基于非正交分解的空间辐射源到达角估计方法

    公开(公告)号:CN100544233C

    公开(公告)日:2009-09-23

    申请号:CN200610020810.9

    申请日:2006-05-15

    Abstract: 本发明公开了一种基于非正交分解的空间辐射源到达角估计方法,将天线阵元采集数据进行处理的具体作法为:根据空间辐射源信号的载频,天线阵列的特征,按照原子向量g的公式,构造非正交过完备原子向量库G。再对天线阵列接收的数据矢量X在非正交过完备原子库G中进行匹配处理;将阵列天线接收数据在非正交过完备原子库G中作投影,选择可以得到投影分量最大的原子向量g作为最佳原子向量;该最佳原子向量的空间到达角参数θ,即为空间辐射源到达角的估计值。该方法估计精度高,在低信噪比、空间信号源相关的情况下仍然适用,而且对天线阵列误差不敏感,其所需计算量和存储量小,可用于各种通信、雷达、声纳设备上。

    一种气液阵列射流辅助的浮动抛光装置和方法

    公开(公告)号:CN119550228A

    公开(公告)日:2025-03-04

    申请号:CN202411752658.8

    申请日:2024-12-02

    Abstract: 本发明提出了一种气液阵列射流辅助的浮动抛光装置和方法,涉及抛光设备技术领域。包括:基架上设置有抛光箱,抛光箱内设置有抛光盘,抛光盘的上端面呈同心圆设置多个环形凹槽,每个凹槽槽脊上设置一组环形射流孔,每个孔间有固定距离;抛光盘的上方设置有可浮动的样件夹持装置,该装置通过连杆和竖直通槽配合留有轴向自由度;抛光盘的下方设置射流装置;抛光箱内设置有底座,底座上固定转台,转台上连接旋转盘,抛光盘设置在旋转盘上,旋转盘存有凹陷部,上端与抛光盘连接形成射流腔,射流腔与加压装置连接,射流孔贯穿抛光盘与射流腔连通;与现有技术相比,其可实现粗抛光、精抛光和原子级抛光,大大降低抛光工作步骤、时间,并节约设备成本。

    一种内应力可调控微夹具装置

    公开(公告)号:CN111326383B

    公开(公告)日:2024-11-26

    申请号:CN202010151424.3

    申请日:2020-03-06

    Abstract: 本发明公开了一种内应力可调控微夹具装置,包括夹具座、滑动块和螺旋测微头,滑动块和螺旋测微头均活动设置在夹具座上,夹具座两侧设置有挡板一和挡板二,夹具座上设置有梯形滑槽,梯形滑槽一侧设置有销钉孔,挡板一上镜像分布有两个三角形凹槽,挡板二上设置有螺纹孔,螺旋测微头可带动滑动块滑动;滑动块包括上挡板和下滑块,上挡板设置有反向三角形凹槽,下滑块一端侧壁上设置有与销钉相匹配的固定槽;夹具座和滑动块之间相对应的三角形凹槽中设置有弹簧片。本发明结构简单,使用便捷,在尺寸和重量受限的情况下,实现样品弯曲程度的可调控,从而实现样品实时弯曲和对应内应力状态的精准调控,获取更准确的实验数据。

    一种源于石墨烯边缘的微纳结构扫描探针加工方法

    公开(公告)号:CN111060720B

    公开(公告)日:2021-09-28

    申请号:CN201911364182.X

    申请日:2019-12-26

    Abstract: 本发明公开一种源于石墨烯边缘的微纳结构扫描探针加工方法,应用于石墨烯微纳加工领域,针对现有技术不能完全满足对未来柔性器件的高可靠,高稳定和低成本的极限加工要求;本发明选用具有较强表面化学活性的探针作为加工工具,按照设定加工轨迹从石墨烯边缘向内部进行刻划加工,利用刻划加工过程中探针与石墨烯边缘碳原子之间的摩擦化学反应,在低于石墨烯机械破坏强度的低接触压力下去除接触区域碳原子,采用本发明方法加工的微纳结构的机械和电学性能与石墨烯基体一致。

    一种基于原子力显微镜的旋转样品台装置

    公开(公告)号:CN109917156B

    公开(公告)日:2020-07-10

    申请号:CN201910257419.8

    申请日:2019-04-01

    Abstract: 本发明公开一种基于原子力显微镜的旋转样品台装置,其包括:顶盖、薄环体、底座、销钉和弹簧片,底座固定于原子力显微镜置物台,多片薄环体与底座固定连接,顶盖与薄环体、底座形状配合,通过转动顶盖带动样品自由旋转,弹簧片依次拨过不同的凸齿,实现精确的小角度的转动,销钉、弹簧提供定位的辅助功能;该装置能够适用于原子力显微镜狭小低矮的样品放置空间,在尺寸、重量严格受限的情况下,给样品提供一个额外的旋转角度标尺,并具有自锁功能,在不影响显微镜正常工作的前提下,增添原子力显微镜的功能,拓展它的运用场合与研究范围。

    基于微悬臂投影的光电式加速度传感器

    公开(公告)号:CN106093469A

    公开(公告)日:2016-11-09

    申请号:CN201610382181.8

    申请日:2016-06-01

    CPC classification number: G01P15/093

    Abstract: 一种基于微悬臂投影的光电式加速度传感器,包括不透明的矩形壳体(9)、封装在矩形壳体(9)底部的芯片和矩形壳体(9)侧壁上部固定的光源(8);其中,所述的芯片依次由基底(1)、下绝缘材料层(2)、光敏材料层(3)、微悬臂结构层(5)组成;其特征在于:所述的微悬臂结构层(5)的中部和上绝缘材料层(4)的中部为贯通的矩形空腔;空腔内的矩形质量块(7a)通过条状的微悬梁(7b)连接在微悬臂结构层(5)的空腔壁上构成异形微悬臂;且矩形质量块(7a)在微悬梁(7b)方向的长度小于或等于矩形空腔在微悬梁(7b)方向的长度的1/2。其灵敏度高、分辨率高、响应快、可靠性强、寿命长;且结构简单,体积小,成本低,易于批量化生产。

    基于摩擦化学诱导刻蚀的单晶硅表面无损伤纳米加工方法

    公开(公告)号:CN103738912B

    公开(公告)日:2016-02-03

    申请号:CN201310733086.4

    申请日:2013-12-27

    Abstract: 一种基于摩擦化学诱导刻蚀的单晶硅表面无损伤纳米加工方法,主要应用于单晶硅表面纳米结构的加工。其具体操作方法是:先用湿法氧化的方法在单晶硅表面生长SiOx薄层,然后将生长有SiOx薄层的单晶硅取出清洗并固定在样品台上,然后将二氧化硅球形探针安装在扫描探针显微镜或多点接触微纳米加工设备上,启动设备,控制探针按设定的参数在样品表面进行扫描,再将样品置于KOH溶液与异丙醇的混合溶液中进行刻蚀加工,即可完成。该方法所用SiOx的掩膜制作简易,成本低廉;探针扫描过程中接触压力极低,不会引起单晶硅基底的屈服,加工得到的单晶硅纳米结构服役寿命长;湿法氧化所获得的SiOx薄层掩膜作用良好,可以提高加工深度。

    一种基于摩擦诱导的单晶石英表面选择性刻蚀方法

    公开(公告)号:CN101973507A

    公开(公告)日:2011-02-16

    申请号:CN201010222382.4

    申请日:2010-07-09

    Abstract: 一种基于摩擦诱导的单晶石英表面选择性刻蚀方法,其方法是:将尖端为球冠状的探针安装在原子力显微镜上,将单晶石英固定在样品台上,启动原子力显微镜,给探针施加定载荷F或者变载荷F′,F的值或F′的变化范围为石英表面发生屈服的临界载荷Fy的0.03-0.14倍,并使探针沿着设定的轨迹和循环次数在单晶石英表面进行扫描;扫描后,用浓度为15-25%的KOH溶液腐蚀2.5小时以上,即可。该方法在极低载荷下扫描结合后续腐蚀即可有效地进行纳米加工,不需要掩膜和多次腐蚀,可加工多级纳米结构。该方法不会对加工区域以外的结构和表面产生损伤和污染,是一种简单、精确、清洁的纳米级石英加工方法。

    一种滚滑复合运动试验球托

    公开(公告)号:CN220794938U

    公开(公告)日:2024-04-16

    申请号:CN202322355000.0

    申请日:2023-08-30

    Abstract: 本实用新型公开了一种滚滑复合运动试验球托,其包括球托套筒,球托套筒的两端均开口,球托套筒内活动设置有轴承钢球,轴承钢球的上端和下端伸出球托套筒的上端和下端;球托套筒上设置有保持架套筒,保持架套筒的下端开口、上端封口,且保持架套筒固定在球托套筒上,保持架套筒内设置有与轴承钢球上端接触的油浸多孔聚酰亚胺材质的第一摩擦副;保持架套筒的上端设置有与摩擦试验机传动连接连接件。本方案通过设计特定结构的球托,可以有效实现轴承钢球在其中的滚滑复合运动,同时完成上下两端的双点摩擦接触,很好地模拟了轴承钢球与保持架材料的实际运行工况,为研究轴承保持架的失效机制提供了很好的试验平台。

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