公开(公告)号：CN102947760B

公开(公告)日：2015-05-13

申请号：CN201180029636.3

申请日：2011-05-26

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 畑中诚 ,  岩本正实 ,  桥本和重

IPC: G03F1/42 ,  G03F7/20 ,  H01L21/20 ,  H01L21/268

CPC classification number: G03F1/42 ,  G03F1/50 ,  H01L21/0268

Abstract: 本发明具备：多个掩模图案(2)，其在与基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使光通过；以及多个对准标记(4)，其形成为各具备一对细线(4a、4b)的结构，相对于多个掩模图案2配置在与基板搬运方向相反一侧的位置，在基板搬运方向上相互分开一定距离，并且形成为预先设定在一对细线(4a、4b)间的基准位置在与基板搬运方向交叉的方向上相互偏离预先决定的距离的状态，一对细线(4a、4b)具有与设置在基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与基板搬运方向平行地形成。由此，在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情况下，也会使对移动中的基板的跟随性变得良好。

公开(公告)号：CN102804075B

公开(公告)日：2015-04-01

申请号：CN201080028720.9

申请日：2010-06-15

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 岩本正实

IPC: G03F9/00

CPC classification number: G03F7/70791 ,  G03F7/70775 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7003

Abstract: 本发明提供一种对准方法、对准装置及曝光装置。一边输送将图案形成为矩阵状的基板，一边对通过摄像机构以一定的时间间隔拍摄到的多个图像依次进行处理而检测受光元件的排列方向上的亮度变化的位置，在基板移动一定距离期间，将在相同位置检测到的亮度变化的次数进行累计，得到与检测到的亮度变化的位置对应排列的多个边缘个数数据，使模板移动，并对算出的多个边缘个数数据进行相关运算，得到多个相关值数据，根据超过了预先设定的阈值的多个相关值数据来确定多个图案的位置，从其中选择与摄像机构的目标位置接近的图案的位置，算出该图案的位置与摄像机构的目标位置的位置偏差量，以该位置偏差量成为预先设定的值的方式使光掩模沿着与基板的输送方向大致正交的方向移动，其中该摄像机构具有在与基板的输送方向交叉的方向上排列成一直线状的多个受光元件。

公开(公告)号：CN102947760A

公开(公告)日：2013-02-27

申请号：CN201180029636.3

申请日：2011-05-26

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 畑中诚 ,  岩本正实 ,  桥本和重

IPC: G03F1/42 ,  G03F7/20 ,  H01L21/20 ,  H01L21/268

CPC classification number: G03F1/42 ,  G03F1/50 ,  H01L21/0268

Abstract: 本发明具备：多个掩模图案(2)，其在与基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使光通过；以及多个对准标记(4)，其形成为各具备一对细线(4a、4b)的结构，相对于多个掩模图案2配置在与基板搬运方向相反一侧的位置，在基板搬运方向上相互分开一定距离，并且形成为预先设定在一对细线(4a、4b)间的基准位置在与基板搬运方向交叉的方向上相互偏离预先决定的距离的状态，一对细线(4a、4b)具有与设置在基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与基板搬运方向平行地形成。由此，在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情况下，也会使对移动中的基板的跟随性变得良好。

公开(公告)号：CN102460309B

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201080026619.X

申请日：2010-06-08

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 岩本正实

IPC: G03F9/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F9/7038 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/7035 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7088

Abstract: 本发明公开一种输送图案为矩阵状的基板，并对通过摄像机构以一定的时间间隔拍摄到的多个图像依次进行处理而检测受光元件的排列方向上的亮度变化的位置，在基板移动一定距离期间，将在相同位置检测到的亮度变化的次数进行累计，而得到多个边缘个数数据，根据超过了规定的阈值的多个边缘个数数据，来确定上述图案的与输送方向平行的多个长边的位置，运算该多个接近对的中点位置，从该接近对的中点位置中选择与预先设定于摄像机构的目标位置接近的中点位置，算出该中点位置与摄像机构的目标位置的位置偏差量，以该位置偏差量成为规定值的方式使光掩模沿着与基板的输送方向大致正交的方向移动。

公开(公告)号：CN102804075A

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：CN201080028720.9

申请日：2010-06-15

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 岩本正实

IPC: G03F9/00

CPC classification number: G03F7/70791 ,  G03F7/70775 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7003

Abstract: 本发明提供一种对准方法、对准装置及曝光装置。一边输送将图案形成为矩阵状的基板，一边对通过摄像机构以一定的时间间隔拍摄到的多个图像依次进行处理而检测受光元件的排列方向上的亮度变化的位置，在基板移动一定距离期间，将在相同位置检测到的亮度变化的次数进行累计，得到与检测到的亮度变化的位置对应排列的多个边缘个数数据，使模板移动，并对算出的多个边缘个数数据进行相关运算，得到多个相关值数据，根据超过了预先设定的阈值的多个相关值数据来确定多个图案的位置，从其中选择与摄像机构的目标位置接近的图案的位置，算出该图案的位置与摄像机构的目标位置的位置偏差量，以该位置偏差量成为预先设定的值的方式使光掩模沿着与基板的输送方向大致正交的方向移动，其中该摄像机构具有在与基板的输送方向交叉的方向上排列成一直线状的多个受光元件。

公开(公告)号：CN102460309A

公开(公告)日：2012-05-16

申请号：CN201080026619.X

申请日：2010-06-08

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 岩本正实

IPC: G03F9/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F9/7038 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/7035 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7088

Abstract: 本发明公开一种输送图案为矩阵状的基板，并对通过摄像机构以一定的时间间隔拍摄到的多个图像依次进行处理而检测受光元件的排列方向上的亮度变化的位置，在基板移动一定距离期间，将在相同位置检测到的亮度变化的次数进行累计，而得到多个边缘个数数据，根据超过了规定的阈值的多个边缘个数数据，来确定上述图案的与输送方向平行的多个长边的位置，运算该多个接近对的中点位置，从该接近对的中点位置中选择与预先设定于摄像机构的目标位置接近的中点位置，算出该中点位置与摄像机构的目标位置的位置偏差量，以该位置偏差量成为规定值的方式使光掩模沿着与基板的输送方向大致正交的方向移动。