公开(公告)号：CN108496241A

公开(公告)日：2018-09-04

申请号：CN201680079797.6

申请日：2016-10-21

Applicant: 株式会社钢臂功科研

Inventor： 奥野博行 ,  中井淳一 ,  吉田慎太郎

IPC: H01L21/3205 ,  C23C14/14 ,  C23C14/34 ,  H01L21/28 ,  H01L21/285 ,  H01L21/768 ,  H01L23/532

CPC classification number: C23C14/14 ,  C23C14/34 ,  H01L21/28 ,  H01L21/285 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/768 ,  H01L23/532

Abstract: 提供一种布线结构，其特征在于，是在Al－Ta合金薄膜的至少表面和侧面的任意一方的面上形成有Al－Ta氧化膜的布线结构，所述Al－Ta合金薄膜的Ta添加量为0.3～3.0原子％，且Cu含量为0.03原子％以下，所述Al－Ta氧化膜的膜厚为3～10nm，并且，所述Al－Ta氧化膜中的Ta的原子％浓度比Al－Ta合金薄膜中的Ta的原子％浓度低。

公开(公告)号：CN107487069A

公开(公告)日：2017-12-19

申请号：CN201710299814.3

申请日：2017-04-28

Applicant: 株式会社钢臂功科研

Inventor： 宫田浩一 ,  筱田达昭 ,  福田正人

IPC: B41F15/36

CPC classification number: Y02P70/521 ,  B41F15/36

Abstract: 本发明提供一种通过蚀刻在轧制金属箔设置开口部的丝网印刷用网眼构件，该丝网印刷用网眼构件用于在印刷时印刷特性难以受到印刷条件的干扰的影响、即稳健性高的丝网印刷版。丝网印刷用网眼构件由金属箔构成，且多个开口部沿着一方向配置，在长度方向为一方向且在多个开口部的范围内、在与一方向交叉的方向上具有10μm以上且60μm以下的范围的宽度W的线图案中，线图案内的多个开口部的面积的标准偏差处于3.8W(μm)以上且(20W+10)(μm)以下的范围内。

公开(公告)号：CN104245623B

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201380019399.1

申请日：2013-04-10

Applicant: 株式会社钢臂功科研

Inventor： 武富雄一 ,  田尾幸树 ,  金丸守贺

IPC: C04B35/447 ,  C04B35/645 ,  C23C14/34 ,  H01M10/0562

CPC classification number: H01J37/3429 ,  C01D15/00 ,  C04B35/447 ,  C04B35/62605 ,  C04B35/645 ,  C04B2235/3203 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/658 ,  C04B2235/72 ,  C04B2235/76 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/786 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/81 ,  C23C14/3414 ,  H01J2237/332 ,  H01M10/052 ,  H01M10/0562

Abstract: 本发明提供一种不会发生靶的裂纹和异常放电，能够稳定地并以高的成膜速度成膜为作为二次电池等的固体电解质有用的含Li磷酸化合物薄膜，兼备高相对密度和微细的晶粒直径，并且抑制了气孔等缺陷(空隙)的含Li磷酸化合物烧结体。本发明的含Li磷酸化合物烧结体具有以下要旨：在烧结体内部的截面1mm2的区域中不存在50μm以上的缺陷，平均晶粒直径在15μm以下，相对密度在85％以上。

公开(公告)号：CN105579939A

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：CN201480052590.0

申请日：2014-09-22

Applicant: 株式会社神户制钢所 ,  株式会社钢臂功科研

Inventor： 后藤裕史 ,  越智元隆 ,  志田阳子 ,  奥野博行

IPC: G06F3/041 ,  B32B9/00 ,  H01B5/14

CPC classification number: G06F3/044 ,  B32B15/20 ,  B32B2307/412 ,  B32B2457/00 ,  B32B2457/202 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/165 ,  G02F1/13338 ,  G02F1/13439 ,  G06F2203/04103

Abstract: 本发明的电极具有从透明基板的相反侧(表面侧)开始依次为由透明导电膜构成的第1层、由Mo的氮化物或Mo合金的氮化物中的至少一种构成的第2层、以及由反射率为40％以上、透射率为10％以下的金属膜构成的第3层的层叠结构。

公开(公告)号：CN105246855A

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：CN201480030142.0

申请日：2014-11-28

Applicant: 株式会社钢臂功科研 ,  株式会社神户制钢所

Inventor： 田尾幸树 ,  广濑研太 ,  慈幸范洋 ,  越智元隆

IPC: C04B35/00 ,  C23C14/34

CPC classification number: H01J37/3429 ,  C04B35/01 ,  C04B35/453 ,  C04B35/457 ,  C04B35/645 ,  C04B37/026 ,  C04B2235/3284 ,  C04B2235/3286 ,  C04B2235/3293 ,  C04B2235/6562 ,  C04B2235/6567 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/786 ,  C04B2235/80 ,  C04B2237/12 ,  C04B2237/34 ,  C04B2237/407 ,  C23C14/086 ,  C23C14/3414 ,  H01J37/3491

Abstract: 本发明提供能够抑制结合工序中发生破损的氧化物烧结体、和使用该氧化物烧结体的溅射靶、以及其制造方法。本发明的氧化物烧结体是将氧化铟、氧化镓和氧化锡烧结而得到的氧化物烧结体，氧化物烧结体的相对密度为90％以上、氧化物烧结体的平均晶粒直径为10μm以下，将铟、镓、锡的含量相对于氧化物烧结体中所含全部金属元素的比例(原子％)分别设为[In]、[Ga]、[Sn]时，满足30原子％≤[In]≤50原子％、20原子％≤[Ga]≤30原子％、25原子％≤[Sn]≤45原子％，并且InGaO3相满足[InGaO3]≥0.05。

公开(公告)号：CN103154308B

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：CN201180048311.X

申请日：2011-10-05

Applicant: 株式会社神户制钢所 ,  株式会社钢臂功科研

Inventor： 松本克史 ,  高木胜寿 ,  武富雄一 ,  中井淳一 ,  莳野秀忠 ,  高木敏晃

IPC: C23C14/34 ,  B22F3/115 ,  B22F3/15 ,  B22F3/24 ,  C22C1/02 ,  C22C1/04 ,  C22C21/00 ,  C22F1/00

CPC classification number: C23C14/3414 ,  B22F3/115 ,  B22F3/15 ,  B22F3/24 ,  C22C1/0416 ,  C22C21/00 ,  C22F1/04 ,  C23C16/45504 ,  C23C16/4585 ,  C23C16/4586

Abstract: 本发明提供使用了溅射靶时的成膜速度(溅射速率)被提高、理想的是能够防止飞溅的发生的Al基合金溅射靶。本发明的Al基合金溅射靶含有Ta。优选的是含有Al及Ta的Al-Ta系金属间化合物的平均粒子直径为0.005μm以上且1.0μm以下，且Al-Ta系金属间化合物的平均粒子间距离满足0.01μm以上且10.0μm以下。

公开(公告)号：CN103348036B

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201180066834.7

申请日：2011-12-20

Applicant: 株式会社神户制钢所 ,  株式会社钢臂功科研

Inventor： 松本克史 ,  中井淳一 ,  高木敏晃

IPC: C23C14/34 ,  C22C9/00 ,  C22C21/00 ,  H01L21/28 ,  H01L21/285

CPC classification number: C23C14/3407 ,  C22C1/02 ,  C22C9/00 ,  C22C21/00 ,  C23C14/3414

Abstract: 在将距Al基合金或Cu基合金溅射靶的最表面1mm以内的深度的溅射面法线方向的结晶方位 ±15°、 ±15°、 ±15°、 ±15°及 ±15°的合计面积率设为P值时，满足下述（1）及/或（2）的要件，由此可提高预溅射时以及接着进行的向基板等的溅射时的成膜速度，且能够抑制飞溅等溅射不良。其中，（1）相对于所述P值的 ±15°的面积率PA：40%以下，（2）相对于所述P值的 ±15°和 ±15°的合计面积率PB：20%以上。

公开(公告)号：CN104411861A

公开(公告)日：2015-03-11

申请号：CN201380033320.0

申请日：2013-06-11

Applicant: 株式会社钢臂功科研

Inventor： 松村仁实 ,  中根靖夫

IPC: C23C14/34

CPC classification number: C23C14/3414 ,  C23C14/3407

Abstract: 一种具备溅射靶和背衬板及钎料，且溅射靶的背面经由钎料与背衬板接合的靶接合体。所述溅射靶，是含有Mn为2～30原子％的Cu-Mn合金，并且，所述钎料中存在的孔隙对溅射靶背面的投影面积的合计相以于溅射靶背面的接合区域全体的面积为16％以下。

公开(公告)号：CN102884437B

公开(公告)日：2015-02-04

申请号：CN201180023166.X

申请日：2011-05-10

Applicant: 株式会社神户制钢所 ,  株式会社钢臂功科研

Inventor： 平野贵之 ,  古保里隆

IPC: G01R1/067

CPC classification number: G01R1/06761 ,  G01R3/00 ,  G01R35/00

Abstract: 提供一种能够实现与被测器件(特别是被测器件中含有的Sn)的低附着性，并且能够长期保持稳定接触电阻的接触式探针和具有它的连接装置。本发明涉及一种与电极反复接触的接触式探针，其中，在与电极接触的所述接触式探针的表面，形成有含有金属元件的碳被膜，所述金属元素在碳被膜表面的浓度比碳被膜整体的平均浓度低。

公开(公告)号：CN104260215A

公开(公告)日：2015-01-07

申请号：CN201410436912.3

申请日：2011-02-23

Applicant: 株式会社钢臂功科研

Inventor： 吉川一男 ,  浦塚昭典 ,  家口浩 ,  古保里隆 ,  松岛义武

IPC: B28D5/04

CPC classification number: B23D61/185 ,  B23D65/00

Abstract: 本发明提供一种在钢丝的表面被覆有树脂的树脂被覆锯丝切断工件时，加工变质层深度浅，能够得到平滑的表面的切断体的树脂被覆锯丝的设计方法。(1)以规定的硬度的树脂被覆钢丝，(2)以所得到的树脂被覆锯丝切断工件，(3)调查工件的切断面的加工变质层深度，(4)确认加工变质层深度的合格与否，(5)不合格时，以更硬的树脂被覆钢丝，通过反复进行上述(2)～(4)，以使工件的切断面的加工变质层深度达到合格的方式调节树脂的硬度。