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公开(公告)号：CN104613988A
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201510061572.5
申请日：2015-02-06
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 基于FBG光纤的中心波长稳定装置与方法属于振动信号检测领域；该装置包括ASE光源，沿ASE光源的出射光路依次设置第一光环形器、F-P传感器、第二光环形器和FBG光纤，FBG光纤的反/透射光路通过第一/二光电转换器连接除法器，除法器依次连接ADC、FPGA、DAC和控制FBG光纤温度的温度控制器；该方法按照时间顺序，依次采集振动信号、提取窄带光、去噪、控制信号转换、调整FBG光纤反射光路的中心波长；本发明由于将FFP-TF替换成了FBG光纤，并将FBG光纤设置于F-P传感器的反射光路上，因此不仅降低了对光源的要求，而且提高了强度解调系统的分辨力、量程和信噪比，同时有利于实现仪器小型化，降低成本。
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公开(公告)号：CN104086791A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201410292533.1
申请日：2014-06-18
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C08J5/18 , C08L25/14 , C08L33/08 , C08F220/18 , C08F212/08
Abstract: 本发明公开了一种光学特性可控的形状记忆聚合物薄膜及其制备方法。所述的形状记忆聚合物薄膜是将一定比例配制的苯乙烯基形状记忆聚合物溶液为原材料，采用微光刻硅基模板和匀胶旋涂技术制备了多种形状记忆聚合物微图案结构薄膜。该制备方法操作简单，成本低，薄膜厚度可控，薄膜表面微纳结构可根据应用需求进行预先设计，可适用于微光学领域多种应用需求。所述的苯乙烯基形状记忆聚合物薄膜具有优异的形状记忆性能，可在热激励下实现结构薄膜表面压印消失的结构快速回复的过程。结合材料本身的形状记忆特性，可实现结构薄膜的光学特性可控，并在可调谐微光学器件，颜色调控智能建筑、显示器和传感器等领域具有广泛的应用前景。
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公开(公告)号：CN103824288A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN201410052678.4
申请日：2014-02-17
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G06T7/00
Abstract: 一种针对透镜阵列的阵列图像配准模板属于光谱成像技术领域，具体涉及一种用于快照成像的阵列图像配准模板；该阵列图像配准模板包括黑色的基底和刻蚀在基底上的白色特征线条，所述的特征线条包括等间距分布的纵线和等间距分布的横线，相邻两条纵线和相邻两条横线围成网格，网格内部刻蚀有特征标记编码；本发明阵列图像配准模板，采用黑色的基底和白色的特征线条，可以减小基底散射光对特征的掩盖，提高图像的信噪比，有利于提高配准精度；而设计的特征标记编码，采用经过编码的特征点，可以加速特征点的搜索速度，当搜索的一到两个特征点后，其他特征点位置可以依据网格交叉点确定，提高配准效率。
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公开(公告)号：CN103644848A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201310674590.1
申请日：2013-12-12
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01B11/02
Abstract: 一种使用双频激光的三维光栅位移测量系统涉及一种光栅位移测量系统；该测量系统包括出射端接光纤的双频激光器、分光部件、偏振分光棱镜、测量臂/参考臂四分之一波片、测量臂/参考臂折光元件、二维反射式参考/测量光栅和光电探测及信号处理部件；二维反射式测量光栅的x/y方向周期均为d1，二维反射式参考光栅的x/y方向周期均为d2；所述测量臂折光元件的x/y方向折光角度均为θi1，参考臂折光元件的x/y方向折光角度均为θi2，且分别满足2d1sinθi1=±mλ1、2d2sinθi2=±mλ2；本发明不仅提出了可以同时测量三轴位移的光栅测量系统，而且提高了测量信号的抗干扰能力，同时z向位移量程得到极大的扩展。
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公开(公告)号：CN102053489A
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN201010533159.1
申请日：2010-11-05
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 基于硫醇-烯的连续浮雕微光学元件高精度紫外压印方法属于微光学元件制造领域。在传统连续浮雕结构微光学元件紫外压印工艺中，使用硫醇-烯类紫外光引发高分子材料作为抗蚀剂使用，通过调节压印压力、控制残胶层厚度的方法使抗蚀剂固化产生的收缩应力通过流体流动的方式得以弛豫，使连续浮雕结构微光学元件的收缩误差降低至3％以下，残胶层厚度为500-1000nm。该方法具有复制收缩误差小、刻蚀选择性优良等特点，可实现连续浮雕结构微光学元件向石英玻璃基底的图形传递。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101221359B
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN200810063985.7
申请日：2008-02-04
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 基于热压印技术的金属材料反射式微光学元件加工方法，涉及微光学元件制作技术；该方法制作具有多台阶或连续浮雕结构特征的反射式微光学元件包括以下五个步骤：①应用微细加工技术制备用于热压印的压模；②应用热压印将压模的浮雕结构压印到聚合物薄片上；③在具有表面浮雕结构的聚合物表面蒸镀金属层；④应用电铸技术进行支撑结构加工，材料与蒸镀金属一致；⑤将聚合物剥离。；本发明所得到的反射式微光学元件为单一金属材料，在高温等恶劣的工作环境下具有高稳定性，高强度、高硬度、高抗辐射损伤阈值的特点。
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公开(公告)号：CN100504513C
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200510130464.5
申请日：2005-12-09
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开了一种双位相复合超分辨光瞳滤波方法，包括将直写光束分成相互正交的第一光束和第二光束；对第一光束进行位相调制；对第二光束进行位相调制；位相调制通过第一、第二位相调制板实现，所述第一、第二位相调制板的结构由其归一化位相分布函数确定；使所述第一光束和第二光束通过聚焦物镜会聚；使所述第一光束和第二光束聚焦于同一焦平面上的步骤；本发明的有益效果在于，不需要制作透过率调制板就可以实现透过率调制，避免了光束遮挡、光束整形、透过率渐变掩模板调制过程中生成杂散光的问题。本发明的还提供一种实现上述双位相复合超分辨光瞳滤波方法的装置。
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公开(公告)号：CN101231463A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200810063984.2
申请日：2008-02-04
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 基于紫外压印的多相位与连续浮雕结构光学元件制作方法涉及光学元件制作技术；该方法制作具有多台阶与连续浮雕结构特征的微光学元件包括以下三个步骤：①应用微细加工技术制备具有表面浮雕结构的压模；②应用纳米压印技术将压模上的浮雕结构压印到基片上的聚合物上；其特征在于，该方法所使用的纳米压印技术为紫外压印技术，并且该方法还包括以下步骤，③以聚合物结构为掩模，通过干法刻蚀技术实现微细结构图形向硬质基片的传递，应用该方法可以实现单一材料且表面具有多相位或连续浮雕结构的非聚合物硬质光学材料微光学元件的加工，较传统方法具有更大的加工能力。
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公开(公告)号：CN101221358A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200810063983.8
申请日：2008-02-04
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 基于柔性紫外压模的曲面基底多相位微光学元件加工方法涉及微光学元件制作技术；该方法增加了以聚合物结构为掩模，应用干法刻蚀技术在基片上获得浮雕结构步骤，完成微细结构向硬质基板表面的图形传递，并且在压印步骤中，软压印模在压印过程所外加的预压力作用下发生弹性形变而弯曲成与被加工表面相近的形状，且变形量的大小可通过有限元仿真的方法计算得到，母板制作步骤中的压模母板表面微细结构的形貌与尺寸需要针对该形变量的大小对进行补偿设计，应用该方法可以实现单一材料曲面基底非聚合物硬质光学材料微光学元件的加工制作。
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公开(公告)号：CN1632338A
公开(公告)日：2005-06-29
申请号：CN200510009639.7
申请日：2005-01-18
IPC: F16C32/06
Abstract: 本发明“混合式螺旋槽动静压气体复合圆柱轴承”涉及一种高速、高刚度、大载荷超精密螺旋槽动静压气体复合圆柱轴承，在圆柱轴承工作面上，静压气浮供气点分布圆两侧分别开有人字形动压沟槽，在不增加气浮轴承耗气量的情况下，轴承承载能力比传统静压气浮轴承提高30％以上，轴承刚度比传统静压气浮轴承提高15％以上。
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