)的长边方向相对于搬送方向平行或成为倾斜方向。曝光装置(100)具有摆动机构(56b)，所述摆动机构使被曝光体(11)或光照射部(3)向相对于搬送方向交叉的方向摆动。

公开(公告)号：CN105008990B

公开(公告)日：2018-03-30

申请号：CN201480009344.7

申请日：2014-03-07

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 桥本和重 ,  新井敏成 ,  井关克登

IPC: G02F1/1337 ,  F21V19/00 ,  G02F1/13 ,  H01L21/027 ,  G02B5/30

CPC classification number: G02B27/286 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/133788

Abstract: 本发明提供一种光取向用偏光照射装置，以作业性良好、且节省空间地进行光取向用偏光照射装置中的光源的维护。光取向用偏光照射装置(1)具备光照射部(10)，其具有包含光源(2)及偏振器(4)的光学部件，光照射部(10)具备将光源(2)在光学部件之上的光照射位置(P1)支承的同时，在从光学部件向扫描方向远离的维护位置(P2)支承的光源支承导杆(11)，光源支承导杆(11)使光源(2)从光照射位置(P1)移动至维护位置(P2)时，使光源(2)的朝向发生变化，以使光照射侧沿着扫描方向。

公开(公告)号：CN105980933A

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201580007561.7

申请日：2015-02-26

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  石川晋 ,  佐藤敬行 ,  桥本和重

IPC: G03F7/20 ,  B41J2/447 ,  G02B13/00 ,  G03G15/04

CPC classification number: G03F7/7015 ,  B41J2/447 ,  B41J2/47 ,  G03F7/2057 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/704 ,  G03G15/04054

Abstract: 在使多个光束的射束之间微小偏转的射束曝光装置中均匀地进行多个光束的微小偏转。射束曝光装置(1)具备：光出射部(2)，从多个光出射位置(2a)射出光束(Lb)；扫描部(3)；聚光光学系统(4)，将光束(Lb)的光斑聚光于被曝光面(Ex)；及微小偏转部(5)，将多个光束(Lb)微小偏转以曝光多个光束(Lb)的射束之间。聚光光学系统(4)具备：第1微透镜阵列(41)，配置在光出射部(2a)与微小偏转部(5)之间，并具备多个与光出射位置(2a)对应的微透镜(41M)；及第2微透镜阵列(42)，配置在微小偏转部(5)与被曝光面(Ex)之间，并具备多个与光出射位置(2a)对应的微透镜(42M)。

公开(公告)号：CN104395832B

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201380034909.2

申请日：2013-03-29

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  桥本和重 ,  新井敏成

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/1337

CPC classification number: G02F1/133788 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/133753 ,  G02F2001/133757 ,  G03F7/201 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70325 ,  G03F7/70358

Abstract: 本发明提供一种光取向曝光装置及光取向曝光方法。将取向曝光方式适用于多域法时，消除单位图像区域的分割区域中的边界附近的取向混乱。一种光取向曝光装置(100)，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，所述光取向曝光装置具备：第1掩模(M1)及第1曝光装置(11)，用于单独接近式曝光第1分割区域(Da1)；第2掩模(M2)及第2曝光装置(12)，用于单独接近式曝光与第1分割区域(Da1)相邻的第2分割区域(Da2)；及第3掩模(M3)及第3曝光装置(13)，用于曝光第1分割区域(Da1)与第2分割区域(Da2)的边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域，第3曝光装置(13)相对于被曝光面Bs具备与第1曝光装置(11)或第2曝光装置(12)相同的光照射角度，在第3掩模(M3)的掩模开口与被曝光面(Bs)之间具备聚光机构(20)，其使掩模透射光聚光于边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域。

公开(公告)号：CN102947760B

公开(公告)日：2015-05-13

申请号：CN201180029636.3

申请日：2011-05-26

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 畑中诚 ,  岩本正实 ,  桥本和重

IPC: G03F1/42 ,  G03F7/20 ,  H01L21/20 ,  H01L21/268

CPC classification number: G03F1/42 ,  G03F1/50 ,  H01L21/0268

Abstract: 本发明具备：多个掩模图案(2)，其在与基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使光通过；以及多个对准标记(4)，其形成为各具备一对细线(4a、4b)的结构，相对于多个掩模图案2配置在与基板搬运方向相反一侧的位置，在基板搬运方向上相互分开一定距离，并且形成为预先设定在一对细线(4a、4b)间的基准位置在与基板搬运方向交叉的方向上相互偏离预先决定的距离的状态，一对细线(4a、4b)具有与设置在基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与基板搬运方向平行地形成。由此，在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情况下，也会使对移动中的基板的跟随性变得良好。

公开(公告)号：CN103314328B

公开(公告)日：2015-08-26

申请号：CN201180064668.7

申请日：2011-10-24

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 新井敏成 ,  桥本和重

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/20 ,  G03B27/10 ,  G03F7/70791 ,  G03F9/00 ,  Y10S430/146

Abstract: 在膜基材（20）上的曝光图案形成用区域形成有曝光材料膜（21）的膜（2）中，在其宽度方向上的两侧缘部的至少一方涂敷有色的烧结材料、有色的光固化性材料或有色的墨水而形成侧部涂敷膜（22），通过定位标记形成部（14）照射激光而形成定位标记（2a），使用该定位标记（2a）检测膜曲折，调整掩模（12）的位置。由此，在对膜基材上的曝光图案形成区域形成有曝光材料膜的膜进行连续曝光时，定位标记的形成及形成的定位标记的检测容易，能高精度地校正膜的曲折，能稳定地进行曝光。

公开(公告)号：CN104412152A

公开(公告)日：2015-03-11

申请号：CN201380034672.8

申请日：2013-03-29

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  桥本和重 ,  新井敏成

IPC: G02F1/1337 ,  G02F1/13

CPC classification number: G02F1/133788 ,  G02F1/133753 ,  G02F2001/133757

Abstract: 本发明提供一种光取向曝光方法及光取向曝光装置。将取向曝光方式适用于多域法时，消除单位图像区域的分割区域的边界附近的取向混乱。一种光取向曝光方法，其将液晶显示元件的各单位图像区域(Pa)分割为多个分割区域(Da1、Da2)，并分别向不同方向对各分割区域(Da1、Da2)的取向材料膜进行光取向，所述光取向曝光方法具有：第1曝光工序，相对于整个单位图像区域(Pa)的被曝光面以倾斜的光照射角度(θ1)照射光；及第2曝光工序，相对于分割区域(Da1、Da2)中的一个区域即第2分割区域(Da2)，用以与第1曝光工序中的光照射角度(θ1)不同的角度倾斜的光照射角度(θ2)照射光。第2曝光工序经由与分割区域(Da1、Da2)中的一个区域即第2分割区域(Da2)对应的掩模图案照射光，通过聚光机构(13)对掩模图案的透射光进行聚光并照射于所曝光的第2分割区域(Da2)。

公开(公告)号：CN104395831A

公开(公告)日：2015-03-04

申请号：CN201380034890.1

申请日：2013-03-29

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 桥本和重 ,  新井敏成 ,  富冢吉博

IPC: G03F7/20 ,  F21S2/00 ,  F21V19/00 ,  H01L21/027 ,  F21Y103/00

CPC classification number: G03F7/201 ,  G03F7/2004

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其使用多个短尺寸灯作为光源，并能够以简单的结构进行照度不均较低的曝光。提供一种可轻松更换灯的曝光装置。曝光装置(100)具有：搬送部(2)，向搬送方向搬送被曝光体(11)；及光照射部(3)，在水平面内以规定间隔排列配置有具备长边方向的长度比被曝光体(11)短的棒状光源(32)及配置于光源(32)与被曝光体(11)之间的偏光器(34)的多个光照射单元(31)，光照射单元(31)配置成光源(32)及偏光器(34)相对于被曝光体(11)平行，且各偏光器(34)的偏振轴的方向相对于搬送方向设定为规定方向，各光源(32)配置成光源(32)的长边方向相对于搬送方向平行或成为倾斜方向。曝光装置(100)具有摆动机构(56b)，所述摆动机构使被曝光体(11)或光照射部(3)向相对于搬送方向交叉的方向摆动。

公开(公告)号：CN103885247A

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：CN201410070500.2

申请日：2009-04-02

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  水村通伸 ,  桥本和重

IPC: G02F1/1337

CPC classification number: G02F1/133788

Abstract: 本发明涉及一种液晶显示装置的制造方法，其在对在TFT基板和相对电极基板之间以矩阵状形成多个像素并密封有液晶的液晶显示用基板的所述各像素施加了电场的状态，对所述液晶显示用基板照射规定波长的光，使得所述液晶的分子定向于规定方向，包括：将所述液晶显示用基板和灯体以相互相对的状态浸入到具有规定值以上的电阻率并对所述光具有充分的高透过率的透明液体中的步骤；和在对所述各像素施加了规定量的电场的状态下点亮所述灯体并对所述液晶显示用基板照射规定光量的所述光的步骤。