公开(公告)号：CN101549853A

公开(公告)日：2009-10-07

申请号：CN200910059272.8

申请日：2009-05-13

Applicant: 西南交通大学

Inventor： 钱林茂 ,  周仲荣 ,  余丙军 ,  余家欣

IPC: B82B3/00

Abstract: 一种基于摩擦诱导构造单晶硅纳米凸起结构的加工方法，在扫描探针显微镜上采用尖端部为球冠状的金刚石针尖为加工工具，对单晶硅材料表面进行扫描；金刚石针尖上施加的载荷为单晶硅材料表面发生破坏的临界理论载荷的0.02－1倍，即可在单晶硅材料表面加工形成线状或面状及其他复杂形状的凸起结构。该方法在实施过程中不需要外加电场，不需要对材料表面进行任何化学处理，对环境无污染；只要通过针尖对材料表面施加一定载荷，就可以在表面加工出纳米级凸起结构；加工过程简单；加工重复性好；凸起结构的机械稳定性好。加工中使用大曲率半径的针尖，并且所用的载荷小，针尖的使用寿命长。

公开(公告)号：CN101723318B

公开(公告)日：2013-02-13

申请号：CN200910216531.3

申请日：2009-12-03

Applicant: 西南交通大学

Inventor： 钱林茂 ,  周仲荣 ,  宋晨飞 ,  余丙军 ,  余家欣

IPC: B82B3/00

Abstract: 一种石英、玻璃材料表面的微纳米加工方法，其具体作法是：将尖端部为球冠状的探针安装在扫描探针显微镜上，将被加工的石英或玻璃材料固定在扫描探针显微镜的样品台上，启动扫描探针显微镜，给探针施加载荷F，该载荷F的值为根据赫兹接触公式计算出的被加工材料表面发生破坏的理论临界载荷值Fd0的0.03-0.5倍，并使探针沿着设定的轨迹在被加工材料表面进行刻划即可在被加工材料表面加工出纳米凸起结构。该方法操作简单，精度高，重复性好，可靠性高，且无污染、环保。

公开(公告)号：CN101973507B

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201010222382.4

申请日：2010-07-09

Applicant: 西南交通大学

Inventor： 钱林茂 ,  宋晨飞 ,  周仲荣 ,  余家欣 ,  余丙军 ,  陈磊

IPC: B81C1/00

Abstract: 一种基于摩擦诱导的单晶石英表面选择性刻蚀方法，其方法是：将尖端为球冠状的探针安装在原子力显微镜上，将单晶石英固定在样品台上，启动原子力显微镜，给探针施加定载荷F或者变载荷F′，F的值或F′的变化范围为石英表面发生屈服的临界载荷Fy的0.03-0.14倍，并使探针沿着设定的轨迹和循环次数在单晶石英表面进行扫描；扫描后，用浓度为15-25％的KOH溶液腐蚀2.5小时以上，即可。该方法在极低载荷下扫描结合后续腐蚀即可有效地进行纳米加工，不需要掩膜和多次腐蚀，可加工多级纳米结构。该方法不会对加工区域以外的结构和表面产生损伤和污染，是一种简单、精确、清洁的纳米级石英加工方法。

公开(公告)号：CN101549853B

公开(公告)日：2012-05-09

申请号：CN200910059272.8

申请日：2009-05-13

Applicant: 西南交通大学

Inventor： 钱林茂 ,  周仲荣 ,  余丙军 ,  余家欣

IPC: B82B3/00

Abstract: 一种基于摩擦诱导构造单晶硅纳米凸起结构的加工方法，在扫描探针显微镜上采用尖端部为球冠状的金刚石针尖为加工工具，对单晶硅材料表面进行扫描；金刚石针尖上施加的载荷为单晶硅材料表面发生破坏的临界理论载荷的0.02-1倍，即可在单晶硅材料表面加工形成线状或面状及其他复杂形状的凸起结构。该方法在实施过程中不需要外加电场，不需要对材料表面进行任何化学处理，对环境无污染；只要通过针尖对材料表面施加一定载荷，就可以在表面加工出纳米级凸起结构；加工过程简单；加工重复性好；凸起结构的机械稳定性好。加工中使用大曲率半径的针尖，并且所用的载荷小，针尖的使用寿命长。

公开(公告)号：CN101723318A

公开(公告)日：2010-06-09

申请号：CN200910216531.3

申请日：2009-12-03

Applicant: 西南交通大学

Inventor： 钱林茂 ,  周仲荣 ,  宋晨飞 ,  余丙军 ,  余家欣

IPC: B82B3/00

Abstract: 一种石英、玻璃材料表面的微纳米加工方法，其具体作法是：将尖端部为球冠状的探针安装在扫描探针显微镜上，将被加工的石英或玻璃材料固定在扫描探针显微镜的样品台上，启动扫描探针显微镜，给探针施加载荷F，该载荷F的值为根据赫兹接触公式计算出的被加工材料表面发生破坏的理论临界载荷值Fd0的0.03-0.5倍，并使探针沿着设定的轨迹在被加工材料表面进行刻划即可在被加工材料表面加工出纳米凸起结构。该方法操作简单，精度高，重复性好，可靠性高，且无污染、环保。

公开(公告)号：CN101973507A

公开(公告)日：2011-02-16

申请号：CN201010222382.4

申请日：2010-07-09

Applicant: 西南交通大学

Inventor： 钱林茂 ,  宋晨飞 ,  周仲荣 ,  余家欣 ,  余丙军 ,  陈磊

IPC: B81C1/00

Abstract: 一种基于摩擦诱导的单晶石英表面选择性刻蚀方法，其方法是：将尖端为球冠状的探针安装在原子力显微镜上，将单晶石英固定在样品台上，启动原子力显微镜，给探针施加定载荷F或者变载荷F′，F的值或F′的变化范围为石英表面发生屈服的临界载荷Fy的0.03-0.14倍，并使探针沿着设定的轨迹和循环次数在单晶石英表面进行扫描；扫描后，用浓度为15-25％的KOH溶液腐蚀2.5小时以上，即可。该方法在极低载荷下扫描结合后续腐蚀即可有效地进行纳米加工，不需要掩膜和多次腐蚀，可加工多级纳米结构。该方法不会对加工区域以外的结构和表面产生损伤和污染，是一种简单、精确、清洁的纳米级石英加工方法。