公开(公告)号：CN119550228A

公开(公告)日：2025-03-04

申请号：CN202411752658.8

申请日：2024-12-02

Applicant: 西南交通大学

Inventor： 韩艳君 ,  宋怡芮 ,  常迅川 ,  于孟欢 ,  白锦轩 ,  陈磊 ,  江亮 ,  钱林茂

IPC: B24B29/02 ,  B24B41/04 ,  B24B41/06

Abstract: 本发明提出了一种气液阵列射流辅助的浮动抛光装置和方法，涉及抛光设备技术领域。包括：基架上设置有抛光箱，抛光箱内设置有抛光盘，抛光盘的上端面呈同心圆设置多个环形凹槽，每个凹槽槽脊上设置一组环形射流孔，每个孔间有固定距离；抛光盘的上方设置有可浮动的样件夹持装置，该装置通过连杆和竖直通槽配合留有轴向自由度；抛光盘的下方设置射流装置；抛光箱内设置有底座，底座上固定转台，转台上连接旋转盘，抛光盘设置在旋转盘上，旋转盘存有凹陷部,上端与抛光盘连接形成射流腔，射流腔与加压装置连接，射流孔贯穿抛光盘与射流腔连通；与现有技术相比，其可实现粗抛光、精抛光和原子级抛光，大大降低抛光工作步骤、时间，并节约设备成本。