基于硫醇-烯的连续浮雕微光学元件高精度紫外压印方法

    公开(公告)号:CN102053489A

    公开(公告)日:2011-05-11

    申请号:CN201010533159.1

    申请日:2010-11-05

    Abstract: 基于硫醇-烯的连续浮雕微光学元件高精度紫外压印方法属于微光学元件制造领域。在传统连续浮雕结构微光学元件紫外压印工艺中,使用硫醇-烯类紫外光引发高分子材料作为抗蚀剂使用,通过调节压印压力、控制残胶层厚度的方法使抗蚀剂固化产生的收缩应力通过流体流动的方式得以弛豫,使连续浮雕结构微光学元件的收缩误差降低至3%以下,残胶层厚度为500-1000nm。该方法具有复制收缩误差小、刻蚀选择性优良等特点,可实现连续浮雕结构微光学元件向石英玻璃基底的图形传递。

    基于紫外压印的多相位与连续浮雕结构光学元件制作方法

    公开(公告)号:CN101231463A

    公开(公告)日:2008-07-30

    申请号:CN200810063984.2

    申请日:2008-02-04

    Abstract: 基于紫外压印的多相位与连续浮雕结构光学元件制作方法涉及光学元件制作技术;该方法制作具有多台阶与连续浮雕结构特征的微光学元件包括以下三个步骤:①应用微细加工技术制备具有表面浮雕结构的压模;②应用纳米压印技术将压模上的浮雕结构压印到基片上的聚合物上;其特征在于,该方法所使用的纳米压印技术为紫外压印技术,并且该方法还包括以下步骤,③以聚合物结构为掩模,通过干法刻蚀技术实现微细结构图形向硬质基片的传递,应用该方法可以实现单一材料且表面具有多相位或连续浮雕结构的非聚合物硬质光学材料微光学元件的加工,较传统方法具有更大的加工能力。

    基于柔性紫外压模的曲面基底多相位微光学元件加工方法

    公开(公告)号:CN101221358A

    公开(公告)日:2008-07-16

    申请号:CN200810063983.8

    申请日:2008-02-04

    Abstract: 基于柔性紫外压模的曲面基底多相位微光学元件加工方法涉及微光学元件制作技术;该方法增加了以聚合物结构为掩模,应用干法刻蚀技术在基片上获得浮雕结构步骤,完成微细结构向硬质基板表面的图形传递,并且在压印步骤中,软压印模在压印过程所外加的预压力作用下发生弹性形变而弯曲成与被加工表面相近的形状,且变形量的大小可通过有限元仿真的方法计算得到,母板制作步骤中的压模母板表面微细结构的形貌与尺寸需要针对该形变量的大小对进行补偿设计,应用该方法可以实现单一材料曲面基底非聚合物硬质光学材料微光学元件的加工制作。

    一种管道混合装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101632906A

    公开(公告)日:2010-01-27

    申请号:CN200910305913.3

    申请日:2009-08-21

    Inventor: 李继 刘楠 董文艺

    Abstract: 本发明提供的管道混合装置包括输水管,输水管由输水腔和混合腔组成;输水腔上连通有稀释水管,稀释水管内设置有加药管,稀释水管通过固定件固定于输水腔上,输水腔与混合腔之间设置有变流装置。其解决了现有管道混合装置存在药剂混合效果差的技术问题,通过在输水管中心的加药管口前端加装一个圆锥体变流装置,使药剂从加药口高速射出,碰撞到流装置后改变流向,均匀地径向进入主流体,保持了径向射流技术的优点,使加药口分布均匀。

    基于硫醇-烯的连续浮雕微光学元件高精度紫外压印方法

    公开(公告)号:CN102053489B

    公开(公告)日:2012-12-26

    申请号:CN201010533159.1

    申请日:2010-11-05

    Abstract: 基于硫醇-烯的连续浮雕微光学元件高精度紫外压印方法属于微光学元件制造领域。在传统连续浮雕结构微光学元件紫外压印工艺中,使用硫醇-烯类紫外光引发高分子材料作为抗蚀剂使用,通过调节压印压力、控制残胶层厚度的方法使抗蚀剂固化产生的收缩应力通过流体流动的方式得以弛豫,使连续浮雕结构微光学元件的收缩误差降低至3%以下,残胶层厚度为500-1000nm。该方法具有复制收缩误差小、刻蚀选择性优良等特点,可实现连续浮雕结构微光学元件向石英玻璃基底的图形传递。

    连续浮雕结构微光学元件干法刻蚀图形传递误差补偿方法

    公开(公告)号:CN101487907B

    公开(公告)日:2010-07-14

    申请号:CN200910071492.2

    申请日:2009-03-05

    Abstract: 一种连续浮雕结构微光学元件干法刻蚀图形传递误差补偿方法,该方法包括以下步骤:①以连续浮雕结构微光学元件的理想形貌为基准,得到抗蚀剂表面设计轮廓,并以此为起点;②通过MCFPM模型,仿真分析得到该抗蚀剂轮廓经过干法刻蚀后的传递形貌;③将步骤②中得到的仿真传递形貌与理想形貌相比较,得到图形传递误差,并将其叠加到步骤②起始的抗蚀剂表面轮廓上,得到经过补偿后抗蚀剂设计轮廓;④以步骤③中得到的抗蚀剂设计轮廓作为新的仿真起点,重复进行步骤②和③,得到二次补偿的仿真形貌;⑤重复步骤④所述的仿真及迭代过程,直至仿真传递形貌和理想形貌的误差满足要求;该方法具有成本低、普适性好等特点。

    连续浮雕结构微光学元件干法刻蚀图形传递误差补偿方法

    公开(公告)号:CN101487907A

    公开(公告)日:2009-07-22

    申请号:CN200910071492.2

    申请日:2009-03-05

    Abstract: 一种连续浮雕结构微光学元件干法刻蚀图形传递误差补偿方法,该方法包括以下步骤:①以连续浮雕结构微光学元件的理想形貌为基准,得到抗蚀剂表面设计轮廓,并以此为起点;②通过MCFPM模型,仿真分析得到该抗蚀剂轮廓经过干法刻蚀后的传递形貌;③将步骤②中得到的仿真传递形貌与理想形貌相比较,得到图形传递误差,并将其叠加到步骤②起始的抗蚀剂表面轮廓上,得到经过补偿后抗蚀剂设计轮廓;④以步骤③中得到的抗蚀剂设计轮廓作为新的仿真起点,重复进行步骤②和③,得到二次补偿的仿真形貌;⑤重复步骤④所述的仿真及迭代过程,直至仿真传递形貌和理想形貌的误差满足要求;该方法具有成本低、普适性好等特点。

    应用热压印技术制作微光学元件的方法

    公开(公告)号:CN101131538A

    公开(公告)日:2008-02-27

    申请号:CN200710144392.9

    申请日:2007-09-29

    Abstract: 应用热压印技术制作微光学元件的方法,涉及光学元件制作技术;该方法制作具有多台阶或连续浮雕结构特征的微光学元件包括以下四个步骤:①应用微细加工技术制备具有表面浮雕结构的压模;②应用热压印将压模上的浮雕结构压印到基片上的聚合物上;③以聚合物结构为掩模,应用反应离子刻蚀技术在基片上获得浮雕结构;④根据制作需要按上述①~③步骤进行一次或者重复①~③步骤,直至加工完成最终的微光学元件;本方法具有工艺简单、精度高、速度快、重复性好、费用低、产率高的特点。

    一种管道混合装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101632906B

    公开(公告)日:2011-11-16

    申请号:CN200910305913.3

    申请日:2009-08-21

    Inventor: 李继 刘楠 董文艺

    Abstract: 本发明提供的管道混合装置包括输水管,输水管由输水腔和混合腔组成;输水腔上连通有稀释水管,稀释水管内设置有加药管,稀释水管通过固定件固定于输水腔上,输水腔与混合腔之间设置有变流装置。其解决了现有管道混合装置存在药剂混合效果差的技术问题,通过在输水管中心的加药管口前端加装一个圆锥体变流装置,使药剂从加药口高速射出,碰撞到流装置后改变流向,均匀地径向进入主流体,保持了径向射流技术的优点,使加药口分布均匀。

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