具有金属网栅结构的电磁屏蔽曲面光学窗制作方法

    公开(公告)号:CN104837326B

    公开(公告)日:2018-03-23

    申请号:CN201510262996.8

    申请日:2015-05-21

    Inventor: 金鹏 韩余

    Abstract: 具有金属网栅结构的电磁屏蔽曲面光学窗制作方法属于光学窗技术领域;该方法首先在曲面衬底外表面边缘粘贴胶带,并涂覆裂纹漆,然后在合适的条件下将裂纹漆自然干燥,形成裂纹模板,再揭除胶带,接着在裂纹模板表面沉积导电金属层,最后溶解去除裂纹模板,得到电磁屏蔽曲面光学窗;本发明不仅避免因金属线宽增加而降低光学窗透光性能的问题,而且避免传统机械摩擦方式同时降低光学窗的透光性能和电磁屏蔽性能,还给出能够解决高级次衍射能量分布不均匀问题的具体加工条件,使本发明方法制作出的电磁屏蔽光学窗,不仅具有良好的电磁屏蔽性能,而且具有良好的光学性能,同时应用范围更广。

    一种光纤微型水听器
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106644039A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201710044931.5

    申请日:2017-01-20

    CPC classification number: G01H9/004

    Abstract: 本发明光纤微型水听器属于声压传感器技术领域;该水听器包括四层结构,第一层是膜片,所述膜片为PDMS平膜或PET纹膜,第二层是中心有圆形通孔的第一支撑层,第三层是中心有圆形通孔的第二支撑层,第四层是中心有圆形通孔、边缘有通气孔的第三支撑层;膜片、第一支撑层、第二支撑层和第三支撑层依次中心对准键合在一起;第一支撑层、第二支撑层和第三支撑层的圆形通孔直径依次减小,呈阶梯状排列;在第三支撑层的圆形通孔中安装有插芯,插芯的中心插有光纤;从膜片到光纤端面为F‑P腔;本发明光纤微型水听器,能够解决膜片材料或膜片形状所带来的技术问题。

    一种电磁屏蔽光学窗的制作方法

    公开(公告)号:CN104822249A

    公开(公告)日:2015-08-05

    申请号:CN201510262998.7

    申请日:2015-05-21

    Inventor: 金鹏 韩余

    Abstract: 一种电磁屏蔽光学窗的制作方法属于光学窗技术领域;该方法首先在平板衬底的上表面滴涂含有水性丙烯酸树脂的裂纹甲油,然后采用旋涂法将其均匀涂覆在衬底表面,形成掩模层薄膜;再在特定温度和湿度范围下,将掩模层薄膜自然干燥,形成裂纹模板;然后在裂纹模板的表面沉积导电金属层;最后溶解去除裂纹模板,得到电磁屏蔽光学窗;本发明不仅避免因金属线宽增加而降低光学窗透光性能的问题,而且避免传统机械摩擦方式同时降低光学窗的透光性能和电磁屏蔽性能,还给出能够解决高级次衍射能量分布不均匀问题的具体加工条件,使本发明方法制作出的电磁屏蔽光学窗,不仅具有良好的电磁屏蔽性能,而且具有良好的光学性能。

    一种金属网栅频率选择表面结构及制作方法

    公开(公告)号:CN104834040B

    公开(公告)日:2017-07-28

    申请号:CN201510262957.8

    申请日:2015-05-21

    Inventor: 韩余 金鹏

    Abstract: 一种金属网栅频率选择表面结构及制作方法属于光学窗技术领域;所述频率选择表面结构包括衬底,分布在衬底上的表面具有周期开孔阵列的透明网栅膜;制作方法首先在衬底上表面制作频率选择表面谐振单元掩模结构;并采用旋涂法涂覆含有水性丙烯酸树脂的裂纹甲油,形成掩模层薄膜;然后在特定条件下,将掩模液自然干燥形成裂纹模板;再在裂纹模板的表面沉积导电金属层;最后依次溶解裂纹模板、去除频率选择表面谐振单元掩模结构,得到金属网栅频率选择表面结构;本发明不仅避免因金属线宽增加而降低光学窗透光性能的问题,而且避免传统机械摩擦方式同时降低光学窗的透光性能和电磁屏蔽性能,还给出了解决高级次衍射能量分布不均匀问题的具体加工条件。

    一种光学透明频率选择表面结构及制作方法

    公开(公告)号:CN104950365B

    公开(公告)日:2017-07-21

    申请号:CN201510262958.2

    申请日:2015-05-21

    Inventor: 韩余 金鹏

    Abstract: 一种光学透明频率选择表面结构及制作方法属于光学窗技术领域;所述频率选择表面结构包括衬底,分布在衬底上的表面具有周期开孔阵列的透明网栅膜;制作方法首先在衬底上表面涂覆掩模液,并在特定条件下,将掩模液自然干燥形成裂纹模板;接着在裂纹模板表面沉积导电金属层;然后去除裂纹模板,得到连续的透明网栅膜;再在透明网栅膜上制作开孔阵列掩模结构或其互补结构;并去除掩模结构未覆盖的透明网栅膜;最后去除掩模结构,得到光学透明频率选择表面结构;本发明不仅避免因金属线宽增加而降低光学窗透光性能的问题,而且避免传统机械摩擦方式同时降低光学窗的透光性能和电磁屏蔽性能,还给出了解决高级次衍射能量分布不均匀问题的具体加工条件。

    具有金属网栅结构的电磁屏蔽曲面光学窗制作方法

    公开(公告)号:CN104837326A

    公开(公告)日:2015-08-12

    申请号:CN201510262996.8

    申请日:2015-05-21

    Inventor: 金鹏 韩余

    Abstract: 具有金属网栅结构的电磁屏蔽曲面光学窗制作方法属于光学窗技术领域;该方法首先在曲面衬底外表面边缘粘贴胶带,并涂覆裂纹漆,然后在合适的条件下将裂纹漆自然干燥,形成裂纹模板,再揭除胶带,接着在裂纹模板表面沉积导电金属层,最后溶解去除裂纹模板,得到电磁屏蔽曲面光学窗;本发明不仅避免因金属线宽增加而降低光学窗透光性能的问题,而且避免传统机械摩擦方式同时降低光学窗的透光性能和电磁屏蔽性能,还给出能够解决高级次衍射能量分布不均匀问题的具体加工条件,使本发明方法制作出的电磁屏蔽光学窗,不仅具有良好的电磁屏蔽性能,而且具有良好的光学性能,同时应用范围更广。

    一种内嵌式金属网栅电磁屏蔽光学窗制备方法

    公开(公告)号:CN104837325B

    公开(公告)日:2017-07-28

    申请号:CN201510262960.X

    申请日:2015-05-21

    Inventor: 金鹏 韩余

    Abstract: 一种内嵌式金属网栅电磁屏蔽光学窗制备方法属于光学窗技术领域;该方法首先制作二氧化钛溶胶;然后采用旋涂法在衬底上涂覆二氧化钛溶胶,并使二氧化钛溶胶自然干燥,形成裂缝模板;最后在裂缝模板表面连续刮涂掺有疏水溶剂的纳米银浆,直到纳米银浆充满裂缝,并在50~80℃温度范围内加热烘烤;本发明内嵌式金属网栅电磁屏蔽光学窗制备方法,可以实现在与现有技术相同效果的同时,省略现有技术必须的去除裂缝模板的步骤,节省制作时间和制作成本;同时,烘干后的纳米银浆嵌入到裂缝模板内,有效避免因纳米银浆损坏而造成光学窗电磁屏蔽性能被破坏的问题,此外,还考虑到二氧化钛溶胶厚度的变化会影响光学窗透光性能问题,给出了二氧化钛溶胶的合理厚度。

    一种内嵌式金属网栅电磁屏蔽光学窗制备方法

    公开(公告)号:CN104837325A

    公开(公告)日:2015-08-12

    申请号:CN201510262960.X

    申请日:2015-05-21

    Inventor: 金鹏 韩余

    Abstract: 一种内嵌式金属网栅电磁屏蔽光学窗制备方法属于光学窗技术领域;该方法首先制作二氧化钛溶胶;然后采用旋涂法在衬底上涂覆二氧化钛溶胶,并使二氧化钛溶胶自然干燥,形成裂缝模板;最后在裂缝模板表面连续刮涂掺有疏水溶剂的纳米银浆,直到纳米银浆充满裂缝,并在50~80℃温度范围内加热烘烤;本发明内嵌式金属网栅电磁屏蔽光学窗制备方法,可以实现在与现有技术相同效果的同时,省略现有技术必须的去除裂缝模板的步骤,节省制作时间和制作成本;同时,烘干后的纳米银浆嵌入到裂缝模板内,有效避免因纳米银浆损坏而造成光学窗电磁屏蔽性能被破坏的问题,此外,还考虑到二氧化钛溶胶厚度的变化会影响光学窗透光性能问题,给出了二氧化钛溶胶的合理厚度。

    一种电致变色玻璃
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104834134A

    公开(公告)日:2015-08-12

    申请号:CN201510262915.4

    申请日:2015-05-21

    Inventor: 金鹏 韩余

    CPC classification number: G02F1/134309 G02F1/13439 G02F1/1345

    Abstract: 本发明涉及一种电致变色玻璃;该电致变色玻璃,包括上玻璃板(1)和下玻璃板(2),设置在上玻璃板(1)和下玻璃板(2)中间,由填充胶(3)封闭的双稳态液晶(4);所述上玻璃板(1)的下表面和下玻璃板(2)的上表面均设置有连通金属网络导电层(5),所述的连通金属网络导电层(5)包括电极和引线,所述的电极和引线均为连通金属网络;本发明电致变色玻璃,由于电极具有良好的透光性能和导电性能,因此玻璃的电致变色性能更优越。

    一种光学特性可控形状记忆聚合物薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN104086791B

    公开(公告)日:2017-06-20

    申请号:CN201410292533.1

    申请日:2014-06-18

    Abstract: 本发明公开了一种光学特性可控的形状记忆聚合物薄膜及其制备方法。所述的形状记忆聚合物薄膜是将一定比例配制的苯乙烯基形状记忆聚合物溶液为原材料,采用微光刻硅基模板和匀胶旋涂技术制备了多种形状记忆聚合物微图案结构薄膜。该制备方法操作简单,成本低,薄膜厚度可控,薄膜表面微纳结构可根据应用需求进行预先设计,可适用于微光学领域多种应用需求。所述的苯乙烯基形状记忆聚合物薄膜具有优异的形状记忆性能,可在热激励下实现结构薄膜表面压印消失的结构快速回复的过程。结合材料本身的形状记忆特性,可实现结构薄膜的光学特性可控,并在可调谐微光学器件,颜色调控智能建筑、显示器和传感器等领域具有广泛的应用前景。

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